《電子技術(shù)應(yīng)用》
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詳解Intel 3D晶體管技術(shù)

2011-05-11

日前,Intel宣布在微處理器晶體管設(shè)計(jì)上取得了一項(xiàng)重大的突破,,沿用50多年的傳統(tǒng)2D硅晶體管將實(shí)現(xiàn)3D架構(gòu),,Intel將其命名Tri-Gate。

Intel正式公布3D晶體管技術(shù)
 
 
 
 
    其實(shí)早在2002年Intel即發(fā)現(xiàn)了這一技術(shù),,一直處于試驗(yàn)演示階段,,現(xiàn)在終于把它變成了現(xiàn)實(shí),,Intel打算把它融入到22nm的“Ivy Bridge”芯片,,Ivy Bridge晶體管的數(shù)量將達(dá)到10億,。
 
 
32nm二維晶體管與22nm三維晶體管對比
 
    3D Tri-Gate晶體管架構(gòu)能夠有效提高單位面積內(nèi)的晶體管數(shù)量,使得非常適合輕薄著稱的移動設(shè)備,,它將取代CPU領(lǐng)域現(xiàn)有的2D架構(gòu),,手機(jī)和消費(fèi)電子等移動領(lǐng)域都將應(yīng)用這一技術(shù)。
 
重大意義1:提高單位面積晶體管的數(shù)量
 
    Intel3D Tri-Gate晶體管機(jī)構(gòu)技術(shù)的實(shí)現(xiàn),,使得單位面積內(nèi)的晶體管數(shù)量得到極大的提高,,以往芯片受限于面積限制而無法設(shè)計(jì)更高性能的產(chǎn)品將不會存在了。
 
 
22nm 3D Tri-Gate實(shí)物圖
 
 
22nm 3D Tri-Gate晶體管模型圖
   
       3D Tri-Gate使用一個薄得不可思議的三維硅鰭片取代了傳統(tǒng)二維晶體管上的平面柵極,,形象地說就是從硅基底上站了起來,。硅鰭片的三個面都安排了一個柵極,其中兩側(cè)各一個,、頂面一個,,用于輔助電流控制,而2-D二維晶體管只在頂部有一個,。由于這些硅鰭片都是垂直的,晶體管可以更加緊密地靠在一起,,從而大大提高晶體管密度,。
 
 
3D Tri-Gate晶體管結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢
 
    這種設(shè)計(jì)可以在晶體管開啟狀態(tài)(高性能負(fù)載)時通過盡可能多的電流,同時在晶體管關(guān)閉狀態(tài)(節(jié)能)將電流降至幾乎為零,而且能在兩種狀態(tài)之間極速切換,。Intel還計(jì)劃今后繼續(xù)提高硅鰭片的高度,,從而獲得更高的性能和效率。
 
重大意義2:顯著提升供電效率,、降低能耗
 
    全新的3D Tri-Gate能夠提供同等性能的同時,,功耗降低一半。新的接口極大的減少了漏電率,。閾值電壓可以得到極大的降低,。
 
 
    晶體管工作在更低的電壓下,功耗也會得到顯著下降,,而我們關(guān)心的處理器的工作頻率也會得到相應(yīng)的提高,。
 
 
電壓降低0.2V
   
 
   相比現(xiàn)在的32nm制程,處理器電壓可降低0.2V,。
 
 
    即使在同等電壓下,,新的22nm 3D Tri-Gate晶體管架構(gòu)性能也可提升37%。

產(chǎn)品前景:加速移動處理芯片的步伐
 
    我們知道移動芯片嚴(yán)重的依賴功耗和體積,,Intel 3D Tri-Gate將會在未來應(yīng)用到這一領(lǐng)域,。
 
 
    相對于傳統(tǒng)的2D晶體管結(jié)構(gòu),晶體管的數(shù)量將得到極大提高,,我們印象中的嵌入式芯片的性能將媲美傳統(tǒng)處理器,。而移動設(shè)備的續(xù)航時間也會隨著芯片功耗的降低得到提高。
 
 
    在新的3D Tri-Gate晶體管架構(gòu)的帶動下,,移動設(shè)備將迎來新的黃金發(fā)展時期,,技術(shù)的更新速度將明顯加快,同時將會有越來越多的產(chǎn)品面世,,屆時整個行業(yè)將會出現(xiàn)欣欣向榮的局面,。
 
產(chǎn)業(yè)影響1:摩爾定律得到延續(xù)
 
    平面晶體管數(shù)量的提升只能純粹的依靠新的工藝,3D Tri-Gate技術(shù)的引入,,晶體管數(shù)量提升就變得非常容易了,,摩爾定律將會依舊成立。  
 
