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2017年半導(dǎo)體市場(chǎng)資本支出再創(chuàng)歷史新高

2017-09-05
關(guān)鍵詞: 英特爾 東芝 半導(dǎo)體 DRAM

IC Insights預(yù)測(cè),,繼今年上半年半導(dǎo)體資本支出大幅增長(zhǎng)后,全年半導(dǎo)體資本支出預(yù)期上調(diào)至809億美元,,比去年同期增長(zhǎng)20%,,且高于預(yù)期資本支出53億美元,堪稱歷史最高,。

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圖1

如圖1所示,,2017年為資本支出貢獻(xiàn)最大的為晶圓代工廠(28%)和閃存(24%)。隨著2016年第三季度以來(lái)DRAM價(jià)格的飆升,,DRAM制造商將再次加大在這一領(lǐng)域的支出,。預(yù)計(jì)到2017年,DRAM / SRAM的增長(zhǎng)將達(dá)到53%,,有望成為今年資本支出增長(zhǎng)的最大百分比,。經(jīng)分析,大部分資本支出仍在升級(jí)技術(shù)方面,,但DRAM生產(chǎn)商SK Hynix分析稱,,不單單投入在技術(shù)升級(jí),更花費(fèi)在產(chǎn)能提高上,。

即使是今年支出激增,,2017年閃存(190億美元)的資本支出仍將遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于DRAM / SRAM(130億美元)。IC Insights認(rèn)為,,2017年閃存的所有支出都將用于3D NAND工藝技術(shù)改良,,包括三星電子在韓國(guó)平澤掀起的3D NAND熱浪。

總體而言,,預(yù)計(jì)在2016年強(qiáng)勁增長(zhǎng)23%之后,,閃存的資本支出將在2017年實(shí)現(xiàn)33%的增長(zhǎng)。然而,,歷史先例表明,,資本支出的激增通常會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)能過(guò)剩和定價(jià)疲軟。在未來(lái)幾年里,,與三星,、海力士、微軟,、英特爾,、東芝、西部數(shù)據(jù)、SanDisk和武漢新芯/長(zhǎng)江存儲(chǔ)技術(shù)有關(guān)的3D NAND閃存容量將有大幅度提升,,而且新的中國(guó)生產(chǎn)商可能會(huì)進(jìn)入市場(chǎng),,IC Insights認(rèn)為未來(lái)隨著3D NAND 閃存市場(chǎng)需求的增長(zhǎng)加大,也將會(huì)面臨更大風(fēng)險(xiǎn)


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