1 引 言
隨著各種便攜式移動通信和計算產(chǎn)品的普及,對電池的需求大大加強,,但是電池技術(shù)發(fā)展相對落后,,降低電路的功耗成為IC設(shè)計關(guān)注的一個焦點;電路的功耗會全部轉(zhuǎn)換成熱能,過多的熱量會產(chǎn)生焦耳熱效應(yīng),,加劇硅失效,,導(dǎo)致可靠性下降,而快速散熱的要求又會導(dǎo)致封裝和制冷成本提高;同時功耗大將導(dǎo)致溫度高,,載流子速度飽和,,IC速度無法再提升;并且功耗降低,散熱減少,,也能減少對環(huán)境的影響,。因此,功耗已成為超大規(guī)模集成電路設(shè)計中除速度,,面積之外需要考慮的第三維度,。
傳統(tǒng)的帶隙電壓基準(zhǔn)源面積大、功耗大,、不適應(yīng)低功耗小面積的要求,。本文立足于低功耗,、小面積、利用工作于弱反型區(qū)晶體管的特點,,對傳統(tǒng)的帶隙電壓基準(zhǔn)源做出改進(jìn),,設(shè)計了一款最大消耗380 nA電流的電壓基準(zhǔn)源,大大減小了面積,,且與CMOS工藝兼容,,同時提出一種新的不耗電的啟動電路。本文先介紹傳統(tǒng)典型帶隙基準(zhǔn)電路的原理與功耗組成,,提出改進(jìn)電路結(jié)構(gòu),,并進(jìn)行分析,最后給出基于0.5μm CMOS工藝模型的仿真結(jié)果和測試結(jié)果,。
2 傳統(tǒng)帶隙電壓基準(zhǔn)源
傳統(tǒng)帶隙基準(zhǔn)源如圖1所示,。
由PTAT產(chǎn)生電路,負(fù)PTAT產(chǎn)生電路,,放大器,,加法器組成。原理是由Q1,,Q2兩個PNP三極管和電阻R3產(chǎn)生PTAT電流,,流過電阻R2產(chǎn)生PTAT電壓,再疊加上Q2的負(fù)PTAT電壓Vbe,,通過合理調(diào)整電阻R2和R3的比例產(chǎn)生與溫度無關(guān)的電壓基準(zhǔn),。運算放大器A是為了保證B,C兩點電壓相等,。
這種結(jié)構(gòu)需要三極管,、運算放大器以及若干電阻,面積比較大,。其工作時電流由3部分組成:Q1支路的集電極電流;Q2支路的集電極電路,,運算放大器A的工作電流。其中Q1,,Q2支路的電流為VTln N/R3,,其中VT=kT/q;q是電荷常量;k是波爾滋曼常數(shù);T是絕對溫度;N是三極管Q2與Q1的比值,通常為8,,同時要達(dá)到好的性能運算放大器的電流不能太小以使晶體管工作于飽和區(qū),。通常傳統(tǒng)帶隙電壓基準(zhǔn)源消耗電流不小于10μA。
3 弱反型區(qū)晶體管模型
本文利用了工作在弱反型區(qū)晶體管的特點,,對傳統(tǒng)帶隙電壓基準(zhǔn)電路進(jìn)行了改進(jìn),。工作在弱反型區(qū)的晶體管特性模型假設(shè):
(1)晶體管溝道長度足夠長,溝道長度近似成立,,并且溝道長度調(diào)制效應(yīng)可以忽略;
(2)空間電荷區(qū)的產(chǎn)生電流可以忽略;
(3)表面態(tài)密度和表面勢的波動可以忽略,。
在這些假設(shè)之下,工作在弱反型區(qū)的晶體管的I-V特性可以表示為:
ID0是特征電流;S是晶體管的寬長比;n是斜率因子;VG,,VS,,VD分別為晶體管柵、源,、漏端與襯底的電壓差,。當(dāng)晶體管由相同的VS電壓偏置時,斜率因子n是常數(shù),,ID0也可以認(rèn)為是常數(shù),。由式(1)可以看出,當(dāng)VD-VS》0時,,弱反型工作的MOS晶體管與三極管的直流傳輸特性一致,。
