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Intel 18A工藝良率已超越三星2nm

2025-07-14
來源:IT之家

7月14日消息,據(jù)報(bào)道,KeyBanc Capital Markets的分析報(bào)告顯示,Intel 18A工藝的良率已從上一季度的50%提升至55%,與競爭對(duì)手的對(duì)比中脫穎而出。

相比之下,三星2nm工藝(SF2)目前的良率大約在40%左右,而Intel 18A工藝的良率已經(jīng)超越了三星2nm。

雖然仍低于臺(tái)積電N2的65%,但已具備Q4 2025量產(chǎn)(HVM)條件,屆時(shí)其良率有望進(jìn)一步提升至70%,這將為Intel下一代移動(dòng)CPU的生產(chǎn)提供有力支持。

雖然Intel的良率預(yù)計(jì)不會(huì)超越臺(tái)積電,但擁有一個(gè)功能強(qiáng)大的制程就足夠該公司所用了。

Intel 18A工藝的進(jìn)步不僅有助于其內(nèi)部產(chǎn)品的開發(fā),如即將推出的Panther Lake系列,還為未來向外部客戶提供服務(wù)奠定了基礎(chǔ)。

Intel計(jì)劃在18A工藝取得成功后,逐步向14A工藝過渡,以進(jìn)一步提升其在高端芯片市場的競爭力。


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