9 月 5 日消息,,據(jù)《韓國先驅(qū)報(bào)》報(bào)道,,三星電子 DS 部門存儲器業(yè)務(wù)總裁兼總經(jīng)理李禎培昨日在臺灣地區(qū)出席業(yè)界活動時(shí)展示了三星未來內(nèi)存產(chǎn)品路線圖,。
根據(jù) DDR 內(nèi)存路線圖,,三星計(jì)劃在 2024 年內(nèi)推出 1c nm 制程 DDR 內(nèi)存,該節(jié)點(diǎn)可提供 32Gb 顆粒容量產(chǎn)品,;而在 2026 年三星將推出其最后一代 10nm 級工藝 1d nm,,仍最大提供 32Gb 容量。
來到 2027 年,,三星將突入 10nm 以下級 DRAM 制程節(jié)點(diǎn),,發(fā)布 0a nm 工藝 DDR 內(nèi)存產(chǎn)品,同時(shí)該節(jié)點(diǎn)的內(nèi)存單顆粒容量也將來到更高的 48Gb,,即 6GB,。
此外對于 LPDDR 內(nèi)存,李禎培介紹了 LPDDR5-PIM(注:內(nèi)存內(nèi)處理)產(chǎn)品,。這一整合計(jì)算單元的存儲介質(zhì)可提升 70% 系統(tǒng)能效和最多 8 倍性能,。
而在 HBM 內(nèi)存路線圖上,三星電子明確其下下代產(chǎn)品 HBM4E 將于 2026 年推出,,與 SK 海力士的進(jìn)度相當(dāng),。
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