鍍膜產(chǎn)品的常見(jiàn)問(wèn)題,，部分是鍍膜工序的本身造成的,，部分是前工程遺留的問(wèn)題，鍍膜終的品質(zhì)是整個(gè)光學(xué)零件加工的（特別是拋光、清洗）的綜合反映,，對(duì)于出現(xiàn)鍍膜不良時(shí)必須綜合考慮，才能真正找到不良產(chǎn)生的原因,，對(duì)策改善才能取得成效,。
膜臟（也稱(chēng)白壓克）
顧名思義，膜層有臟,。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外,。臟可以包括：灰塵點(diǎn)、白霧,、油斑,、指紋印、口水點(diǎn)等。（灰塵點(diǎn)和白霧單列）
01 灰點(diǎn)臟
現(xiàn)象：鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些點(diǎn)子（不是膜料點(diǎn)）有些可以擦除,，有的不能擦除,。并且會(huì)有點(diǎn)狀脫膜產(chǎn)生。
產(chǎn)生原因：
1,、真空室臟,，在開(kāi)始抽真空時(shí)的空氣渦流將真空室底板、護(hù)板的臟灰?guī)У界R片上,，形成灰點(diǎn)層,。（膜內(nèi)，不能擦除,，會(huì)有點(diǎn)狀脫膜）
2,、鏡圈或碟片臟，有浮點(diǎn)灰塵,，在離子束作用下附著到了鏡片上形成灰點(diǎn)層,。（膜內(nèi)，不能擦除,，會(huì)有點(diǎn)狀脫膜）
3,、鏡片上傘時(shí)就有灰塵點(diǎn)，上傘時(shí)沒(méi)有檢查挑選,。（膜內(nèi),，不能擦除，會(huì)有點(diǎn)狀脫膜）
4,、鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點(diǎn)的主要成因,，特別是當(dāng)鏡片熱的時(shí)候，更容易吸附灰塵,，而且難以擦除,。（膜外）
5、真空室充氣口環(huán)境臟,、開(kāi)始充氣量過(guò)大,、充氣過(guò)濾器臟，充氣時(shí)鏡片溫度過(guò)高也是造成鏡片膜外灰塵點(diǎn)不良的原因,。（膜外）
6,、 作業(yè)員人為帶來(lái)的灰塵污染（膜內(nèi)膜外）
7、 工作環(huán)境中灰塵過(guò)多
改善思路：杜絕灰塵源
改善對(duì)策：
1,、工作環(huán)境改造潔凈車(chē)間,，嚴(yán)格按潔凈車(chē)間規(guī)范實(shí)施。
2,、盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生,。盡量利用潔凈工作臺(tái),。
3、 真空室周期打掃,，保持清潔,。
02 膜外白霧
現(xiàn)象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧,，用丙酮或混合液擦拭,，會(huì)有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,，可以擦掉或減輕,，（又稱(chēng)：可擦拭壓克）
分析：膜外白霧的成因較為復(fù)雜，可能的成因有：
?、?、膜結(jié)構(gòu)問(wèn)題：外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散，外層膜太粗糙,；
?、凇⒄舭l(fā)角過(guò)大,，膜結(jié)構(gòu)粗糙,。
③,、溫差：鏡片出罩時(shí)內(nèi)外溫差過(guò)大
?、堋⒊睔?；鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣
?、荨⒄婵帐覂?nèi)Polycold解凍時(shí)水汽過(guò)重
?、?、蒸鍍中充氧不完全，膜結(jié)構(gòu)不均勻
?、?、膜與膜之間的應(yīng)力
改善思路：膜外白霧成因很多,，但各有些特征,，盡量對(duì)癥下藥。主要思路,，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,，二是改善環(huán)境減少吸附的對(duì)象。
改善對(duì)策：
1,、改善膜系,，外層加二氧化硅,，使膜表面光滑，不易吸附,。改善鏡片出罩時(shí)的環(huán)境（干燥,、清潔）
2、降低出罩時(shí)的鏡片溫度（延長(zhǎng)在真空室的冷卻時(shí)間）減少溫差,、降低應(yīng)力,。
3、改善充氧（加大）,，改善膜結(jié)構(gòu),。
