近日,，中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)微電子學(xué)院龍世兵教授課題組聯(lián)合中科院蘇州納米所加工平臺(tái)在氧化鎵功率電子器件領(lǐng)域取得重要進(jìn)展,，分別采用氧氣氛圍退火和N離子注入技術(shù)，首次研制出了氧化鎵垂直槽柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管,。

　　功率半導(dǎo)體器件是電力電子系統(tǒng)中的核心元件,，主要用于電力設(shè)備的電能變換和控制電路中的大功率,，應(yīng)用場(chǎng)景包括工業(yè)控制、可再生能源與新能源系統(tǒng),、電動(dòng)汽車(chē),、軌道交通等。隨著新能源汽車(chē)等行業(yè)的發(fā)展及其不斷提高的對(duì)電力系統(tǒng)控制能力的要求,，以及傳統(tǒng)的Si等半導(dǎo)體材料逐步接近物理極限,，氧化鎵作為新一代功率半導(dǎo)體材料，其禁帶寬帶大,、擊穿場(chǎng)強(qiáng)高,，有望在未來(lái)功率器件領(lǐng)域發(fā)揮重要的作用。另外,，氧化鎵半導(dǎo)體材料能夠采用熔體法生長(zhǎng),，未來(lái)在成本上將比SiC和GaN等材料更具優(yōu)勢(shì)。

        氧化鎵材料應(yīng)用難點(diǎn)

 ①難以實(shí)現(xiàn)氧化鎵的p型摻雜,，這導(dǎo)致氧化鎵場(chǎng)效應(yīng)晶體管面臨著增強(qiáng)型模式難以實(shí)現(xiàn)和功率品質(zhì)因數(shù)難以提升等問(wèn)題,。
       ②氧化鎵垂直場(chǎng)效應(yīng)晶體管適應(yīng)于制備高壓大電流器件，相較于制備水平結(jié)構(gòu)的MBE樣品,，其材料具有較低成本,。但氧化鎵垂直晶體管的若干種結(jié)構(gòu)中,，FinFET雖然性能較為優(yōu)異，但工藝難度大,，難以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn),。
      因此急需設(shè)計(jì)新結(jié)構(gòu)氧化鎵垂直型晶體管，攻克增強(qiáng)型晶體管所需要的電流阻擋層技術(shù)（Currentblocking layer）,，并運(yùn)用電流阻擋層制備出新設(shè)計(jì)的氧化鎵垂直柵槽晶體管,。

氧化鎵垂直槽柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管技術(shù)邏輯

該研究分別采用了氧氣氛圍退火和氮（N）離子注入工藝制備了器件的電流阻擋層，并配合柵槽刻蝕工藝研制出了不需P型摻雜技術(shù)的氧化鎵垂直溝槽場(chǎng)效應(yīng)晶體管結(jié)構(gòu),。氧氣氛圍退火和N離子注入所形成的電流阻擋層均能夠有效隔絕晶體管源,、漏極之間的電流路徑，當(dāng)施加正柵壓后,，會(huì)在柵槽側(cè)壁形成電子積累的導(dǎo)電通道,，實(shí)現(xiàn)對(duì)電流的調(diào)控。氧化鎵在氧氣氛圍退火能夠在表面形成補(bǔ)償型缺陷,，從而形成高阻層,。
       氧氣氛圍退火工藝是氧化鎵較為獨(dú)特的一種技術(shù)手段，這種方式的靈感來(lái)源于硅工藝的成功秘訣之一——半導(dǎo)體硅的氧氣氛圍退火,。類(lèi)似于硅在氧氣氛圍退火可形成高阻表面層,，氧化鎵采用該手段制備電流阻擋層（相比于離子注入）具有缺陷少、無(wú)擴(kuò)散,、成本低等特點(diǎn),。N離子注入MOSFET基于工業(yè)化高能離子注入設(shè)備，采用N離子注入摻雜工藝,，當(dāng)N注入濃度為5×1018cm-3時(shí),，制備的垂直槽柵MOSFET閾值電壓達(dá)到4.2V（@1A/cm2），飽和電流密度高達(dá)702.3A/cm2,，導(dǎo)通電阻10.4mΩ·cm2,。此外，通過(guò)調(diào)節(jié)N離子注入濃度,，器件的擊穿電壓可達(dá)到534V,，為目前電流阻擋層型氧化鎵MOSFET器件最高值，功率品質(zhì)因數(shù)超過(guò)了硅單極器件的理論極限,。兩項(xiàng)工作為氧化鎵晶體管找到了新的技術(shù)路線(xiàn)和結(jié)構(gòu)方案,。

　　圖1(a)氧化鎵垂直槽柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管結(jié)構(gòu)示意圖；(b)器件工作原理示意圖,；

(c)N離子注入晶體管的輸出曲線(xiàn),；(d)與已報(bào)道的氧化鎵垂直場(chǎng)效應(yīng)晶體管的性能比較。

　　該研究得到了國(guó)家自然科學(xué)基金,、中國(guó)科學(xué)院戰(zhàn)略性先導(dǎo)研究計(jì)劃,、中國(guó)科學(xué)院前沿科學(xué)重點(diǎn)研究計(jì)劃,、廣東省重點(diǎn)領(lǐng)域研究發(fā)展計(jì)劃及中國(guó)科學(xué)院微電子研究所微電子器件與集成技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開(kāi)放課題的資助，也得到了中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)微納研究與制造中心,、信息科學(xué)實(shí)驗(yàn)中心,、行星探索與前瞻性技術(shù)前沿科學(xué)中心，中國(guó)科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所納米加工平臺(tái),、納米真空互聯(lián)實(shí)驗(yàn)站（Nano-X）,，以及中科院納米器件與應(yīng)用重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的支持。相關(guān)研究成果分別以“Enhancement-modeβ-Ga2O3U-shaped gate trench vertical MOSFET realized by oxygen annealing”和“702.3 A·cm-2/10.4 mΩ·cm2Vertical β-Ga2O3U-Shape Trench Gate MOSFET with N-Ion Implantation”為題在線(xiàn)發(fā)表于Applied Physics Letters,、IEEE Electron Device Letters期刊,。文章的第一作者分別為中國(guó)科大博士生周選擇和馬永健，中國(guó)科大龍世兵教授,、徐光偉特任副研究員和蘇州納米所張曉東副研究員為共同通訊作者,。

　　APL論文鏈接：https://doi.org/10.1063/5.0130292

　　IEEE EDL論文鏈接：https://ieeexplore.ieee.org/document/10013743

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