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臺(tái)積電將啟動(dòng)4nm工藝制程 計(jì)劃于2022年大規(guī)模量產(chǎn)

2020-08-13
來(lái)源:21ic

兩年前,,臺(tái)積電量產(chǎn)了7nm工藝,,今年將量產(chǎn)5nm工藝,這讓臺(tái)積電在晶圓代工領(lǐng)域保持著領(lǐng)先地位?,F(xiàn)在3nm工藝也在按計(jì)劃進(jìn)行,。根據(jù)臺(tái)積電的規(guī)劃,3nm風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)預(yù)計(jì)將于明年進(jìn)行,,量產(chǎn)計(jì)劃于2022年下半年開(kāi)始,。

7月20日,據(jù)外媒報(bào)道,,臺(tái)積電還將在5nm和3nm工藝制程之間推出4nm工藝制程,。

報(bào)道稱(chēng),臺(tái)積電在其官網(wǎng)披露的第二季度電話(huà)會(huì)議中提到了4nm工藝,,并表示將啟動(dòng)4nm工藝作為5nm工藝的延伸,。此外,4nm工藝將兼容5nm工藝的設(shè)計(jì)規(guī)則,,較5nm工藝更有性?xún)r(jià)比優(yōu)勢(shì),,瞄準(zhǔn)的是下一波的5nm產(chǎn)品,計(jì)劃在2022年大規(guī)模量產(chǎn),。

據(jù)悉,,臺(tái)積電曾表示,3nm沿用FinEFT技術(shù),,主要是考量客戶(hù)在導(dǎo)入5nm制程的設(shè)計(jì)也能用在3nm制程中,,無(wú)需面臨需要重新設(shè)計(jì)產(chǎn)品的問(wèn)題,臺(tái)積電可以保持自身的成本競(jìng)爭(zhēng)力,,獲得更多的客戶(hù)訂單,。

報(bào)道中指出,3nm工藝將會(huì)在2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn),,4nm工藝作為5nm工藝的延伸,,可能會(huì)在上半年量產(chǎn),。并且3nm工藝是繼5nm之后臺(tái)積電全新一代的芯片制程工藝節(jié)點(diǎn),與今年的5nm工藝相比,,3nm工藝的晶體管密度提高了15%,,性能提高了10-15%,能源效率也提高了20-25%,。

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