《電子技術(shù)應(yīng)用》
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將可持續(xù)發(fā)展納入“晶圓廠的績(jī)效定義”

2022-02-24
作者:Benjamin Gross, Ph.D.
來(lái)源:應(yīng)用材料公司

  半導(dǎo)體行業(yè)計(jì)劃在未來(lái)幾年將大規(guī)模擴(kuò)充產(chǎn)能,,這無(wú)疑給全行業(yè)帶來(lái)了重大挑戰(zhàn)。未來(lái),新的晶圓廠需要生產(chǎn)數(shù)量更多,、設(shè)計(jì)更復(fù)雜、制造工藝更嚴(yán)苛的芯片,,同時(shí)又要降低能耗和排放,。而好消息是,應(yīng)用材料公司的工程師和科學(xué)家們幾年前就已開(kāi)始著手攻克這一挑戰(zhàn)?,F(xiàn)在,,我們每個(gè)季度都在加速并不斷取得進(jìn)展。

  本文考察了應(yīng)用材料公司如何努力為芯片制造商開(kāi)發(fā)工藝腔室,、系統(tǒng)和軟件,,借以提升晶圓廠的可持續(xù)性。更具可持續(xù)性的晶圓廠必然需要采用新一代設(shè)備,,而這一切的起點(diǎn)就是設(shè)計(jì)思維的進(jìn)化與轉(zhuǎn)變,。

  定義“績(jī)效表現(xiàn)”,將可持續(xù)性納入其中

  改善“績(jī)效表現(xiàn)”是芯片制造業(yè)最常提及的目標(biāo)之一,。工程師專(zhuān)注于記分卡標(biāo)準(zhǔn)的最大化,,這些標(biāo)準(zhǔn)包括設(shè)備吞吐量、制程均勻性和電氣特性等。現(xiàn)在,,應(yīng)用材料公司將可持續(xù)性也納入了晶圓廠的績(jī)效表現(xiàn)記分卡,,并設(shè)計(jì)出專(zhuān)注于降低下列指標(biāo)的系統(tǒng):

  ·能源消耗

  ·化學(xué)品使用所產(chǎn)生的環(huán)境影響

  ·占地面積需求,即加工每單位晶圓所需的無(wú)塵室面積

  2018年,,應(yīng)用材料公司創(chuàng)辦了“可持續(xù)發(fā)展卓越設(shè)計(jì)中心”,,以引領(lǐng)半導(dǎo)體行業(yè)探索更清潔、更環(huán)保的制造方法,。利用專(zhuān)利建模工具,,我們的專(zhuān)家在原型建造工作還遠(yuǎn)未開(kāi)始的設(shè)計(jì)階段,就制定了降低工藝設(shè)備能耗與排放的策略,。通過(guò)創(chuàng)建數(shù)字模型,,我們還能把新的想法應(yīng)用到現(xiàn)有的產(chǎn)品中。憑借這些能力,,我們能夠模擬晶圓加工過(guò)程中的能源和化學(xué)物質(zhì)用量,,并以二氧化碳排放當(dāng)量為單位來(lái)呈現(xiàn)。這樣一來(lái),,我們可以以真實(shí)全面的觀點(diǎn)來(lái)表現(xiàn)我們的減排措施所產(chǎn)生的效果,。

  2020年,我們進(jìn)一步提高目標(biāo),,宣布了針對(duì)制造系統(tǒng)的“3個(gè)30”目標(biāo)——到2030年將每個(gè)晶圓等值能耗,、化學(xué)品使用的環(huán)境影響以及潔凈室面積要求全部降低30%。

  建模產(chǎn)生洞見(jiàn)

  除了系統(tǒng)的直接電力需求之外,,計(jì)算設(shè)備能源需求時(shí)還要考慮許多因素,。例如,很多系統(tǒng)在冷卻時(shí)使用的冷水都需要在無(wú)塵室外產(chǎn)生,,并泵送到整個(gè)晶圓廠,。因此,如果能設(shè)計(jì)出熱效率更高的系統(tǒng)來(lái)減少冷水使用需求,,并提高冷卻器和熱交換器的效率,,晶圓廠便可實(shí)現(xiàn)節(jié)能。SEMI組織的S23指南為半導(dǎo)體制造設(shè)備中的這種等效能量轉(zhuǎn)換建立了標(biāo)準(zhǔn),。例如,,該指南規(guī)定,每使用1000升超純水,,就要消耗9.0千瓦時(shí)的能源來(lái)將水凈化到晶圓廠要求的純度,,這就為我們提供了一種手段來(lái)量化計(jì)算減少水耗所產(chǎn)生的節(jié)能效益。長(zhǎng)久以來(lái),,應(yīng)用材料公司在這些行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的制定工作中很有發(fā)言權(quán),。事實(shí)上,,其中一些標(biāo)準(zhǔn)也正是聘用我加入應(yīng)用材料公司的工程經(jīng)理所起草的。

  有些晶圓廠設(shè)備數(shù)字模型包含了關(guān)鍵組件的等效能源需求,,這些模型更全面地呈現(xiàn)了晶圓廠的整體能源狀況,,并能有力幫助芯片制造商設(shè)法有效降低能耗,同時(shí)又不影響其他績(jī)效指標(biāo),。

