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中國企業(yè)與尼康,、佳能共同研發(fā)光刻機(jī)

2020-10-14
來源:21ic
關(guān)鍵詞: 光刻機(jī) 芯片制造

  光刻機(jī)作為芯片制造最重要的設(shè)備,目前在全球市場上都是稀缺資源,。在光刻機(jī)設(shè)備市場上,,尤其是EUV光刻機(jī)設(shè)備,幾乎被ASML壟斷,。全球光刻機(jī)出貨量99%集中在ASML,、尼康和佳能,ASML份額最高,。由于美國的技術(shù)封鎖,,我國收購ASML技術(shù)幾乎毫無可能,那么同樣有高端EUV光刻機(jī)技術(shù)的日本尼康和佳能是否可以合作共贏,?

  除華為外,,國內(nèi)晶圓大廠半導(dǎo)體進(jìn)口設(shè)備也遭斷供,另據(jù)路透社報(bào)道,,美國正考慮對半導(dǎo)體制造設(shè)備及相關(guān)軟件,、激光器、傳感器等技術(shù)的出口進(jìn)行新的限制,,美對我半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的打壓已有蔓延之勢,。而芯片制造始終是我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的薄弱環(huán)節(jié),,唯有突破光刻機(jī)技術(shù),才能掌握芯片自主,。

  一,、自主與合作

  光刻機(jī)被譽(yù)為“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,要造出造芯片的機(jī)器,,并不是一件容易的事,,它不僅僅是擁有約10萬個(gè)零部件般復(fù)雜,也不僅僅是集合了數(shù)學(xué),、光學(xué),、流體力學(xué)、自動化,、圖像識別等10余個(gè)領(lǐng)域般綜合,,還要都是頂級的,一個(gè)技術(shù)突破不算突破,,全部突破才算整體前進(jìn)一步,,這是最難的。

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  說阿斯麥光刻機(jī)代表西方制造工業(yè)的最高水平并不為過,,一臺最先進(jìn)的EUV光刻機(jī),,鏡頭來自德國卡爾蔡司,大功率光源來自美國賽摩,,精密加工技術(shù)來自瑞典,,浸沒雙工作臺來自荷蘭,特殊復(fù)合材料來自日本等等,,在阿斯麥供應(yīng)商中有很多隱形冠軍,,它們可能并不太知名,但無法忽視的是,,這些幾乎都是同行業(yè)中的佼佼者,。

  如果說在某一個(gè)領(lǐng)域做好或許不是難事,比如中微公司2017年就成功研發(fā)出了世界上第一臺5納米刻蝕機(jī),,但這并不代表國內(nèi)芯片制造工藝達(dá)到5納米水平,,到目前為止最先進(jìn)的國產(chǎn)光刻機(jī)僅為90納米,最薄弱的環(huán)節(jié)才代表真實(shí)的水平,,國產(chǎn)光刻機(jī)要出頭,,勢必要做到與阿斯麥更接近的水平,但也意味著要在細(xì)分領(lǐng)域全部做好,。

  誰也不是三頭六臂,,神通廣大,造好光刻機(jī),,除了發(fā)展自主技術(shù),,開放合作是很有必要的,。

  二、日經(jīng)遞橄欖枝

  最近日經(jīng)新聞有一篇關(guān)于中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的報(bào)道,,文章指出,隨著美國的封鎖和打壓,,長遠(yuǎn)來看,,美國此舉可能會助推重工半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自立與發(fā)展,目前中國半導(dǎo)體仍可迂回以對,。

  文章主要提到幾點(diǎn):

  一是中國有1000多家新興的半導(dǎo)體相關(guān)公司,,如果華為和中芯從這些公司購買進(jìn)口的半導(dǎo)體芯片、設(shè)計(jì)軟件以及生產(chǎn)設(shè)備,,實(shí)際上就可以進(jìn)行半導(dǎo)體采購并擴(kuò)充制造設(shè)備,;Synopsis共同執(zhí)行長Aart de Geus表示:“在中國有很多半導(dǎo)體相關(guān)企業(yè)(除華為外)都在大量購買,這種情況無法避免國內(nèi)的轉(zhuǎn)售,?!?/p>

  二是聯(lián)發(fā)科對美國的銷售額很少,該公司雖已停止對華為供貨,,但也有可能會繼續(xù)接受華為的訂單并準(zhǔn)備接受美國制裁,,聯(lián)發(fā)科可以在不投訴最終用戶詳細(xì)信息的情況下訂單生產(chǎn),臺積電同樣可以,。

  對上世紀(jì)70/80年代崛起的日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)來說,,通過不同的方法將技術(shù)從美國帶回日本,從模仿再到超越,,成就90年代的半導(dǎo)體霸主是可能的,,但時(shí)代背景不同,通過規(guī)避限制出口并不是長遠(yuǎn)之計(jì),,SWIFT跨國結(jié)算系統(tǒng)掌握在美國手上,,所有國際賬戶信息,都在美國的掌控之中,,會導(dǎo)致更多的企業(yè)被限制,。

  文章提到的另一方案或許更有前景,EUV以外的光刻機(jī),,日本的尼康和佳能也可以制造,,業(yè)界有關(guān)人士表示:“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金,要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機(jī),?!?/p>

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  目前只有荷蘭的阿斯麥能夠制造EUV光刻機(jī),而大部分基礎(chǔ)技術(shù)的知識產(chǎn)權(quán)都由美國掌握,,如果走別人的路,,知識產(chǎn)權(quán)的約束會很多,,當(dāng)芯片制程工藝接近摩爾定律極限,3D堆疊技術(shù)正在成為延續(xù)摩爾定律的主角,,研發(fā)新的光刻機(jī)或許是彎道超車的機(jī)會,,就像2000年前后阿斯麥憑借浸入式光刻技術(shù)超越尼康一樣,每一次彎道超車都離不開新技術(shù),、新材料的顛覆,。

  當(dāng)年美國建立EUV LLC聯(lián)盟搞高端光刻機(jī),幾乎半導(dǎo)體業(yè)界所有的巨頭都被邀請來了,,唯獨(dú)尼康排除在外,,最后單打獨(dú)斗的尼康,自然干不過人家聯(lián)盟,,不知尼康是否因此耿耿于懷,?如今國產(chǎn)光刻機(jī)需要合作,尼康正好有技術(shù)積累,,尼康是否有心被阿斯麥碾壓二十年后再扳回一城,?結(jié)果值得期待。

  現(xiàn)在尼康最先進(jìn)的光刻機(jī)是45-22納米,,雖然跟阿斯麥有幾代的差距,,但在單打獨(dú)斗的日子里,技術(shù)幾乎都是自己的,,受美國方面的制約更少,。

  三、結(jié)語

  2012年日本存儲芯片企業(yè)爾必達(dá)被美光收購,,去年11月,,原社長坂本幸雄就任紫光集團(tuán)高級副總裁,紫光旗下核心企業(yè)長江存儲主打存儲芯片,;

  曾就職瑞晶總經(jīng)理的陳正坤,,后瑞晶被美光收購,陳正坤加入聯(lián)電,,后來到大陸協(xié)助福建晉華建存儲芯片廠,,當(dāng)被問及為什么加入聯(lián)電和中國大陸DRAM技術(shù)合作研發(fā)計(jì)劃,陳感性地說,,當(dāng)年瑞晶被兼并對他沖擊很大,,且自主開發(fā)DRAM技術(shù)一直是他心中的夢想,希望這個(gè)夢想在這里播種開花,。

  中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起,,除了開放合作,還要尋找合適的領(lǐng)頭羊,。


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