近日,，有媒體報道稱，在芯片全面被美國制裁后,，俄羅斯打算自己研發(fā)光刻機,，并且一出手就對標(biāo)當(dāng)前最牛的ASML的EUV光刻機技術(shù)。

而為了研發(fā)出這種光刻機,，俄羅斯前期投資6．7億盧布（約5400萬元人民幣）,，由有著蘇聯(lián)硅谷中心之稱,、以微電子專業(yè)見長的俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 （MIET）來負責(zé),。

一時之間，網(wǎng)友們沸騰了,，看好者有之,，吐槽者有之。

有人說5400萬就想研發(fā)出比EUV更牛的光刻機,，真的是做夢,，要這么容易，中國早研發(fā)出來了,，佳能,、尼康也不至于被ASML打得找不著北了。

也有人看好,，稱俄羅斯的理論技術(shù)還是很厲害的,，一旦下定決心來研發(fā)，說不定是有可能的,，我們樂觀其成,。

那么俄羅斯要搞的技術(shù)，究竟是什么技術(shù),？為什么說比ASML的EUV光刻機還先進,？其實是一種“無掩膜X射線光刻機”。

原理就是操作波長是0．01nm到10nm之間的X射線,，直接在硅片上,，刻畫出電路圖來,，類似于激光刻章那種。

由于芯片的精度,，一定程度上是與光線相對應(yīng)的,，而EUV采用的是13．9nm波長的光源，所以從光源看,，X射線似乎確實更厲害一點,。

其實這項技術(shù)在30年前就提出來了，但是你想一想,，操縱X射頻,，在硅片上直接刻幾十層、上百億個晶體管的電路圖,，可不是刻章刻幾個字的問題,，你想一想就知道有多難。

所以雖然30多年來一直有研究,，但大家并沒有用于芯片制造,，而是采用了現(xiàn)在的光刻原理，就是先制作電路圖的掩膜,，再通過光刻機來照射,，把掩膜上的電路刻到硅晶圓上，這樣雖然流程很復(fù)雜,，但可操作性就大多了,。

只是現(xiàn)在俄羅斯要想搞光刻機，沒有廠商敢與他合作,，所以不得不另辟蹊徑,，走這條看起來簡單，也不需要太多廠商合作的方式,，這是沒有辦法的辦法,。

至于能不能成功，又誰知道呢,，反正除了ASML外,，其它各國，甚至各大芯片企業(yè)都希望它能夠成功的,，特別是中國,，可是熱切的希望它能夠成功。