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森田化學(xué)蝕刻試劑項(xiàng)目落戶浙江

2018-03-31
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 無水氫氟酸

日本森田化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社半導(dǎo)體用高純度蝕刻試劑項(xiàng)目在浙江入園,。該項(xiàng)目將由合資公司浙江森田新材料有限公司實(shí)施,,項(xiàng)目利用該合資公司無水氫氟酸作為原料制造高純度氟酸和BOE,,產(chǎn)品將用于半導(dǎo)體的清洗和蝕刻,。

該項(xiàng)目一期投資超過30億日元,,項(xiàng)目總占地8.8萬平米,。一期BHF與BOE產(chǎn)能各有2萬噸,。預(yù)計(jì)2019年6月安裝完工,,明年秋天開始生產(chǎn),,后續(xù)還將擴(kuò)產(chǎn)并新增新其他高純項(xiàng)目,。 該項(xiàng)目將利用最先進(jìn)的森田化學(xué)的制造工藝和技術(shù)進(jìn)行制造,產(chǎn)品純度實(shí)現(xiàn)PPT級(jí),。滿足國內(nèi)半導(dǎo)體公司對(duì)超純高純度蝕刻試劑半導(dǎo)體行業(yè)日益增長的需求,。

從用途分析;雖然3DNAND的內(nèi)存主要是干蝕刻,,但是干蝕刻所產(chǎn)生的殘?jiān)枰逑?,而晶圓濕蝕刻需求也在不斷增加。該公司BOE濃度將控制在40%-50%之間來滿足半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)清洗要求,BHF也能滿足半導(dǎo)體絕緣膜的蝕刻等方面的使用,。

據(jù)了解,,原浙江森田新材料有限公司主要生產(chǎn)的工業(yè)級(jí)AHF,原料供給日本的神奇川工廠和堺工廠使用,,主要生產(chǎn)半導(dǎo)體超純?cè)噭?、鋁焊接條、光學(xué)鏡頭的氟化物,。今后,,中國超高試劑生產(chǎn)后,該公司工業(yè)原料預(yù)計(jì)一半供給日本,,一半中國使用,,其余不足部分由合資中方三美化工提供。

28日在浙江,,由當(dāng)?shù)卣饕I(lǐng)導(dǎo)府主持下舉行了入園儀式,,并邀請(qǐng)了國內(nèi)外業(yè)界人士,現(xiàn)場規(guī)模達(dá)到150人,。儀式上森田康夫社長闡述了半導(dǎo)體行業(yè)硅晶圓和半導(dǎo)體氫氟酸是該行業(yè)缺一不可的關(guān)系,,并表示產(chǎn)品純度將實(shí)PPT級(jí),力爭世界第一,。社長強(qiáng)調(diào)將會(huì)全力以赴為中國的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出貢獻(xiàn),。


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