近幾年來,，我國科學技術不斷發(fā)展。在有些技術方面甚至領先國際水平,，在近幾天北京冬奧會上科學水平應用在人工智能化中,，也讓世人嘆為觀止。

　　其實在科技領域,，每一個科技企業(yè)發(fā)展的根本就是自主研發(fā)核心技術,，發(fā)展自主研發(fā)核心技術這就繞不開相關專利的問題，科學技術的發(fā)展不存在國界問題,，但在歐美國家的心目中,，他們想要在科技領域繼續(xù)實現一家獨大的地位，就抓住了專利這一繞不開的問題,，他們想要把我們依靠自主研發(fā)的核心技術不斷打壓,，提出了毫無證據的指責。中企深夜回應光刻機巨頭ASML,，自主研發(fā)核心技術何時變位了,？

　　隨著摩爾定律的逐漸失效以及硅基芯片的發(fā)展逼近極限，現如今全球的各大芯片廠商開始尋找芯片行業(yè)發(fā)展的新方向,。

　　其中,，碳基芯片被業(yè)內人士看作未來將取代硅基芯片的重要產品。業(yè)內資料顯示：將納米碳作為材料制造的晶體管,，在實驗室環(huán)境下,，納米碳晶體管的功耗表現要比硅晶體管優(yōu)秀5倍。此外,，碳基集成電路的綜合功耗表現要比現下的硅基集成電路降低約50倍,。值得一提的是，碳基芯片的制造除了功耗較低的優(yōu)勢之外,，還具備制造成本較低等先天的優(yōu)勢,。

　　同時，在碳基芯片的制造方面,，依舊可以延續(xù)當下硅基芯片所需要的制造設備,。或者更準確點說,，相同工藝制程的碳基芯片與硅基芯片相比較,，碳基芯片對于制造所需要的設備要求更低。眾所周知，我國芯片被外資卡脖子的重要原因并不是我國相關芯片企業(yè)在芯片設計方面的落后,，而是缺乏芯片制造的關鍵設備——EUV光刻機,。

　　然而，業(yè)內人士表示,，碳基芯片問世之后,，或許將繞開ASML的EUV光刻機。資料顯示：現如今市面上的光科技術分為DUV技術以及EUV技術,。其中,，DUV光刻機可以實現25nm的芯片工藝制程，即便是英特爾憑借自身的雙工作臺模式,，利用DUV光刻機也不過只能夠達到10nm工藝制程；10nm以下的芯片制造工藝,，依舊需要借助EUV光刻機才能夠實現,。然而，在碳基芯片的制造過程中,，DUV光刻機就可以滿足5nm芯片制造工藝的要求,。

　　因此，對于我國的芯片制造企業(yè)來說,，未來在碳基芯片的不斷發(fā)展中,，或許將借這一機會在不依賴荷蘭ASML進口EUV光刻機的前提之下，成功發(fā)展先進的芯片工藝制程,。不過,，從碳基芯片目前的發(fā)展情況來看，還處于實驗室研究的初級階段,，因此,，我國想要切實實現碳基芯片的量產，還需要很長的一段路要走,。此外,，雖然說碳基芯片的制造成本較低，但是研究投入卻并不低,。業(yè)內人士表示,，想要保證碳基芯片完成量產，碳基材料的研究投入需要達到幾十億元,。而由于碳基芯片在前期研究時的回報比并不明朗,，所以想要發(fā)展碳基芯片，政府的相關投入以及支持在這個過程中就顯得十分重要,。

　　半導體核心技術的研發(fā)一直是國產科研的重點,，而其中有關于光刻機的科研工作更是重點中的重點。光刻機大家都不會陌生，就是用來芯片制造芯片的半導體設備,。

　　關于它的工作流程也有很多資料可以查詢,，可是要想實際掌握先進光刻機的生產制造技術就不是說說而已了。還必須腳踏實地,，日積月累才能看到成果,。

　　好消息是，北大突破了一項事關EUV光刻機的核心技術,，還被列入2021年中國半導體十大研究進行展示,。具體是怎樣的研究成果呢？ASML該著急了,？

　　光刻機也是有很多種類型的,，在不同的芯片制造工藝中，也會用上各類型號的光刻機,。而技術最先進,，生產難度最高的光刻機就是EUV光刻機。

　　一臺設備價值1.2億美元,，還不是有錢就能買到的,。EUV光刻機看似是ASML公司生產的，可實際上在這臺設備的背后是全球60多個國家組成的EUV聯盟,。

　　許多國外巨頭各自出力,，要么提供先進零部件設備供貨，要么提供軟硬件等諸多知識專利技術授權,。如果想獨立造出EUV光刻機,，不僅要開辟出全新的路徑，繞開國外專利技術壁壘,，而且還要有足夠的人才科研團隊,。

　　難度就好比左腳踩右腳一步步上天，每一步都很難,，甚至是一直在原地踏步,。可是有多少大國重器就是實現了從0到1的突破,，單純左腳踩右腳上天的確不現實,，但是卻可以用智慧造出工具，去實現遙不可及的目標,。

　　ASML公司也很清楚中國擁有著是全球最大的光刻機市場,，他們也不想失去這個市場中的巨大份額，這些年來可以看出ASML對我們的事好操作,，但奈何他們有兩副面孔,，一邊對我們不斷示好,，一邊卻悄悄申請了超過3000項的光刻機專利技術，在我國科技公司光刻機方面卓有成效之際,，以侵權二字打我們措手不及,。

　　半導體集成電路芯片的發(fā)展大致分為兩個步驟，那就是研發(fā)與生產,。我國芯片在研發(fā)領域已經卓有成效,，比如華為海思所研發(fā)的麒麟芯片受到了市場的廣泛認可，這一研發(fā)成果也使得華為海思成為了全球排名前十的芯片設計公司,，反觀生產階段反響平平,，主要原因是我們缺乏先進光刻機。

　　我國科技公司想要在半導體集成電路方面擁有不俗的成績,，就要堅定不移地走自主研發(fā)道路,。更不能讓他們申請的專利，阻礙了我們的發(fā)展之路,，這條路雖然走得艱辛,，但對于以后的發(fā)展是有利的。