4 電路實現(xiàn)
圖2為本文改進(jìn)的電壓基準(zhǔn)源的原理示意圖。電壓基準(zhǔn)電路由3部分組成:啟動電路,、PTAT產(chǎn)生電路和輸出電路,。輸出電路包括電流放大和電壓疊加。
PTAT電路由M6-M13和R1構(gòu)成,,利用其工作在弱反型區(qū)晶體管的特點,,取代了傳統(tǒng)的三極管PTAT產(chǎn)生電路,且不需要運算放大器,,面積大大減小,,弱反型區(qū)晶體管特性令工作功耗大大降低。P型晶體管M6與M7組成第一對電流鏡,,增益為S7/S6,,N型晶體管M12與M13組成第二對電流鏡,增益為S12/S13,,只要2路電流足夠小,,電阻R1的影響就可以忽略,2路電流相等,。M6~M13組成一個閉合環(huán)路,,環(huán)路的增益為2組電流鏡增益的乘積。其中晶體管M6與M7的寬長比要足夠大,,工作在弱反型區(qū),,M12與M13溝道長度要足夠長,工作在飽和區(qū),。M8,,M9和M10,M11分別與M6,,M7和M12,,M13構(gòu)成共源共柵結(jié)構(gòu),,增大阻抗,提高基準(zhǔn)電壓源的電源抑制比,。環(huán)路的起始增益大于1令兩支路的電流增加,,直到平衡則增益降為1,電阻R1上的壓降為VR1,。根據(jù)公式(1),,VR1可以表示為:
則流過電阻R1的電流為:
由式(3)可以看出,電流IR只與晶體管寬長比,,電阻R1,,斜率因子n;波爾滋曼常數(shù)k,絕對溫度T有關(guān),,與電源電壓無關(guān),,是與溫度成正比的PTAT電流。
電壓基準(zhǔn)輸出電路由晶體管M14~M19,,以及電阻R2,,三極管Q1,電容C2組成,。M18與M19鏡像PTAT電流同時M15與M17鏡像M18,,M19支路的PTAT電流,組成電流放大,,采用共源共柵結(jié)構(gòu)是為了鏡像更準(zhǔn)確,。PTAT電流流過電阻R2,產(chǎn)生與溫度成正比的PTAT電壓,,此PTAT電壓和二極管方式連接的三極管Q1的Vbe電壓疊加,,產(chǎn)生與溫度無關(guān)的基準(zhǔn)電壓,電容C2是為了濾波,,降低噪聲,。
其中Eg為硅的帶隙能量;m為遷移率的溫度系數(shù)常數(shù)。
將式(7)代入(6)可以看出,,只要合理設(shè)置晶體管的寬長比和電阻R2,,R1的比值就可以得到與溫度無關(guān)的基準(zhǔn)電壓。
由于電壓基準(zhǔn)源電路存在2個電路平衡點,,零點和正常工作點,。當(dāng)基準(zhǔn)源工作在零點時,晶體管M8,,M9柵源電壓為高,,M10,M11管柵源電壓為低,PTAT電路沒有電流產(chǎn)生,,啟動電路就是避免電壓基準(zhǔn)工作在零點上,。本文提出的啟動電路的最大特點是不耗電,它由晶體管M1~M5以及電容C1組成,。當(dāng)電源電壓為低時,,若電容C1上存有電荷,,則M3導(dǎo)通,,將電荷放完,等電源電壓為高時,,M1,,M2導(dǎo)通,流過M2的瞬間大電流迅速將M5打開,,同時將M8,,M9的柵電位拉低導(dǎo)通,產(chǎn)生PTAT電流,,電路正常工作,,當(dāng)M12,,M13柵壓升高時,,M4導(dǎo)通,將M5柵壓拉低,,啟動電路停止工作,,幾乎不消耗電流,,達(dá)到了低功耗的目的。啟動時間由M2管子的大小和電容C1決定,。電壓基準(zhǔn)的啟動電路仿真結(jié)果如圖3所示,,啟動時間只要50μs,啟動之后只要消耗82 pA的電流,。若沒有M3,,電容C1上可能存在電荷沒有放完,再次啟動時有啟動不了的可能,。
