《電子技術(shù)應(yīng)用》
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新型功能材料成功集成至硅芯片

2016-07-25

  美國北卡羅來納州立大學(xué)21日發(fā)布新聞公報(bào)稱,,該校研究人員與美國陸軍研究辦公室合作開發(fā)出一種新方法,可將多鐵性材料等新型功能材料集成至計(jì)算機(jī)芯片上,。這一方法將有助于未來制造出更輕巧,、智能的電子設(shè)備和系統(tǒng),。

  一些新型功能材料,如具有鐵電和鐵磁性質(zhì)的多鐵性材料,、表面有導(dǎo)電性能的拓?fù)浣^緣體及新型鐵電材料等,,在傳感器、非易失性存儲(chǔ)器及微機(jī)電領(lǐng)域有很好的應(yīng)用前景,。但這些材料目前面臨的一個(gè)難題是,,至今它們都不能被集成到硅芯片上。

  此次,,美國研究人員開發(fā)出一種被稱為“薄膜外延法”的新方法,。他們設(shè)計(jì)了兩種可與硅兼容的板層——氮化鈦板層和釔穩(wěn)定氧化鋯板層,作為連接新功能材料與不同電子產(chǎn)品硅芯片的底層基質(zhì)(平臺(tái)),,然后利用其開發(fā)的一套緩沖薄膜,,將功能材料與硅芯片集成在一起。這些薄膜一面與新型功能材料的晶體結(jié)構(gòu)結(jié)合,,另一面與底層基質(zhì)結(jié)合,,從而起到有效的連接作用。研究人員稱,,集成的功能材料不同,,所使用的薄膜組合也不同。比如,,集成多鐵性材料會(huì)使用氮化鈦,、氧化鎂、氧化鍶和鑭鍶錳氧化物這4種類型的薄膜組合,;而集成拓?fù)浣^緣體則僅會(huì)使用氧化鎂和氮化鈦兩種薄膜,。

  研究人員表示,將新型功能材料與硅芯片集成,,會(huì)使很多過去認(rèn)為不可能的事成為可能,。如僅用一個(gè)緊湊的芯片即可完成數(shù)據(jù)探測、采集,、處理任務(wù),,這有助于設(shè)計(jì)出更高效、輕巧的設(shè)備,。此外,,有了這一方法,還可克服目前發(fā)光二極管(LED)所用藍(lán)寶石襯底無法與計(jì)算機(jī)設(shè)備兼容的難題,,在芯片上創(chuàng)建LED,,設(shè)計(jì)出“智能燈”。

  新聞公報(bào)中稱,,研究人員已為此項(xiàng)集成技術(shù)申請了專利,。相關(guān)研究成果刊發(fā)在《應(yīng)用物理評論》期刊上,。

  硅芯片制造工藝正逼近物理極限,為滿足摩爾定律增長要求,,要么尋找全新材料替代硅——石墨烯,、二硫化鉬或者單原子層鍺,要么創(chuàng)新方法來拓展硅芯片的能力——將更符合要求的新材料高效集成在硅襯底上,。相較而言,,完全替代原有技術(shù)路線,不僅需要大量資金投入,,產(chǎn)業(yè)充分競爭和協(xié)作也必不可少,;在成熟技術(shù)上深部挖潛,成本雖然低很多,,卻難以帶來翻天覆地的全新業(yè)態(tài),。好在科技進(jìn)步不同于政治更迭,革命派和改良派都值得充分尊重,。


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