近日,，進(jìn)博會如期在上海國家會展中心舉行,，在設(shè)備館中，要不是ASML這名字大伙最近如雷貫耳,，那跟周圍的輪船,、飛機(jī),、潛水艇比起來，ASML的展臺一點(diǎn)都不顯眼,。但論售價,，展館里那臺1.4億元的直升機(jī)，可能都要遜色不少,。

　　ASML展臺不缺人氣,，一茬接一茬的人前來參觀咨詢，現(xiàn)場ASML的相關(guān)人員也在不斷的做著科普,，有關(guān)光刻機(jī)的科普,。人紅是非多，ASML展臺明明近在眼前,，卻出現(xiàn)了兩種身份,，一個是在規(guī)則下努力服務(wù)中國市場的ASML，一個是被情緒點(diǎn)爆的ASML,。也因此產(chǎn)生了一些非理性誤讀,。

　　7nm DUV這件事

　　首先是關(guān)于7nm DUV這件事，在ASML展區(qū)中,，現(xiàn)場ASML工作人員對TWINSCAN NXT:1980Di的DUV光刻機(jī)原理進(jìn)行了視頻演示,，據(jù)稱，其可以用過多次曝光的手段制造7nm工藝,。不過,，一些關(guān)于ASML進(jìn)博會報道的文章,，標(biāo)題中直接使用“7nm DUV”,，卻是一個錯誤的說法，因?yàn)椴⒉淮嬖?nm DUV或者7nm EUV,。

　　DUV是deep ultra violet （深紫外光）的縮寫,，DUV光刻機(jī)使用的光源都是193nm波長的ArF excimer laser，EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）,，EUV光刻機(jī)光源則是13.3nm的laser pulsed tin plasma,。而人眼可見光的波長為380nm到880nm。

　　DUV是一種光源,，光刻機(jī)是一種投影曝光系統(tǒng),。在半導(dǎo)體制作過程中，光刻機(jī)會投射光束,，穿過印著圖案的掩模及光學(xué)鏡片,，將線路圖曝光在帶有光刻膠的硅晶圓上；通過光刻膠與光的反應(yīng)來形成溝槽,，然后再進(jìn)行蝕刻,、沉積、摻雜，架構(gòu)出不同材質(zhì)的線路,。

　　其中掩膜版上面會有很多的布線,，形成溝槽以后在里面會布很多的二極管、三極管等,，來形成不同的功能,。單位面積上布的線越多，能夠?qū)崿F(xiàn)的功能就越多,，效能也越高,，耗能越少。

　　DUV光刻機(jī),，分為干分式與液浸式兩種,。其中，液浸式于 ASML 手中誕生,，其波長雖然有 193nm,，但等效為134nm，經(jīng)過多重曝光后,，液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到7nm工藝,。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升,，而且良品率也難以控制,。

　　這其中，光刻機(jī)的分辨率表示光刻機(jī)能清晰投影最小圖像的能力,，是光刻機(jī)最重要的技術(shù)指標(biāo)之一,，決定了光刻機(jī)能夠被應(yīng)用于的工藝節(jié)點(diǎn)水平。最重要的公式就是ASML在進(jìn)博會上放在最顯眼位置的公式,，如下圖,。

　　攝于進(jìn)博會

　　λ代表光源波長；k1是工藝相關(guān)參數(shù),；NA被稱作數(shù)值孔徑,，是光學(xué)鏡頭的一個重要指標(biāo)。

　　據(jù)現(xiàn)場ASML介紹,，本次所展示的1980Di型號DUV光刻機(jī)是目前全球DUV的主力機(jī)型,，每小時能出275片wafer，已經(jīng)被客戶使用的下一代DUV將會有更高效能,。

　　圖源：ASML官網(wǎng)