4、適當(dāng)降低蒸發(fā)速率,，改善柱狀結(jié)構(gòu)
5,、離子輔助鍍膜，改善膜結(jié)構(gòu)
6,、加上polycold解凍時(shí)的小充氣閥（其功能是及時(shí)帶走水汽）
7,、從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角。
8,、改善基片表面粗糙度,。
9、注意polycold解凍時(shí)的真空度,。
03 膜內(nèi)白霧
白霧形成在膜內(nèi),，無(wú)法用擦拭方法祛除。
可能的成因：
?、?、基片臟，附著前工程的殘留物
?、?、鏡片表面腐蝕污染
③,、膜料與膜料之間,、膜料與基片之間的不匹配。
?、?、氧化物充氧不夠。
?、?、一層氧化鋯膜料，可能對(duì)某些基片產(chǎn)生白暈現(xiàn)象
?、?、基片進(jìn)罩前（洗凈后）受潮氣污染
?、摺⑾磧艋虿潦貌涣?，洗凈痕跡,、擦拭痕跡
⑧,、真空室臟,、水氣過(guò)重
⑨,、環(huán)境濕度大
改善思路：基片本身的問(wèn)題可能是主要的,，鍍膜是盡量彌補(bǔ)，鍍膜本身的可能是膜料匹配問(wèn)題,。
改善對(duì)策：
1,、改進(jìn)膜系，層不用氧化鋯,。
2,、盡量減少真空室開(kāi)門(mén)時(shí)間，罩與罩之間在短時(shí)間內(nèi)做好真空室的清潔,、鍍膜準(zhǔn)備工作,。
3、真空室在更換護(hù)板,、清潔后,，能空罩抽真空烘烤一下，更換的護(hù)板等真空室部件必須干燥,、干凈,。
4、改善環(huán)境
5,、妥善保護(hù)進(jìn)罩前在傘片上的鏡片,，免受污染。
6,、改善洗凈,、擦拭效果。
7,、改善膜匹配（考慮層用Al2O3）
8,、改善膜充氧和蒸發(fā)速率（降低）
9、加快前工程的流程,。前工程對(duì)已加工光面的保護(hù)加強(qiáng),。
10,、拋光加工完成的光面,，必須立即清潔干凈,，不能有拋光粉或其他雜質(zhì)附著干結(jié)。
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光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)軟件
功能強(qiáng)大
★TFCalc 是一個(gè)光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)和分析的工具,，這里有按順序排列介紹了 TFC 的功能：吸收、有效鍍膜,、角度匹配,、雙錐形的穿透、黑體光源,、色彩優(yōu)化,、約束、繼續(xù)優(yōu)化目標(biāo),、派生目標(biāo),、探測(cè)器、散射公式,、電場(chǎng)強(qiáng)度,、同等折射率、同等堆棧,、獲得材質(zhì),、全局優(yōu)化、組優(yōu)化,、發(fā)光體,、膜層敏感性、局部?jī)?yōu)化,、多重環(huán)境,、針優(yōu)化、光學(xué)監(jiān)控,、光學(xué)密度,、相位移動(dòng)、psi,、發(fā)光分布,、折射率的確定、反射,、敏感度分析,、堆棧公式、綜合,、穿透率,、隧道效應(yīng),、可變材料。
創(chuàng)新
★TFCalc 軟件是膜系設(shè)計(jì)軟件中提供創(chuàng)新方法的領(lǐng)導(dǎo)者,。例如,，TFCalc 允許活動(dòng)材料-材料的折射率隨著外部影響而改變。這個(gè)功能是其它商業(yè)軟件沒(méi)有的功能,。
容易使用
★TFCalc 是標(biāo)準(zhǔn)的 windows 和蘋(píng)果機(jī)程序,；薄膜設(shè)計(jì)工程師利用菜單、對(duì)話框和窗口來(lái)輸入并顯示結(jié)果,。
★Software Spectra 努力讓 TFCalc 軟件盡可能的容易使用,，特別是對(duì)僅僅偶爾使用軟件的工程師來(lái)說(shuō)這一點(diǎn)更加重要。TFCalc 軟件包中包含了大量的設(shè)計(jì)實(shí)例,。
多種平臺(tái)
TFCalc 可以在以下計(jì)算機(jī)和操作系統(tǒng)下工作：
★運(yùn)行 windows 3.1 ,，3.11， 95,，98,，2000，7,XP 的 PC,。
★運(yùn)行 System 7 或更新版本的蘋(píng)果計(jì)算機(jī),。
★TFCalc 所輸出的檔格式兼容這兩個(gè)平臺(tái)，讓你和同時(shí)可以共享數(shù)據(jù),。
