11月7日消息,，據(jù)外媒報(bào)道,，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商阿斯麥爾（ASML）將暫時(shí)停止向芯片制造商中芯國際供應(yīng)EUV極紫外線微影設(shè)備,。

有消息人士透露稱：“ASML是為了避免因供應(yīng)最先端設(shè)備給中國,、因而刺激到美國,，因此決定暫時(shí)中止交貨”。消息人士還補(bǔ)充表示：“但與此同時(shí),，ASML不想讓中國客戶感到不安,，因?yàn)槟抢锸瞧湓鲩L(zhǎng)最快的市場(chǎng)?！?/p>

所謂的EUV極紫外線微影設(shè)備,，是使用通稱極紫外線之極短波（13．5nm）光線的微影技術(shù)，能加工至既有ArF 準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到之20nm 以下的精密尺寸,。不但能降低晶圓制造時(shí)光罩使用數(shù)量,，以降低生產(chǎn)成本，并提高生產(chǎn)良率,，也因能加工過去ArF 準(zhǔn)分子雷射光微影技術(shù)不易達(dá)到的20nm 以下之精密尺寸,，更有助半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)摩爾定律（Moore＇s law）再往下延伸，讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展持續(xù)精進(jìn),。

目前,，ASML是EUV極紫外線微影設(shè)備的獨(dú)家制造商，ASML營收占比中,，有超過一半來自中韓兩國,，中芯國際更是其在華主要客戶。去年4月份,，中芯國際向ASML訂購的EUV光刻機(jī)原定于2019年底交付,，到2020年中期完成安裝，如今遇上停止斷供一事,，無疑是兩敗俱傷的行為,。