　　關(guān)于媒體報道較多的DUV光刻機(jī)制造7nm工藝這件事,，拿臺積電舉例，目前為止臺積電的7nm制程工藝分為第一代7nm工藝（N7）,、第二代7nm工藝（N7P）,，以及7nm EUV（N7+）,。其中N7和N7P使用的是DUV光刻，但為了用DUV制作7nm工藝,，它還使用了沉浸式光刻,、多重曝光等技術(shù)。而N7+則直接使用了EUV光刻,，2017年,，臺積電開始使用EUV進(jìn)行7nm制程開發(fā)，并于2019年開始小規(guī)模量產(chǎn),，2020年大規(guī)模量產(chǎn),，主要產(chǎn)品包括智能手機(jī)處理器、HPC和汽車芯片,。

　　N7制程方面,，截至2019年底，總計有超過100個客戶產(chǎn)品投片,，涵蓋相當(dāng)廣泛的應(yīng)用,，包含移動裝置、游戲機(jī),、人工智能,、中央處理器、圖形處理器,，以及網(wǎng)絡(luò)連接裝置等,。此外，N7+版本于2019年量產(chǎn),，協(xié)助客戶產(chǎn)品大量進(jìn)入市場,。

　　以上這三種7nm工藝雖然在性能、功耗等方面表現(xiàn)優(yōu)異,，但成本都十分高昂,。

　　ASML的中國市場

　　對于中國大陸市場來說,，ASML就立刻變成了一家特別的公司,，因?yàn)镋UV未獲得美國許可證的問題，而處于風(fēng)口浪尖之上,。

　　在此前的2020年Q3季度財報會議的視頻采訪中,，ASML公司的CFO Roger Dassen就表示，ASML了解美國當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋,，當(dāng)然也知道這些與特定的中國客戶密切相關(guān),，但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義（對于特定的中國客戶），意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng),，且無需出口許可證,。

　　也正如ASML在進(jìn)博會上所說,，對向中國出口集成電路光刻機(jī)持開放態(tài)度，對全球客戶均一視同仁,，在法律法規(guī)框架下,，都將全力支持。

　　據(jù)筆者現(xiàn)場了解,，ASML的DUV光刻機(jī)在中國大陸DUV市場上有著絕對的主導(dǎo)權(quán),，放眼整個中國制造業(yè)，當(dāng)下階段DUV對中國大陸市場有著非常重要的意義,。據(jù)了解,，位于中國臺灣的臺積電，集聚1000名技術(shù)工程師,，花費(fèi)10年左右的時間,，才完成對EUV光刻機(jī)的駕馭。中國大陸與其差距仍非常巨大,，需從基礎(chǔ)功打磨起,。

　　關(guān)于中國大陸市場，幾個月前在廣州舉行的CICD 2020上,，ASM全球副總裁,、中國區(qū)總裁沈波就表示，在1989年,，ASML的光刻機(jī)就來到了中國,，2000時，在中國成立了第一家辦公室,。在過去的20年中,，ASML在中國迅速發(fā)展。目前ASML在中國已有700多臺光刻機(jī)的裝機(jī),，幾乎所有主要芯片生產(chǎn)廠商都有ASML的服務(wù),。ASML在中國大陸12個城市有辦事處或分支機(jī)構(gòu)，2020年中國區(qū)有超過1100人的團(tuán)隊(duì),，為行業(yè)新增和培育了大量光刻技術(shù)人才,。

　　“中國將成為全球成熟制程芯片最大市場，在成熟制程芯片的智造領(lǐng)域,，ASML提供差異化的解決方案,，共同推進(jìn)行業(yè)創(chuàng)新和增長?！?/p>

　　攝于進(jìn)博會

　　不同于半導(dǎo)體垂直行業(yè)展會,，進(jìn)博會的涉獵極其廣泛，ASML這家近幾年快速變成網(wǎng)紅的企業(yè),，身處其中容易招來許多偏見,。ASML展臺上,，觀看并聽取現(xiàn)場工作人員科普的觀眾絡(luò)繹不絕，充滿熱情的觀眾似乎想弄清楚ASML到底是怎樣的存在,。這家伴隨并推動全球半導(dǎo)體發(fā)展的公司,，也正在努力消除人們心中某些不必要的隔閡。