極紫外光（EUV）微影設(shè)備無疑是半導(dǎo)體制程推向3nm的重大利器,。這項(xiàng)每臺(tái)要價(jià)高達(dá)逾近億美元的尖端設(shè)備,，由荷商ASML獨(dú)家生產(chǎn)供應(yīng)，目前主要買家全球僅臺(tái)積電,、三星,、英特爾及格羅方德等大廠為主。

EUV設(shè)備賣價(jià)極高,，原因是開發(fā)成本高,，因此早期ASML為了分?jǐn)傞_發(fā)風(fēng)險(xiǎn)，還特別邀請(qǐng)臺(tái)積電,、三星和英特爾三大廠入股,，但隨著開發(fā)完成，臺(tái)積電后來全數(shù)出脫艾司摩爾股票,，也獲利豐碩,。

有別于過去半導(dǎo)體采用浸潤式曝光機(jī)，是在光源與晶圓中間加入水的原理,，使波長縮短到193/132nm的微影技術(shù),，EUV微影設(shè)備是利用波長極短的紫外線，在硅晶圓上刻出更微細(xì)的電路圖案,。

ASML目前EUV年產(chǎn)能為12臺(tái),，預(yù)定明年擴(kuò)增至24臺(tái)。該公司宣布2017年的訂單已全數(shù)到手,，且連同先前一,、二臺(tái)產(chǎn)品，已出貨超過20臺(tái),；2018年的訂單也陸續(xù)到手,，推升ASML第2季營收達(dá)到21億歐元單季新高，季增21%,，每股純益1.08歐元,，股價(jià)也寫下歷史新高,。

因設(shè)備昂貴，且多應(yīng)用在7nm以下制程,，因此目前有能力采購者,，以三星、臺(tái)積電,、英特爾和格羅方德為主要買家,。三星目前也是最大買主，估計(jì)采購逾十臺(tái),，將裝設(shè)于南韓華城的18號(hào)生產(chǎn)線（Line18）全力搶占晶圓代工版圖,。

由于極紫外光可大幅降低晶圓制造的光罩?jǐn)?shù)，縮短芯片制程流程,，是晶圓制造邁入更先進(jìn)的利器,。

在三星決定7nm率先導(dǎo)入EUV后，讓EUV輸出率獲得快速提升,，臺(tái)積電決定在7nm強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)定案，5nm才決定全數(shù)導(dǎo)入,。