5 版圖及測試結(jié)果
本文介紹的電壓基準(zhǔn)源采用CSMC 0.5 μm,,兩層POLY,一層金屬的CMOS工藝實現(xiàn),,已經(jīng)成功流片,。該工藝的閾值電壓分別為N管0.87 V,P管-0.97 V,。由于產(chǎn)生PTAT電流的2個P型管存在失調(diào)會導(dǎo)致2支路不平衡,,版圖匹配技術(shù)可以減少失調(diào),在版圖中可以增加虛擬晶體管使匹配晶體管間的環(huán)境相同來減少失調(diào),,同時,,晶體管M7要在一個獨立的N阱中,,使與M6的偏置條件一樣來減少失調(diào)。二極管可以用CMOS工藝中寄生的PNP三極管實現(xiàn),,N阱中的P+區(qū)作為發(fā)射區(qū),,N阱本身作為基區(qū),P型稱底作為集電區(qū),,電阻采用具有負(fù)溫度系數(shù)的高阻POLY2電阻,,方塊阻值為2 kΩ/□,節(jié)省面積,。電壓基準(zhǔn)的版圖如圖4所示,,版圖面積為:490μm×75μm-0.036 75 mm2。
圖5是不同溫度下輸入電源電壓與輸出基準(zhǔn)電壓的關(guān)系圖,。當(dāng)電源電壓大于2.5 V時,,電壓基準(zhǔn)電路開始正常工作,由于用了共源共柵結(jié)構(gòu)來提高電源抑止比,,最小輸入電壓降不下去,。在測量的80顆芯片中,輸出電壓的平均值為1.211 V,,最小值為1.172 V,,最大值為1.244 V,與仿真結(jié)果1.251 V相近,,誤差主要來自三極管模型的誤差以及PTAT支路匹配管的失調(diào),。在2.5~6 V的工作電壓范圍內(nèi),測得的線性電壓調(diào)整率平均值為0.025%,,最小值為0.021%,,最大值為0.042%。
圖6是不同溫度下電壓基準(zhǔn)電路消耗電流與電源電壓的關(guān)系,。電壓基準(zhǔn)電路在正常工作時消耗電流與電源電壓無關(guān),,與溫度成比例。在20~100℃之間,,室溫下工作時消耗電流小于250 nA,,100℃時工作電流不超過380 nA,與仿真結(jié)果吻合,。在6 V工作電壓下,,最大功耗不超過2.28μW。
圖7是芯片的輸出電壓與溫度的關(guān)系圖?;鶞?zhǔn)電壓溫度系數(shù)的漂移受工藝參數(shù)的影響,,如負(fù)溫度特性三極管的Vbe溫度系數(shù)在圓片不同位置,不同lot中的變化,,PTAT匹配晶體管版圖上的失調(diào)等,。在測試的80顆芯片中,溫度在20~100℃之間變化時,,溫度系數(shù)在50 ppm/℃以下的有43顆,,50~100 ppm/℃的有34顆,100~150 ppm的有4顆,。
6 結(jié) 語
測試結(jié)果表明,,電源電壓由2.5~6 V變化時,,線性調(diào)整率平均為0.025%,,溫度在20~100℃之間變化時,測得的平均溫度系數(shù)是64 ppm/℃,。但是該電壓基準(zhǔn)電路由于采用了共源共柵結(jié)構(gòu),,最小工作電壓2.5 V有點偏高,采用低壓共源共柵結(jié)構(gòu)將會獲得更優(yōu)的性能,。