《電子技術(shù)應(yīng)用》
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ISPSD即將首次在中國大陸舉辦中國,,凸顯中國大陸在電力電子領(lǐng)域的地位

2019-02-27

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圖片來自ISPSD2019官網(wǎng)


ISPSD(國際功率半導(dǎo)體器件和集成電路研討會)是國際半導(dǎo)體電力電子器件及集成電路領(lǐng)域規(guī)模最大,、影響力最強(qiáng)的頂級國際學(xué)術(shù)會議之一,一年一度的ISPSD會議一直以來都是國內(nèi)外產(chǎn)業(yè)界和學(xué)術(shù)界百家爭鳴的國際舞臺,。

 

自1988年發(fā)起以來,,過去的30屆ISPSD會議分別在北美,、歐洲,、日本及其它區(qū)域輪流舉辦(第一屆是1988年,,第2屆是1990年,以后是每年一屆),。


2015年5月,,ISPSD 2015在中國香港舉行。中國科學(xué)院院士,、電子科技大學(xué)陳星弼教授因?qū)Ω邏汗β蔒OSFET理論與設(shè)計的卓越貢獻(xiàn)獲得大會頒發(fā)的最高榮譽(yù)“國際功率半導(dǎo)體先驅(qū)獎”(ISPSD 2015 Pioneer Award),,成為亞太地區(qū)首位獲此殊榮的科學(xué)家,。大會對他在1993年發(fā)明突破了傳統(tǒng)硅極限的“CB-layer”,,即廣為熟知應(yīng)用的“Super-junction”的重大學(xué)術(shù)貢獻(xiàn)給予高度評價。


 

令人振奮的是,,ISPSD2019會議將在中國上海舉辦,。這將是該會議自1988年發(fā)起以來首次在中國大陸舉辦,標(biāo)志著中國大陸電力電子器件的研究和產(chǎn)業(yè)水平在國際上產(chǎn)生了越來越重要的影響力,,也說明中國大陸學(xué)者在電力電子領(lǐng)域扮演和承擔(dān)著重要的角色,。


ISPSD2019由浙江大學(xué)盛況教授擔(dān)任大會主席(General Chair),電子科技大學(xué)張波教授擔(dān)任大會副主席(Vice General Chair),;香港科技大學(xué)陳敬(Kevin J. Chen)教授擔(dān)任技術(shù)程序委員會(Technical Program Committee,,TPC)主席。


會議主題

 

ISPSD會議議題分為以下六個方向:高壓功率器件(High Voltage Power Devices),、低壓功率器件(Low Voltage Devices and Power IC Device Technology),、 功率集成電路(Power IC Design)、氮化鎵與氮化物器件(GaN and Nitride Base Compound Materials),、碳化硅與其他寬禁帶半導(dǎo)體器件(SiC and Other Materials),、模塊與封裝工藝(Module and Package Technologies)。

 

在六大議題中,,以SiC和GaN為代表的寬禁帶半導(dǎo)體(也就是常說的第三代半導(dǎo)體)器件以其獨特優(yōu)勢在近年來引發(fā)了國內(nèi)外產(chǎn)業(yè)界和學(xué)術(shù)界的關(guān)注,,在材料生長、制造工藝與應(yīng)用等領(lǐng)域蓬勃發(fā)展,,被認(rèn)為是下一代電力電子器件和功率集成電路的重要發(fā)展方向,。憑借其優(yōu)異的性能(如更高的擊穿電壓、更高的熱導(dǎo)率,、更高的電子飽和速率和更優(yōu)異的抗輻射能力),,寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件在新能源汽車、分布式并網(wǎng)、新型直流輸配電網(wǎng),、數(shù)據(jù)中心,、航空航天和消費類電子等諸多領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用前景。

 

關(guān)于技術(shù)程序委員會情況

 

本屆技術(shù)程序委員會(TPC)共有61個人,,其中中國共有14位,,占23%。

 