 
    從Intel這份路線圖上面我們可以看到不僅僅是22nm,,更新的14nm,,10nm技術(shù)也在不久的未來推出。
 
 
Tick-Tock成功延伸
 
    之前單鰭片晶體管,、多鰭片晶體管,、三柵極SRAM單元、三柵極后柵極(RMG)終于擺脫實(shí)驗(yàn),,步入了真實(shí)軌道,, Intel可將這一技術(shù)用于大批量的微處理器芯片生產(chǎn)流水線,,有效提高產(chǎn)品質(zhì)量和降低成本。
 
 
    “晶體管將變得更小,、更便宜也更加高效”,,摩爾定律也有望迎來新的發(fā)展篇章。
 
產(chǎn)業(yè)影響2:對ARM形成強(qiáng)有力的挑戰(zhàn)
  
        采用3D晶體管的英特爾芯片可能會給ARM構(gòu)成威脅,,畢竟ARM是現(xiàn)任移動市場的老大,。英特爾推出下一代芯片技術(shù),在微處理器裝上更多的晶體管,,并希望借此幫助公司掌握平板,、智能手機(jī)市場的話語權(quán)。按照英特爾的計(jì)劃,,2011年底將推出采用新技術(shù)的芯片,,提供給服務(wù)器和臺式機(jī)、筆記本,,它還會為移動設(shè)備開發(fā)新的處理器,。
 
  受新技術(shù)發(fā)布消息刺激,ARM的股價今天大跌7.3%,,在倫敦收于5.58英磅,。
 
  Matrix分析師阿德里安(Adrien Bommelaer)認(rèn)為,英特爾是否能迅速闖進(jìn)ARM的后院,,這還沒有定論,。他說:“英特爾顯然想跳出核心PC市場的范圍。關(guān)鍵問題是‘它們能推出一款處理器,,足夠強(qiáng)大,,可以在移動計(jì)算領(lǐng)域一爭高下嗎?’”“它們將推出新的芯片,,比上一代32納米芯片節(jié)能50%,,朝正確方向前進(jìn)了一大步,但是否足夠,?我不知道,。要知道ARM自己的能效也在進(jìn)步。” 
 
  據(jù)英特爾說22納米的芯片性能比現(xiàn)在的32納米芯片更高,。為了擴(kuò)大制程技術(shù)的優(yōu)勢,,趕上移動競賽,上個月英特爾將2011年資本開支提高到102億美元,,原定數(shù)額為90億美元,,目的是落實(shí)12納米制程的開發(fā)。
 
  在制程工藝上,,英特爾大大領(lǐng)先于其它芯片商,,它可以制造更快更高效的處理器,。
 
 
  自20世紀(jì)60年代以來,,英特爾和其它半導(dǎo)體企業(yè)投入數(shù)十億美元搞研發(fā),,每兩年讓芯片上的晶體管數(shù)量翻倍,從而方便產(chǎn)品進(jìn)入到更小更快的小電子產(chǎn)品中,。隨著時間的推進(jìn),,開發(fā)和使用先進(jìn)制程技術(shù)成本過高,許多企業(yè)無法負(fù)擔(dān),。但分析師說,,英特爾資金雄厚,能持續(xù)推進(jìn)制程發(fā)展,。
 
  花旗集團(tuán)分析師揚(yáng)(Glen Yeung)對英特爾的新技術(shù)表示贊揚(yáng),,將目標(biāo)價提高到了27美元,建議買入英特爾股票,。他認(rèn)為英特爾在芯片制造上有3-4年優(yōu)勢,,當(dāng)芯片閑置時,3D晶體管可以減少電流泄露,,當(dāng)芯片繁忙時它能運(yùn)行在更低的電壓下,。
 
下代Ivy Bridge將首次使用3D晶體管
 
    按照Intel的規(guī)劃,Ivy Bridge芯片將首次使用這一技術(shù),,之前我們關(guān)于Ivy Bridge介紹時提到芯片的架構(gòu)改變不大,。而現(xiàn)在Intel給Ivy Bridge注入3D Tri-Gate這一元素后,相信我們認(rèn)識的22nm版本“Sandy Bridge”將會獲得質(zhì)的飛躍,。
 
 
    22nm 3D Tri-Gate成功的實(shí)現(xiàn)了性能的飛躍,,同時功耗也得到極大降低,在晶體管關(guān)閉狀態(tài)將電流降至幾乎為零,,而且能在兩種狀態(tài)之間極速切換,。
 
 
    22nm的3D Tri-Gate晶體管立體結(jié)構(gòu)在單位面積承載更多的晶體管數(shù)量,助Ivy Bridge晶體管數(shù)量成功突破10億,。
 
 
    伴隨處理性能提升,,顯示性能的增強(qiáng),22nm Ivy Bridge無疑會成為Intel的劃時代意義的產(chǎn)品,,我們將拭目以待,。
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