《電子技術(shù)應(yīng)用》
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ASML推進(jìn)EUV 影響整個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)

2017-04-06

據(jù)相關(guān)機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì),整個(gè)2016年,,ASML銷售了139臺(tái)光刻機(jī)。在半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的市場(chǎng)份額在58%左右,,其他的對(duì)手包括尼康,佳能等,。

ASML推進(jìn)EUV 影響整個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)

當(dāng)然了,,半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)最大的故事是下一代光刻機(jī)——EUV,ASML在這方面是毫無(wú)疑問(wèn)的霸主,,其極紫外光刻機(jī)去年銷售了四臺(tái),,單臺(tái)的平均售價(jià)達(dá)1.1億美元,最新EUV有望在未來(lái)幾年成為主流,。

隨著半導(dǎo)體制程工藝演變,,工藝推進(jìn)的成本也越來(lái)越高,如今能負(fù)擔(dān)起最新制程研發(fā)的基本只剩四家:GlobalFoundries,,Intel,,三星和臺(tái)積電。這幾家公司采購(gòu)新一代光刻機(jī)的計(jì)劃對(duì)整個(gè)行業(yè)的推動(dòng)都極為重要,,接下來(lái)幾代制程工藝極紫外光刻機(jī)是核心,,Intel,三星,,臺(tái)積電都曾對(duì)ASML投資以支持其產(chǎn)品研發(fā),。

三星計(jì)劃在2018年利用EUV實(shí)現(xiàn)7nm工藝;臺(tái)積電今年已經(jīng)加快了7nm步伐,,將在今年二季度測(cè)試EUV,,計(jì)劃2019年進(jìn)入5nm制程;Intel將在2020年進(jìn)入7nm,;GlobalFoundries將在2018年生產(chǎn)7nm芯片,,2020年用到EUV。ASML曾在1月表示公司2018年的首批訂單已經(jīng)到手,可見(jiàn)需求量之巨大,。

誰(shuí)會(huì)受傷,?

由于成本技術(shù)原因,ASML的對(duì)手尼康,,佳能在高端光刻機(jī)上競(jìng)爭(zhēng)力明顯不足,,但在中端產(chǎn)品市場(chǎng)仍有一定份額,。置購(gòu)成本(Cost of Ownership)是衡量購(gòu)買(mǎi)哪個(gè)系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵指標(biāo),,從尼康和佳能的CoO數(shù)據(jù)可以看出,影響置購(gòu)成本的因素有很多,,不僅包括設(shè)備,,還包括材料等等。

ASML推進(jìn)EUV 影響整個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)

ASML推進(jìn)EUV 影響整個(gè)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)

EUV的大獲成功對(duì)尼康和佳能肯定都不是一件好事,。更重要的是,,對(duì)整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的供應(yīng)也會(huì)有巨大影響,包括其他設(shè)備,,材料等方面,,最容易受影響的可能就是AMAT,LRCX和PLAB這些上一代光刻設(shè)備生產(chǎn)廠家,。


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