1月19日晚,，國內(nèi)半導體材料公司晶瑞股份發(fā)表公告,，宣稱購得ASML公司光刻機一臺,，將用于高端光刻膠項目,。

    晶瑞表示,，自公司開展設備采購活動以來,，受到投資者廣泛密切關注,。

    經(jīng)公司多方協(xié)商,、積極運作，順利購得ASML XT1900 Gi型光刻機一臺,。該設備于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室,。

    下一步，公司將積極組織相關資源,，盡快完成設備的安裝調(diào)試工作,。

    從晶瑞公司的信息來看，公司采購的光刻機設備為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機,，可用于研發(fā)最高分辨率達28nm的高端光刻膠,。

    此外，28nm級別的光刻機在ASML公司中并不算多先進的型號了,，官網(wǎng)上列出的沉浸式光刻機最舊的型號也是XT1965CI了,，可用于20nm以下的工藝。

    不過晶瑞公司購買的這臺光刻機花了1102．5萬美元,，約合人民幣7129萬元,，價值不菲。

    晶瑞公司表示,，公司量產(chǎn)光刻膠近30年,，組建了國內(nèi)領先的光刻膠研發(fā)團隊,，具有豐富的光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)驗，先后承擔了國家“85”攻關,、“863”重大專項,、科技部創(chuàng)新基金等科技項目、承擔了國家02重大專項“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項目,，并順利通過國家02重大專項驗收,。

    公司完成中試的 KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0．15＆mu,；m的分辨率,。

    本次購買的 ASML光刻機設備系公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目的必要實驗設備，旨在研發(fā)出更高端的 ArF 光刻膠,，若研發(fā)工作進展順利,，將有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到 ArF 光刻膠的跨越，并最終實現(xiàn)應用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局,。