他們分別是TPC主席陳敬(香港科技大學(xué)),、GaN and Nitride Base Compound Materials分議題主席Tom Tsai(臺積電TSMC),。

 

其他成員還有羅小蓉(電子科技大學(xué))、Yi Tang(嘉興斯達(dá)半導(dǎo)體),、張帥(臺積電TSMC,,原華虹宏力);David Tsung-Yi Huang(瑞昱Richtek),;Budong (Albert) You(矽力杰Silergy),、祝靖(東南大學(xué));劉揚(yáng)(中山大學(xué)),、楊樹(浙江大學(xué)),;Chih-Fang Huang(臺灣清華大學(xué))、hwan Ying Lee(瀚薪科技),、Kung-Yen Lee(臺灣大學(xué)),;Zhenqing Zhao(臺達(dá)電子)。

 

2009-2018中國大陸在ISPSD發(fā)表論文總體情況

 

下面是芯思想研究院統(tǒng)計的2009年至2018年10年間的中國大陸論文情況(由于ISPSD2019的論文評審情況信息沒有,,無法給出今年的論文情況),。

 

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從2009年到2018年10年間,雖然年年都有論文發(fā)表,,不過2010年依靠電子科技大學(xué)張波教授團(tuán)隊的一篇文章,,才避免0的尷尬。

 

從2009年到2018年共發(fā)表論文112篇,,其中口頭報告(Oral)34篇,,張貼報告78篇(Poster)。

 

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根據(jù)第一作者所在單位來看,,電子科技大學(xué)有50篇入選(其中陳星弼院士團(tuán)隊有7篇,,張波團(tuán)隊43篇),東南大學(xué)有25篇入選,,浙江大學(xué)有15篇入選,,前三名合計有90篇論文入選,占總數(shù)的80.33%,。

 

根據(jù)第一作者所在單位來看,,我國入選的112篇論文中,,來自產(chǎn)業(yè)界的僅有4篇,分別是華虹宏力2篇入選,,中車株洲時代電氣和英諾賽科各有一篇入選,,僅占總數(shù)的3.33%。

 

三大高產(chǎn)團(tuán)隊

 

1,、電子科技大學(xué)功率集成技術(shù)實驗室(PITEL)

 

功率半導(dǎo)體器件及集成技術(shù)是電子科技大學(xué)微電子領(lǐng)域的特色學(xué)科方向,,是電子科技大學(xué)集成電路研究中心的核心組成部分。

 

電子科技大學(xué)功率集成技術(shù)實驗室(PITEL)是“電子薄膜與集成器件國家重點實驗室”的重要組成部分,。功率集成技術(shù)實驗室專注于功率半導(dǎo)體技術(shù)研究,,開展了功率半導(dǎo)體分立器件(包括高性能功率二極管、雙極型功率晶體管,、功率MOSFET,、IGBT到大功率RF LDMOS等,涉及硅基功率器件,、SiC功率器件和硅基GaN功率器件),、可集成功率半導(dǎo)體器件新結(jié)構(gòu)(包括硅基、SOI基和GaN基),、高低壓工藝集成,、電源管理集成電路、功率集成電路以及面向系統(tǒng)芯片的復(fù)雜負(fù)載下高效功率轉(zhuǎn)換研發(fā)工作,。

 

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從2009年至2018年10年間,以第一作者所在單位統(tǒng)計共發(fā)表論文43篇,。

 

 領(lǐng)軍人物:張波教授

 

張波教授目前帶領(lǐng)電子科技大學(xué)功率集成技術(shù)實驗室(PITEL)主攻功率半導(dǎo)體技術(shù)研究,,是國際上該領(lǐng)域最大的學(xué)術(shù)研究團(tuán)隊。

 

張波教授于2010年當(dāng)選ISPSD技術(shù)程序委員會(TPC)成員,,是首批進(jìn)入該委員會的中國大陸學(xué)者之一(另一位是2009年從美國全職回到浙江大學(xué)工作的盛況教授),。

 

