近日,，有媒體報道稱,，國內(nèi)光刻機(jī)巨頭上海微電子，舉行了中國首臺2．5D／3D先進(jìn)封裝光刻機(jī)發(fā)運(yùn)儀式,。同時還有媒體報道稱,，這不僅是國內(nèi)首臺，同時也是達(dá)到了全球頂尖水平,。

于是網(wǎng)友們又沸騰了,，激動不已，各種“沸騰式”的文章,、評論見諸媒體,，大家都認(rèn)為有了這臺光刻機(jī)，國內(nèi)芯片工藝說不定能夠提高了,，不必那么依賴ASML了,。

為何這些網(wǎng)友會這么激動，原因在于當(dāng)前制造芯片時,，必須用到光刻機(jī),，在所有的半導(dǎo)體設(shè)備中，光刻機(jī)的成本占到30％,，非常核心,。

貴當(dāng)然不要緊，能用錢解決的都不是問題,，問題是進(jìn)入7nm必須用到EUV光刻機(jī),，全球僅ASML能夠生產(chǎn)，且無法賣到中國大陸來,，這就是大問題了,，有錢也買不著。

所以國內(nèi)一直希望能夠自研光刻機(jī),，特別是EUV光刻機(jī),，這樣我們就能夠不靠ASML也能進(jìn)入7nm了，中芯國際可是一直在等EUV光刻機(jī)的,，等不到,，就進(jìn)入不了7nm。

所以上海微電子一說交付首臺先進(jìn)光刻機(jī),，且達(dá)到了全球頂尖水平,，大家馬上覺得是不是追上ASML了,，是不是就是EUV光刻機(jī)了,？是不是意味著我們的制造工藝能進(jìn)入7nm了,？

事實上，這臺光刻機(jī)并不能幫助我們的芯片工藝進(jìn)入7nm,，大家且慢激動,，且慢沸騰，此光刻機(jī)非彼光刻機(jī),。

在芯片制造過程中,，有兩種光刻機(jī)，一種叫做前道光刻機(jī),，一種叫做后道光刻機(jī),，對應(yīng)的是芯片制造工藝流程中的前道工藝、后道工藝,。

前道光刻機(jī)就是我們平時關(guān)注的光刻機(jī),，ASML的EUV光刻機(jī)，也是前道光刻機(jī),，用于把電路圖刻到硅晶圓上的,，這才是我們最缺少的、急需突破的光刻機(jī),。

而封裝光刻機(jī)是后道光刻機(jī),，是用于封測階段的，其原理,、作用都是完全不一樣的,，這種光刻機(jī)，我們并不缺少,，上海微電子這次交付的就是后道光刻機(jī),，從圖片就可以看出來，這是一臺2．5D／3D先進(jìn)封裝光刻機(jī),。

在芯片封測上,，大陸有三大巨頭，分別是長蘇長電,、通富微電,、天水華天，這三大巨頭可以排進(jìn)全球前10,，目前能夠封測的芯片都達(dá)到了5nm,，都是全球領(lǐng)先水平。

所以在封測這一塊,，我們就不缺技術(shù),，也不缺封測用的光刻機(jī),，也不缺國產(chǎn)廠商，我們最需要的是前道光刻機(jī)的突破,，這才是關(guān)鍵,。

當(dāng)然，并不是指這臺先進(jìn)封測光刻機(jī)不好,，只是說它還解決不了我們芯片工藝前進(jìn)的問題,，大家別混為一談了。