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Intel終于要擠出10nm 智能駕駛企業(yè)卻紛紛選擇28nm

2018-12-17

近日,,芯片巨頭Intel終于宣布其10nm芯片有望在2019年下半年開始出貨。摩爾定律發(fā)展到今天已經(jīng)失效,,這些年來,,Intel在10nm工藝制程上一直發(fā)展不順利,近乎難產(chǎn),,以至于從2015年發(fā)布Skylake架構(gòu)芯片以來,,該公司一直在14nm工藝上修修補(bǔ)補(bǔ),甚至有傳言稱Intel內(nèi)部已完全放棄10nm計(jì)劃,。


所幸,,Intel宣布明年將推出下一代Sunny Cove架構(gòu)的酷睿(Core)與至強(qiáng)(Xeon)芯片。


據(jù)了解,,Sunny Cove是一種基于10nm工藝構(gòu)建的增強(qiáng)型微架構(gòu),,但I(xiàn)ntel推出的并非是完全體的10nm芯片,而是通過Foveros技術(shù)將不同性能,、不同部分封裝在一起,,僅高性能部分使用10nm工藝制程。

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Foveros是一種邏輯芯片3D堆疊技術(shù),,之前已經(jīng)應(yīng)用在存儲(chǔ)芯片上,,但用在CPU上仍有困難。Foveros技術(shù)允許將復(fù)雜的邏輯芯片堆疊在一起,,從而提供更大的功能,,使處理器不同部分的組件與相應(yīng)的制造工藝匹配。


例如,,高性能CPU內(nèi)核可能構(gòu)建在性能最高的10nm工藝上,,但集成USB、Wi-Fi,、以太網(wǎng),、PCIe的I/O連接部分不需要這么高的性能,,采用14nm甚至22nm工藝可能更有意義,因?yàn)槠湫阅茏銐?,但功耗和成本要低得多?/p>


Foveros意味著處理器可以按照不同的制程集成這些組件,,這些不同的組件可以并排緊密包裝在一起,實(shí)現(xiàn)更高的密度和更小的芯片面積,。

芯片在完成前期的設(shè)計(jì)和開發(fā)之后,,將交由芯片代工廠進(jìn)行流片,再往后便是封裝和批量生產(chǎn),。目前,,比較知名的芯片代工廠包括Intel、三星,、臺(tái)積電以及格羅方德這樣的公司。

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自1995年以后,,半導(dǎo)體制程工藝水平從500nm,、350nm、250nm一直進(jìn)化到如今的28nm,、10nm以及7nm,。目前,多數(shù)代工廠都在大力投入7nm生產(chǎn)線,,相關(guān)的樣片也已經(jīng)流片成功,。


所謂制程納米,是CMOSFET晶體管閘極的寬度,,即閘長(zhǎng),。閘長(zhǎng)可以分為光刻閘長(zhǎng)和實(shí)際閘長(zhǎng)。由于在光刻中光存在衍射現(xiàn)象以及芯片制造中還要經(jīng)歷離子注入,、蝕刻,、等離子沖洗、熱處理等步驟,,因此會(huì)導(dǎo)致光刻閘長(zhǎng)和實(shí)際閘長(zhǎng)不一致的情況,。


另外,同樣的制程技術(shù)下,,實(shí)際閘長(zhǎng)也會(huì)不一樣,。Intel在10nm制程上與對(duì)手進(jìn)行的以下對(duì)比便足以說明問題。

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閘長(zhǎng)越短,,有兩大好處:一是提高晶體管密度,,在同樣大小的硅晶圓制造更多的晶體管,運(yùn)算能力會(huì)更強(qiáng),;另一個(gè)好處是降低功耗,,因?yàn)殚l長(zhǎng)決定了電流通過時(shí)的損耗,,寬度越窄,功耗越低,。


這也是為什么眾多芯片設(shè)計(jì)商要采用更先進(jìn)的制程工藝的原因,,但將真實(shí)需求、投入成本,、技術(shù)成熟度引入進(jìn)考量體系的話,,很多芯片設(shè)計(jì)企業(yè)并不會(huì)一味去追求最新的制程工藝,他們會(huì)選擇在具體時(shí)間節(jié)點(diǎn)上性價(jià)比最高的工藝,。


根據(jù)咨詢公司Gartner的推算,,10nm芯片的總設(shè)計(jì)成本約為1.2億美元,7nm芯片則為2.71億美元,,較10nm高出兩倍之多,,所以并不是所有企業(yè)都能追逐最新的工藝。


智能駕駛芯片企業(yè)所選擇的芯片制程工藝在12nm-40nm之間,,策略是比較穩(wěn)妥而且保守的,。


調(diào)研結(jié)論顯示,芯片制程工藝的發(fā)展所推動(dòng)的性能提升與成本下降兩大趨勢(shì)在28nm工藝節(jié)點(diǎn)發(fā)生轉(zhuǎn)折,,再往更先進(jìn)的工藝做,,成本不降反升。從商業(yè)上考量,,對(duì)于一些民用的場(chǎng)景,,比如智能汽車,28nm是性價(jià)比最好的一代技術(shù),。


2018年年初,,全球領(lǐng)先的芯片代工廠臺(tái)積電宣布保留28nm工藝生產(chǎn)線,作為長(zhǎng)周期,、長(zhǎng)壽命的技術(shù),,這代技術(shù)最穩(wěn)定,而且應(yīng)用也非常廣泛,。雖然目前的技術(shù)已經(jīng)進(jìn)化至7nm,,甚至是5nm。


當(dāng)大廠和創(chuàng)業(yè)公司同時(shí)選擇一家芯片代工廠之時(shí),,未來相應(yīng)的訂單生產(chǎn)優(yōu)先級(jí)也將產(chǎn)生一定的差異,,好在目前這些企業(yè)選擇的芯片制程工藝重合度還沒那么高。


相關(guān)企業(yè)在接受調(diào)研時(shí)表示,,以臺(tái)積電為例,,他們?cè)谛袠I(yè)中還是很講規(guī)則的,要在臺(tái)積電進(jìn)行芯片的流片和量產(chǎn),,需要申請(qǐng)一系列資質(zhì),,包括企業(yè)背景,、技術(shù)以及產(chǎn)品未來的預(yù)測(cè),同時(shí)對(duì)方還會(huì)來企業(yè)內(nèi)部做調(diào)查,,最后才能確定是否為該企業(yè)開辟賬戶,。


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