近期，國產刻蝕機取得新的突破,。北方華創(chuàng)近日宣布,，公司ICP刻蝕機1000腔已經順利交付,。
北方華創(chuàng)自2001年成立后便開始組建團隊研發(fā)刻蝕技術，并于2004年第一臺設備成功起輝,，2005年第一臺8英寸ICP刻蝕機在客戶端上線,，并于2007年獲得國家科學技術進步二等獎。
目前,，北方華創(chuàng)的刻蝕設備已覆蓋集成電路,、LED、先進封裝、功率半導體,、MEMS,、化合物半導體、硅基微顯等多個領域,。
其中,，12英寸ICP刻蝕機在實現客戶端28nm國產化替代的同時，在14/7nm SADP/SAQP,、先進存儲器,、3D TSV等工藝應用中也發(fā)揮著重要作用。
北方華創(chuàng)表示,，lCP刻蝕機交付突破1000腔,，不僅是公司發(fā)展征程中的重要里程碑，更是國產刻蝕機在歷經了二十載自主創(chuàng)新,，得到客戶廣泛認可的重要標志,。
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