文獻(xiàn)標(biāo)識碼: A
文章編號: 0258-7998(2014)12-0069-03
0 引言
基準(zhǔn)源在模擬和混合集成電路中應(yīng)用非常廣泛,,如電源管理芯片,、A/D與D/A轉(zhuǎn)換器和鎖相環(huán)等電路中[1]。理想的電壓基準(zhǔn)是一個(gè)與溫度,、電源電壓和負(fù)載無關(guān)的量,,為系統(tǒng)提供精確的基準(zhǔn)參考量,其精度和穩(wěn)定性直接決定整個(gè)系統(tǒng)的性能,。目前在集成電路中,,有3種常用的基準(zhǔn)源:掩埋齊納(Zener)基準(zhǔn)源、XFET 基準(zhǔn)源和帶隙(Bandgap)基準(zhǔn)源[2],。
隨著片上系統(tǒng)(SoC)的迅速發(fā)展,系統(tǒng)要求模擬集成模塊能兼容標(biāo)準(zhǔn)CMOS 工藝, 因此帶隙基準(zhǔn)源得到了廣泛的研究與應(yīng)用,。伴隨CMOS工藝特征尺寸不斷縮小,芯片的最小工作電壓也在不斷降低,,由于硅材料的帶隙電壓為1.2 V,,當(dāng)電源電壓低于1.2 V時(shí),電路顯然無法正常工作,,因此亞閾值CMOS電壓基準(zhǔn)源成為近幾年的研究熱點(diǎn),,以滿足芯片面積減少和低壓低功耗的需求[3-5]。
基于利用亞閾值CMOS管的工作特性實(shí)現(xiàn)對三級管VBE電壓負(fù)溫度系數(shù)進(jìn)行正溫度補(bǔ)償的原理,,本文提出了一種使用6級亞閾值CMOS管搭建的緩沖運(yùn)放實(shí)現(xiàn)溫度補(bǔ)償?shù)幕鶞?zhǔn)源結(jié)構(gòu),,輸出1 V基準(zhǔn)電壓,并能獲得高精度和低功耗的良好性能,。
1 基準(zhǔn)源結(jié)構(gòu)與原理分析
1.1 基準(zhǔn)源結(jié)構(gòu)
如圖1所示為所提出的基準(zhǔn)源結(jié)構(gòu)圖,,主要包括負(fù)溫度系數(shù)電壓產(chǎn)生部分和正溫度系數(shù)電壓補(bǔ)償部分:M1、M2,、N1,、R1,、R2和運(yùn)放OPA共同組成負(fù)溫度系數(shù)電壓產(chǎn)生部分,OPA用于提高負(fù)溫度系數(shù)電壓驅(qū)動(dòng)能力,,調(diào)節(jié)R1和R2的比例可以調(diào)整負(fù)溫度系數(shù)電壓VBEIN大?。籔TC為正溫度系數(shù)電壓補(bǔ)償部分,。外圍啟動(dòng)電路在電源上電時(shí)驅(qū)動(dòng)基準(zhǔn)源使其擺脫“簡并”的零偏置點(diǎn),,當(dāng)電路正常工作后,啟動(dòng)電路會(huì)與基準(zhǔn)源斷開,,避免影響其正常工作或使電路的性能變壞[6],。偏置電路為整個(gè)基準(zhǔn)源提供必需的電壓偏置IBIASP,EN_REF為控制基準(zhǔn)源的使能信號,。
該基準(zhǔn)源的工作方式是:負(fù)溫度系數(shù)電壓產(chǎn)生部分輸出信號VBEIN,,經(jīng)過PTC進(jìn)行正溫度補(bǔ)償后,輸出基準(zhǔn)信號VREF,。
圖2所示為所提出的正溫度系數(shù)電壓補(bǔ)償部分PTC的結(jié)構(gòu)示意圖,,它由6級PTCCORE逐級實(shí)現(xiàn)所需的正溫度補(bǔ)償系數(shù)。
圖3所示為負(fù)溫度系數(shù)電壓提供電壓驅(qū)動(dòng)能力的經(jīng)典單級折疊Cascode運(yùn)放電路原理圖,,M1和M2為運(yùn)放輸入對管,,INP和INN分別為運(yùn)放正負(fù)兩個(gè)輸入端口,OUT為運(yùn)放輸出,。
1.2 原理分析
1.2.1 PTCCORE原理分析
圖4所示為正溫度系數(shù)電壓補(bǔ)償部分PTC的核心單元PTCCORE電路原理圖,,可簡單看作一個(gè)單位增益負(fù)反饋的緩沖器運(yùn)放。M1和M2串聯(lián)與M3構(gòu)成工作在亞閾值區(qū)的緩沖器運(yùn)放輸入對管,,尺寸之比為1/2:2,;M4和M5為輸入對管的電流鏡負(fù)載,流過電流之比為4:1,。
根據(jù)亞閾值區(qū)MOS管的I-V指數(shù)特性,,M1和M2流過的電流I1及M3流過的電流I2均與各自的柵源電壓VGS成指數(shù)關(guān)系,其I-V曲線特性符合指數(shù)關(guān)系,,因此流過一定比例電流且尺寸不同的M1,、M2管和M3管產(chǎn)生的失調(diào)電壓ΔVGS與溫度成正比關(guān)系,即輸出信號PTCOUT對輸入信號PTCIN能實(shí)現(xiàn)一定程度的正溫度補(bǔ)償,,逐級迭代補(bǔ)償,,最終獲得零溫度系數(shù)基準(zhǔn)電壓VREF。
