近日，有媒體報道稱,，在芯片全面被美國制裁后,，俄羅斯打算自己研發(fā)光刻機，并且一出手就對標當前最牛的ASML的EUV光刻機技術(shù),。

而為了研發(fā)出這種光刻機,，俄羅斯前期投資6．7億盧布（約5400萬元人民幣），由有著蘇聯(lián)硅谷中心之稱,、以微電子專業(yè)見長的俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學院 （MIET）來負責,。

一時之間，網(wǎng)友們沸騰了,，看好者有之,，吐槽者有之。

有人說5400萬就想研發(fā)出比EUV更牛的光刻機,，真的是做夢,，要這么容易，中國早研發(fā)出來了,，佳能,、尼康也不至于被ASML打得找不著北了。

也有人看好,，稱俄羅斯的理論技術(shù)還是很厲害的,，一旦下定決心來研發(fā)，說不定是有可能的,，我們樂觀其成,。

那么俄羅斯要搞的技術(shù)，究竟是什么技術(shù),？為什么說比ASML的EUV光刻機還先進,？其實是一種“無掩膜X射線光刻機”。

原理就是操作波長是0．01nm到10nm之間的X射線,，直接在硅片上,，刻畫出電路圖來，類似于激光刻章那種,。

由于芯片的精度,，一定程度上是與光線相對應的，而EUV采用的是13．9nm波長的光源,，所以從光源看,，X射線似乎確實更厲害一點,。

其實這項技術(shù)在30年前就提出來了，但是你想一想,，操縱X射頻,，在硅片上直接刻幾十層、上百億個晶體管的電路圖,，可不是刻章刻幾個字的問題，你想一想就知道有多難,。

所以雖然30多年來一直有研究,，但大家并沒有用于芯片制造，而是采用了現(xiàn)在的光刻原理,，就是先制作電路圖的掩膜,，再通過光刻機來照射，把掩膜上的電路刻到硅晶圓上,，這樣雖然流程很復雜,，但可操作性就大多了。

只是現(xiàn)在俄羅斯要想搞光刻機,，沒有廠商敢與他合作,，所以不得不另辟蹊徑，走這條看起來簡單,，也不需要太多廠商合作的方式,，這是沒有辦法的辦法。

至于能不能成功,，又誰知道呢,，反正除了ASML外，其它各國,，甚至各大芯片企業(yè)都希望它能夠成功的,，特別是中國，可是熱切的希望它能夠成功,。