Q3臨近,,各家公司的財報也是悲喜兩重天,而全球最大的光刻機公司荷蘭ASML公司保持開掛態(tài)勢,,當(dāng)季營收27.8億歐元,凈利潤6.8億歐元,,同比增長13.4%,,出貨了5臺EUV光刻機。據(jù)悉,,ASML預(yù)計全年出貨18臺,,明年將增長到30臺,為何光刻機的生意如此“紅火”,?
工藝升級帶來利好
從大勢來看,,這是工藝升級需求所致。
臺積電前不久試產(chǎn)了7nm EUV工藝,,采用ASML的新式光刻機Twinscan NXE,,完成了客戶芯片的流片工作,同時宣布5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn),,量產(chǎn)則有望在2020年第二季度,。
在7nm EUV工藝上成功完成流片,證明了新工藝新技術(shù)的可靠和成熟,,為后續(xù)量產(chǎn)打下了堅實基礎(chǔ),。相比臺積電第一代7nm深紫外光刻(DUV)技術(shù),臺積電宣稱可將晶體管密度提升20%,,同等頻率下功耗可降低6-12%,。而7nm之后,臺積電下一站將是5nm(CLN5FF/N5),,將在多達(dá)14個層上應(yīng)用EUV,,號稱其可比初代7nm工藝的晶體管密度提升80%,芯片面積縮小45%,,頻率提升15%,,功耗降低20%。
而三星也宣布開始進(jìn)行7nm LPP(Low Power Plus)工藝芯片的量產(chǎn)工作,。三星的7nm LPP采用ASML的EUV光刻機,,型號為雙工件臺NXE:3400B(光源功率280W),,日產(chǎn)能1500片。在技術(shù)指標(biāo)上,,對比10nm FinFET,,三星7nm LPP可實現(xiàn)面積能效提升40%、性能增加20%,、功耗降低最多50%,。目前已知,高通新一代的5G基帶會采用三星的7nm LPP工藝,。
這些代工巨頭們在先進(jìn)制程持續(xù)競賽,,意味著EUV工藝就要正式產(chǎn)業(yè)化,這為打拼20多年的ASML帶來了全新的曙光,,迎來了開掛態(tài)勢。
產(chǎn)能進(jìn)一步提升
值得一提的是,,ASML明年下半年會推出新一代的NXE:3400C型光刻機,,WPH(每小時處理的晶圓數(shù)量)產(chǎn)能從現(xiàn)在的每小時125片晶圓提升到155片晶圓以上,意味著產(chǎn)能提升24%,。
現(xiàn)在的NXE:3400B型EUV光刻機的產(chǎn)能為125 WPH,,而NXE:3400C的產(chǎn)能預(yù)計再提升24%,這對改善EUV工藝的產(chǎn)能很有幫助,。
不過有專家分析,,EUV光刻工藝今年正式量產(chǎn)只是一個開始,因為沉浸式光刻機的產(chǎn)能可達(dá)250 WPH,,可以250W的光源長時間穩(wěn)定運行,,因此,EUV光刻155 WPH的產(chǎn)能雖然可喜可賀,,但還需要持續(xù)精進(jìn),。
ASML公司CEO Peter Wennink也曾指出,“ASML 也將著力加速提升EUV系統(tǒng)的妥善率和生產(chǎn)力,,以實現(xiàn)2019年至少出貨30臺EUV系統(tǒng)的計劃,。”
開發(fā)成本躥升
而在ASML公司Q3的光刻機銷售中,,韓國公司占比33%,,我國臺灣公司占比30%,大陸公司占比18%,,前一個季度中大陸公司占比是19%,,不過Q3季度中臺灣公司占比從18%增長到了30%,韓國公司占比從35%降至33%,。
在單機過億歐元的EUV光刻機方面,,Q3季度ASML出貨了5臺EUV光刻機,,上個季度出貨7臺EUV光刻機,預(yù)計Q4季度出貨6臺EUV光刻機,,全年出貨的數(shù)量將達(dá)到18臺,,而2019年EUV光刻機預(yù)計出貨數(shù)量達(dá)到30臺。
而這也表明,,隨著半導(dǎo)體工藝的急劇復(fù)雜化,,不僅開發(fā)量產(chǎn)新工藝的成本大幅增加,開發(fā)相應(yīng)芯片也越來越花費巨大,,目前估計平均得花費1.5億美元,,5nm時代可能要2-2.5億美元。中國大陸無論是代工廠商還是芯片廠商,,都需要為這股“前進(jìn)”勢力付出更多的投入,。