上述公式中:I,、I1,、I2為圖4中相應(yīng)支路電流;VPTCIN和VPTCOUT為PTCCORE輸入/輸出節(jié)點(diǎn)電壓;VGSM1和VGSM3分別為M1和M3的柵源電壓,;VG(M1)和VG(M3)分別為M1和M3的柵級電壓,。W和L是MOS管的寬和長;VT是MOS管的熱電壓,;ID0是橫向三極管的飽和電流,與工藝有關(guān),;n是亞閾值斜率因子,,用以描述柵極電壓在柵氧化層電容與耗盡區(qū)電容之間分壓關(guān)系的一個(gè)參量[7]。
1.2.2 基準(zhǔn)源原理分析
根據(jù)圖1所示為所提出基準(zhǔn)源的整體結(jié)構(gòu):
VBE1=VBE2=VBE(4)
經(jīng)電阻R1和R2分壓得到:
式中,,VBE是三極管基極和發(fā)射極間電壓差,;R1和R2是分壓電阻值;K是波爾茲曼常數(shù),;q是電荷量,。選擇合適的參數(shù),將式(7)中VT和VBE的溫度系數(shù)抵消,,即可得到零溫度系數(shù)的基準(zhǔn)電壓VREF,。
2 基準(zhǔn)源仿真驗(yàn)證
2.1 仿真驗(yàn)證
上述第1節(jié)中所提出的基準(zhǔn)源在中芯國際SMIC 0.18 ?滋m CMOS工藝平臺電路實(shí)現(xiàn)并流片。
2.2 VBEIN負(fù)溫度系數(shù)仿真
仿真內(nèi)容:設(shè)置電源電壓為1.8 V,,溫度從-40 ℃~125 ℃線性變化,,直流掃描負(fù)溫度系數(shù)電壓產(chǎn)生部分輸出信號VBEIN的溫度系數(shù)。
仿真結(jié)果:圖5所示為直流掃描VBEIN仿真結(jié)果,,VBEIN為負(fù)溫度系數(shù)電壓,,全溫區(qū)變化幅度為224 mV,溫度系數(shù)為-1.35 mV/℃,。
2.3 PTCCORE正溫度系數(shù)仿真
仿真內(nèi)容:設(shè)置溫度從-40 ℃~125 ℃線性變化,,給PTCCORE提供450 mV輸入電平,直流掃描PTCCORE輸出電壓的溫度系數(shù),。
仿真結(jié)果:如圖6所示為直流掃描PTCCORE仿真結(jié)果,,PTCIN為450 mV輸入信號,PTCOUT為輸出正溫度系數(shù)電壓,,全溫區(qū)變化幅度36 mV,,溫度系數(shù)約為+0.22 mV/℃。
2.4 基準(zhǔn)源整體仿真
仿真分析:根據(jù)2.2和2.3小節(jié)仿真結(jié)果所示,,6級PTCCORE得到的正溫度系數(shù)與VBEIN的負(fù)溫度系數(shù)基本可以抵消,,從而得到零溫度系數(shù)輸出基準(zhǔn)電壓VREF。
仿真內(nèi)容:設(shè)置溫度從-40 ℃~125 ℃變化,,直流掃描6級PTCCORE輸出電壓的溫度系數(shù),。
仿真結(jié)果:如圖7所示為直流掃描6級PTCCORE輸入/輸出信號仿真結(jié)果,VBEIN為PTC輸入負(fù)溫度系數(shù)電壓;netA,、netB,、netC、netD和netE分別為第1級~第5級PTCCORE的輸出信號,,對VBEIN逐級進(jìn)行正溫度補(bǔ)償,;VREF為最后一級輸出1 V的零溫度系數(shù)電壓。
如圖8所示為直流掃描輸出信號VREF溫度系數(shù)仿真結(jié)果:全溫區(qū)變化幅度0.95 mV,。
該基準(zhǔn)源版圖實(shí)現(xiàn)面積為220 m×110 m,。
綜上,所提出的基準(zhǔn)源工作電壓為1.8 V,,典型條件下功耗為4.5 ?滋A,,-40 ℃~125 ℃全溫區(qū)范圍內(nèi),基準(zhǔn)電壓VREF變化小于1 mV,,可實(shí)現(xiàn)良好的溫度性能,,版圖面積小于0.025 mm2。
3 結(jié)論
溫度補(bǔ)償是保證基準(zhǔn)源精度的最關(guān)鍵環(huán)節(jié),,本文基于利用亞閾值CMOS管工作特性實(shí)現(xiàn)對三級管VBE電壓負(fù)溫度系數(shù)補(bǔ)償?shù)脑?,提出了一種使用6級PTCCORE進(jìn)行正溫度補(bǔ)償?shù)母呔鹊凸幕鶞?zhǔn)源。該基準(zhǔn)源可以獲得1 V的基準(zhǔn)電壓,,全溫區(qū)變化范圍小于1 mV,,因此對其補(bǔ)償策略的研究是非常有意義的;但該基準(zhǔn)源仍存在一些有待進(jìn)一步深入探討的地方,,例如圖8所示的VREF曲線顯示出高階補(bǔ)償影響因子的作用力,,這與亞閾值器件模型緊密相關(guān),是今后需努力深入研究的方向,。
參考文獻(xiàn)
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