  化學(xué)影響最小化

  在半導(dǎo)體加工中更高效地使用化學(xué)品是一個(gè)值得追求的目標(biāo),。但節(jié)約使用化學(xué)品也應(yīng)有輕重主次之分,而判斷這種輕重主次有時(shí)并非易事,。為幫助晶圓廠解決這個(gè)問(wèn)題,,應(yīng)用材料公司開(kāi)發(fā)了一個(gè)用于建模的框架,以根據(jù)各種化學(xué)品導(dǎo)致的全球變暖效應(yīng)來(lái)模擬我們的系統(tǒng)在使用相應(yīng)化學(xué)品時(shí)所產(chǎn)生的環(huán)境影響,。

  生命周期清單(Life Cycle Inventory, LCI)數(shù)據(jù)模擬了材料生產(chǎn)周期(從原材料提取到交付,,再到最終使用地點(diǎn))產(chǎn)生的二氧化碳排放量。我們?cè)诋a(chǎn)品中經(jīng)常使用的許多化學(xué)品都有LCI數(shù)據(jù)可供查閱,。氦氣和氬氣等惰性氣體盡管并非溫室氣體,,但在生產(chǎn)和運(yùn)輸?shù)骄A廠的過(guò)程中也會(huì)產(chǎn)生碳排放,這種排放有時(shí)被稱(chēng)為“從搖籃到大門(mén)的碳足跡”,。例如,,來(lái)自Sphera的現(xiàn)有LCI數(shù)據(jù)顯示,氦的碳密集度大約是同等體積氬的八倍,。這些洞見(jiàn)有助于我們的工程師在工藝開(kāi)發(fā)過(guò)程中構(gòu)想出更為綠色環(huán)保的方案,。

  我們的框架還考慮了工藝腔室于減排后的排放(亦稱(chēng)“從大門(mén)到墳?zāi)沟奶甲阚E”)。詳細(xì)的研究量化了半導(dǎo)體制造中使用的幾種溫室氣體相對(duì)于二氧化碳的全球變暖潛能值(Global Warming Potential, GWP),。

  

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  100年時(shí)間跨度里碳氟化合物以及半導(dǎo)體行業(yè)常用的其他溫室氣體相對(duì)于二氧化碳的全球變暖潛能值

  我們將這些模型結(jié)合起來(lái),,對(duì)化學(xué)品的使用形成了“從搖籃到墳?zāi)埂钡娜芷谡J(rèn)識(shí),并以此判斷最有利的機(jī)會(huì)來(lái)降低整體環(huán)境影響,。我們把自己的分析與客戶(hù)分享,讓他們能夠把這些知識(shí)應(yīng)用到各自的可持續(xù)發(fā)展工作中,。

  

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  “從搖籃到墳?zāi)埂钡姆秶w了原料化學(xué)品的生產(chǎn)和運(yùn)輸對(duì)全球變暖的影響,,以及減排后的晶圓加工排放

  小即是大

  占地面積是提高晶圓廠可持續(xù)性的一個(gè)重要杠桿點(diǎn),但有時(shí)未被重視,。簡(jiǎn)而言之,,潔凈室占地面積更小的系統(tǒng)可以更高效地利用高能耗共享資源,如空調(diào),、管道和材料,。增加給定占地面積的系統(tǒng)吞吐量可以獲得額外的效益。

  我們正在針對(duì)公司的一些主要產(chǎn)品類(lèi)別進(jìn)行系統(tǒng)設(shè)計(jì)工作,,設(shè)計(jì)完成后可將加工每單位晶圓的占地面積減少20%,。這些改進(jìn)將幫助我們的客戶(hù)實(shí)現(xiàn)其可持續(xù)發(fā)展目標(biāo),,并使今后的每一輪產(chǎn)能擴(kuò)張都更具生態(tài)效益。

  全行業(yè)共同努力

  打造一個(gè)更具可持續(xù)性的半導(dǎo)體行業(yè)是一項(xiàng)需要全球協(xié)力應(yīng)對(duì)的挑戰(zhàn),。我們的“3個(gè)30”目標(biāo)所使用的指標(biāo)將指引應(yīng)用材料公司做出更明智的腔室,、系統(tǒng)和工藝技術(shù)設(shè)計(jì)決策。

  全球經(jīng)濟(jì)需要更多的半導(dǎo)體,,所以幾乎每家芯片制造商都在籌劃建設(shè)新的晶圓廠,。從晶圓廠及其支持設(shè)備,到應(yīng)用材料公司價(jià)值鏈上下游的各個(gè)環(huán)節(jié),,我們致力于同客戶(hù)和供應(yīng)商一道推動(dòng)全方位的可持續(xù)發(fā)展,。掌握了正確的思維,我們這個(gè)行業(yè)必定能夠“實(shí)現(xiàn)更美好的未來(lái)”,。

  作者簡(jiǎn)介:

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  Benjamin Gross, Ph.D.

  Gross 博士是一位化學(xué)家和系統(tǒng)工程師,,就職于應(yīng)用材料公司可持續(xù)發(fā)展卓越設(shè)計(jì)中心。他為應(yīng)用材料公司制造系統(tǒng)“3個(gè)30”目標(biāo)提供了支持,,負(fù)責(zé)監(jiān)控效率改進(jìn)目標(biāo)進(jìn)展情況,。Gross博士擁有哥倫比亞大學(xué)博士學(xué)位、加州大學(xué)伯克利分校學(xué)士學(xué)位,。

 




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