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臺(tái)積電1.8nm工廠曝光,2026年量產(chǎn)

2021-10-31
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 1.8nm

  護(hù)島神山出決勝新武器,。臺(tái)積電先進(jìn)制程晶圓廠根留臺(tái)灣,,其中2納米Fab 20超大型晶圓廠已選定建廠地點(diǎn)為新竹寶山,2納米之后的更先進(jìn)制程已進(jìn)入埃米(angstorm)時(shí)代,,預(yù)期臺(tái)積電將推進(jìn)到18埃米(1.8納米),,雖然尚未決定設(shè)廠地點(diǎn),但據(jù)設(shè)備業(yè)者指出,,臺(tái)積電18埃米先進(jìn)制程晶圓廠可望落腳臺(tái)中,,現(xiàn)在中科Fab 15廠旁的高爾夫球場(chǎng)已被納入考慮。

  隨著半導(dǎo)體制程將于2024年進(jìn)入埃米時(shí)代,,臺(tái)積電的建廠動(dòng)向受到業(yè)界及市場(chǎng)矚目,,市場(chǎng)傳出臺(tái)積電下一座先進(jìn)制程晶圓廠可望落腳臺(tái)中,現(xiàn)在中科Fab 15廠旁的興農(nóng)高爾夫球場(chǎng)及軍方用地已納入考慮,,臺(tái)積電若取得用地,,將用于建置2奈米以下先進(jìn)制程的超大型晶圓廠區(qū),并分為第一期到第四期建廠計(jì)劃,,等于會(huì)在當(dāng)?shù)嘏d建4座12吋晶圓廠,。

  臺(tái)積電表示,設(shè)廠地點(diǎn)選擇有諸多考量因素,,臺(tái)積公司以臺(tái)灣作為主要基地,,不排除任何可能性,,維持過去擴(kuò)廠步調(diào)持續(xù)與管理局合作評(píng)估適合半導(dǎo)體建廠之用地,包含新竹,、臺(tái)中及高雄,。目前尚無具體定案,一切以公司對(duì)外公告為主,。

  臺(tái)積電已確認(rèn)的先進(jìn)制程晶圓廠建廠計(jì)畫,,包括南科Fab 18超大型晶圓廠(GigaFab)將建置P1~P4共4座5納米晶圓廠,P5~P8共4座3納米晶圓廠,。其中P1~P3廠已進(jìn)入量產(chǎn),,P4~P6廠正在興建中,未來將再擴(kuò)建P7~P8廠,。另外,,南科Fab 14超大型晶圓廠將擴(kuò)建P8廠為特殊制程生產(chǎn)基地。

  臺(tái)積電竹科Fab 12超大型晶圓廠將擴(kuò)建P8~P9廠為研發(fā)中心,,P8廠將在今年完成,。臺(tái)積電預(yù)計(jì)在竹科寶山興建Fab 20超大型晶圓廠,將在完成土地取得后啟動(dòng)建廠計(jì)劃,,未來將成為2納米生產(chǎn)重鎮(zhèn),。

  臺(tái)積電Fab 20廠區(qū)將分為第一期到第四期、共興建4座12吋晶圓廠,,預(yù)計(jì)2024年下半年進(jìn)入量產(chǎn),。臺(tái)積電2納米制程將采用納米層片(Nanosheet)的環(huán)繞閘極(GAA)晶體管架構(gòu),技術(shù)開發(fā)進(jìn)度符合預(yù)期,。

  設(shè)備業(yè)者表示,,臺(tái)積電2納米之后的先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn),將推進(jìn)到1.8納米(18埃米),,預(yù)計(jì)2026~2027年進(jìn)入量產(chǎn),。臺(tái)積電先進(jìn)制程晶圓廠根留臺(tái)灣,但適合建廠地點(diǎn)并不好找,,而位于臺(tái)積電中科Fab 15廠區(qū)旁的高爾夫球場(chǎng)及周邊軍方用地已納入考慮,,倘若環(huán)評(píng)通過并順利取得用地,臺(tái)積電可能會(huì)在當(dāng)?shù)嘏d建18埃米先進(jìn)制程晶圓廠,。




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