《電子技術(shù)應用》
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安森美半導體:工藝設計套件推進創(chuàng)新

2017-12-22

  安森美半導體新的完整功能工藝設計套件,推進無源器件制造的小型化和創(chuàng)新,。我們提供各種工具給設計人員,,使他們開發(fā)出無線、便攜,、和射頻器件應用的創(chuàng)新小巧解決方案,。對于考慮采用集成無源器件(IPD)加速開發(fā)或避免使用大型表貼器件(SMD)的設計人員,如今利用適用于NationalInstruments應用波研究(AWR)環(huán)境的PDK套件可以輕松完成設計,。

  今年發(fā)布的NIAWRPDK套件支持我們先進的一流IPD1和IPD2工藝,。此款PDK套件配備完全可擴展的布局參數(shù)單元(Pcell)、先進布局實用程序以及準確的電磁(EM)仿真功能,。此套件可應客戶要求供下載,。

  不熟悉IPD設計?我們提供了設計示例和教程,,逐步指導采用我們極好的IPD工藝,。我們確保減少設計人員的布局時間。我們的符號和原理圖均兼容Cadence,。利用預定義的基板定義和預配置的設置,,您可輕松愉快地完成EM仿真。

  隨著行業(yè)尋求更加小型的無線產(chǎn)品和高性能,,我們的IPD1和IPD2工藝將更進一步發(fā)展和獲得更廣泛應用,。這種增長已帶動對NIAWR設計環(huán)境下IPDPDK的需求。我們的共同客戶可利用此新的PDK縮短開發(fā)周期,,并加快部署創(chuàng)新的產(chǎn)品,。


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