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三星電子深化與蔡司在EUV光刻和先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備合作

2024-04-30
來(lái)源:IT之家

4 月 29 日消息,據(jù)三星官方新聞稿,,三星電子會(huì)長(zhǎng)李在镕于當(dāng)?shù)貢r(shí)間 26 日訪問(wèn)蔡司位于德國(guó)奧伯科亨的總部,,并于蔡司 CEO 卡爾?蘭普雷希特等就加強(qiáng)兩家公司的合作進(jìn)行了討論,。

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▲ 李在镕(中)、蘭普雷希特(左)與蔡司半導(dǎo)體制造技術(shù)部門(mén) CEO 安德烈亞斯?佩歇爾(右)在蔡司總部外合影留念,。圖源三星新聞稿,,下同

蔡司是 ASML EUV 光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的獨(dú)家供應(yīng)商,每臺(tái) EUV 光刻機(jī)中包含了三萬(wàn)多個(gè)由蔡司提供的組件,,蔡司還在 EUV 光刻技術(shù)領(lǐng)域擁有 2000 多項(xiàng)關(guān)鍵專利,。

多位負(fù)責(zé)半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)的三星電子高管也陪同李在镕進(jìn)行了此次訪問(wèn),包括 DS 部門(mén) CTO 的宋在赫和 DS 部門(mén)的制造與技術(shù)總裁南錫宇等,。

三星和蔡司管理層就雙方公司半導(dǎo)體技術(shù)主要趨勢(shì)和中長(zhǎng)期技術(shù)路線圖進(jìn)行了交流,。

未來(lái),三星電子和蔡司將進(jìn)一步擴(kuò)大雙方在 EUV 技術(shù)和先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備相關(guān)領(lǐng)域的合作,。

合作的深化有望在三星未來(lái)的半導(dǎo)體產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)性能增強(qiáng),、流程優(yōu)化、產(chǎn)能提升的成果,,最終提升三星半導(dǎo)體代工和存儲(chǔ)器業(yè)務(wù)的競(jìng)爭(zhēng)力,。

蔡司還計(jì)劃到 2026 年投資 480 億韓元(IT之家備注:當(dāng)前約 2.53 億元人民幣)在韓國(guó)建設(shè)研發(fā)中心,加強(qiáng)同三星等韓企的戰(zhàn)略合作,。

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▲ 李在镕(左二),、蘭普雷希特(右二)、佩歇爾(左一)在蔡司大型設(shè)備前合影留念

新聞稿中還提到,,三星電子計(jì)劃于年內(nèi)實(shí)現(xiàn) 1cnm(第六代 10nm 級(jí))內(nèi)存的量產(chǎn),,并正積極推廣 NPU 業(yè)務(wù)。


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