2000年在法國圖盧茲舉行的ISPSD上,張波教授首次以第一作者身份發(fā)表了一篇有關(guān)超結(jié)的口頭論文,。盡管1999年11月張波教授就已經(jīng)回國工作,,但該篇文章的主要研究內(nèi)容為在美國訪問研究的成果,因此該篇文章雖然在首頁注明張波教授已經(jīng)回到電子科技大學(xué)工作,,但還是以美國國家工程中心功率電子系統(tǒng)中心署名,。

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不過張波教授在ISPSD首秀是在1998年。當(dāng)時他以訪問教授的身份在美國弗吉尼亞理工大學(xué)進(jìn)行研究,。

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當(dāng)然,,該團(tuán)隊還有羅小蓉教授、陳萬軍教授等,。


羅小蓉,,女,,博士,電子科技大學(xué)教授,。2001年獲四川大學(xué)碩士學(xué)位, 2007年獲電子科技大學(xué)博士學(xué)位,。2009-2010年到英國劍橋大學(xué)進(jìn)行博士后研究。2011年聘為博士生導(dǎo)師,,2012年破格晉升教授,。是現(xiàn)任ISPSD技術(shù)程序委員會(TPC)成員。


陳萬軍,,男,,博士,電子科技大學(xué)教授教授,,博士生導(dǎo)師,。2007年獲電子科技大學(xué)博士學(xué)位,2007-2010年在香港科技大學(xué)進(jìn)行博士后研究,,2013年聘為博士生導(dǎo)師,,2014破格晉升為教授。長期致力于硅基功率半導(dǎo)體技術(shù),、寬禁帶氮化鎵(GaN)功率器件與集成技術(shù)等領(lǐng)域的科研,、教學(xué)與人才培養(yǎng)工作,特別在硅基氮化鎵(GaN-on-Si)功率集成技術(shù)與器件模型/機(jī)理等方面開展了在國際上具有相當(dāng)影響的獨創(chuàng)性研究,。


2,、東南大學(xué)功率集成電路研發(fā)部

 

功率集成電路(PIC)研發(fā)部是國家專用集成電路系統(tǒng)工程技術(shù)研究中心的重要組成部分,在南京,、無錫和蘇州設(shè)有三個實驗室,。

 

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在近十年間,以第一作者所在單位統(tǒng)計,,功率集成電路(PIC)研發(fā)部共發(fā)表25篇文章,。其中2012年、2013年,、2015年,、2016年、2018年都取得100%錄用率的佳績,。

 

領(lǐng)軍人物:孫偉鋒

 

1977年5月出生,,2000年本科畢業(yè)于東南大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院;2003年獲碩士學(xué)位并留校任教,;2006年獲微電子學(xué)與固體電子學(xué)專業(yè)博士學(xué)位,;2008年9月至2009年9月在美國加州大學(xué)歐文分校電子與計算機(jī)工程學(xué)院進(jìn)修,進(jìn)行博士后的研究工作,。主要從事功率器件,、功率集成電路,、模擬集成電路及可靠性等方面的研究。發(fā)表SCI論文150余篇,,獲得美國專利7項,、中國發(fā)明專利190余項,

 

當(dāng)然,,該團(tuán)隊還有祝靖副教授等,。


3、浙江大學(xué)電力子器件團(tuán)隊(PEDL)

 

由盛況教授領(lǐng)銜的浙江大學(xué)電氣工程學(xué)院的電力子器件團(tuán)隊(PEDL)自2010年成立以來,,一直致力于開展碳化硅和氮化鎵電力電子器件的研究,,成功自主研制出了碳化硅超級結(jié)肖特基二極管、JBS二極管,、結(jié)型場效應(yīng)晶體管,、常關(guān)型氮化鎵晶體管和垂直型氮化鎵二極管,開發(fā)出了容量領(lǐng)先的碳化硅肖特基二極管模塊,、碳化硅結(jié)型場效應(yīng)開關(guān)管模塊以及碳化硅MOSFET功率模塊,。此外,團(tuán)隊還在基于寬禁帶器件的電力電子變壓器,、DC-DC變換器,、PFC、充電樁等應(yīng)用方向開展了一系列研究工作,。

 

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電力子器件團(tuán)隊(PEDL)從2013年開始連續(xù)有論文入選ISPSD會議,,以第一作者所在單位統(tǒng)計,至2018年共往入選15篇,。

 

領(lǐng)軍人物:盛況

 

1995年畢業(yè)于浙江大學(xué)獲電力電子專業(yè)學(xué)士學(xué)位,;1999年畢業(yè)于英國愛丁堡Heriot-Watt大學(xué)獲計算機(jī)及電氣工程博士學(xué)位;1999-2002年英國劍橋大學(xué)工程學(xué)系任博士后,;2002-2009在美國Rutegers大學(xué)(即新澤西州大學(xué))任教,獲終身教職,;2009年被評為教育部長江學(xué)者,,擔(dān)任浙江大學(xué)電氣工程學(xué)院特聘教授,2010年全職回到時母校任教,。

 

盛況教授 于2010年當(dāng)選ISPSD技術(shù)程序委員會(TPC)成員,,是首批進(jìn)入該委員會的中國大陸學(xué)者之一(另一位是電子科技大學(xué)的張波教授)。

 

盛況教授領(lǐng)銜的電力子器件團(tuán)隊(PEDL)專注電力電子技術(shù),,主要包括:新型的碳化硅電力電子器件,,包括碳化硅平面型/垂直型功率器件(SiC-SBD, SiC-JFET,SiC-BJT, SiC-MOSFET),;碳化硅功率電力電子集成電路芯片,;SOI電力電子集成電路技術(shù),;IGBT器件的模型、芯片設(shè)計,、模塊設(shè)計,、可靠性和產(chǎn)業(yè)化研究等。


當(dāng)然,,該團(tuán)隊還有楊樹教授,。


楊樹,女,,1990年6月5日生,,安徽合肥人,浙江大學(xué)電氣工程學(xué)院教授,、博士生導(dǎo)師,。 2010年本科畢業(yè)于復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)專業(yè);2014年博士畢業(yè)于香港科技大學(xué)電子計算機(jī)工程專業(yè),,先后在香港科技大學(xué)擔(dān)任客座助理教授,,在英國劍橋大學(xué)做博士后。2016年回國后,,進(jìn)入浙江大學(xué)電氣工程學(xué)院,,擔(dān)任“百人計劃”研究員。研究領(lǐng)域為下一代高效率能量轉(zhuǎn)換系統(tǒng)中的GaN半導(dǎo)體器件核心技術(shù)及物理機(jī)理,。主要從事寬禁帶半導(dǎo)體電力電子器件的設(shè)計,、微納制造、分析表征以及可靠性研究,。在氮化鎵MIS器件界面優(yōu)化,、硅基氮化鎵器件緩沖層陷阱效應(yīng)物理機(jī)制、基于同質(zhì)外延的垂直型氮化鎵電力電子器件等方向開展了一系列工作,。

 

ISPSD 2019時間安排

 

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 圖片來自ISPSD2019官網(wǎng)


當(dāng)然會議的第一天是短課程培訓(xùn),。

 

估計2019年的后面四天會場安排情況和2018年也差不多。在2018年在美國芝加哥舉行的ISPSD共分為16個會場,,分別是:

 

1,、Superjunction MOS, Diodes and IGBTs

2、SiC Power MOSFETs

3,、Lateral Devices: Reliability

4,、Smart Power ICs

5、GaN Power Devices - 1

6,、High Voltage

7,、GaN

8、Packaging

9,、GaN Power Devices - 2

10,、Low Voltage Technology

11,、IC Design

12、SiC

13,、SiC Reliability and Ruggedness

14,、Packaging and Enabling Technologies

15、Novel Device Structures

16,、IGBTs

 

當(dāng)然還有第17會場--特邀報告會場,。其中,6,、7,、8、10,、11,、12等六個會場是POSTER會場。


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