近日ASML高管表示摩爾定律依然生效,，依靠現(xiàn)有的EUV光刻機等技術可以進一步將芯片制造工藝推進1納米,，此言論是它在一季度營收下滑19％,、凈利潤幾乎腰斬之后發(fā)出的，這可能是因為它憂慮芯片制造市場發(fā)生變化而給業(yè)界描繪的大餅。

如今的ASML依然是活得很滋潤的，全球芯片制造企業(yè)依然在搶購它的光刻機,，不僅它的新光刻機廣受歡迎，甚至供不應求,，二手光刻機同樣極受歡迎,，尤其是中國芯片企業(yè)的搶購，導致日本的二手光刻機漲價三倍,。

不過由于光刻機的價格實在太昂貴,，導致不少企業(yè)頗有微詞，其中日本芯片企業(yè)最先發(fā)起挑戰(zhàn),，鎧俠聯(lián)合日本的芯片設備企業(yè)研發(fā)的NIL工藝已舍棄了光刻機,，據(jù)日媒的消息指使用NIL工藝可以大幅降低成本，因此鎧俠對于NIL工藝頗為滿意,，預期該項工藝可以延伸至5納米,。

北方某國因為當下的境況難以買到光刻機，因此決定研發(fā)全新技術的光刻機,，正研發(fā)X射線光刻機，X射線的波長比極紫外線的波長更短,，如果這項技術獲得成功可以達到更高的精度,、同時也可以大幅降低成本。

中國由于種種原因難以買到EUV光刻機,，不過中國芯片制造可以DUV光刻機生產(chǎn)7nm工藝,，然后再輔以芯片疊加技術取得相當于5nm工藝的性能，而中國已是全球最大的芯片設備市場,，如果中國對光刻機的需求下滑,，那么對ASML將是重大打擊,。

ASML更擔憂的是光刻機三大客戶臺積電、Intel和三星對光刻機的需求可能下滑,，臺積電已表示在3納米工藝之后,，2納米乃至更先進的工藝開發(fā)將面臨困難，因此它們都將延遲更先進工藝的研發(fā),，如此它們對EUV光刻機的需求將下滑,。

可能ASML正是因為擔憂光刻機的需求在未來出現(xiàn)下滑，因此發(fā)出了這番言論,，以鼓勵投資者,，同時為芯片制造企業(yè)打氣，畢竟它的業(yè)務非常單一,，光刻機是唯一的產(chǎn)品,，如果光刻機的需求下滑，那么它將大傷元氣,。

其實ASML當下面臨的壓力已不僅是光刻機市場可能發(fā)生的變化,，芯片市場也正從供給不足向供給過剩轉(zhuǎn)變，早前它就說全球芯片供給不足將延續(xù),，然而知名蘋果分析師郭明錤和Gartner都給出了不同預測,，郭明錤表示目前手機芯片市場已出現(xiàn)過剩跡象，Gartner則認為下半年或明年將開始出現(xiàn)芯片過剩,。

芯片出現(xiàn)過剩意味著當下正大舉推進的芯片產(chǎn)能擴張將會暫停,，對光刻機的需求將立即出現(xiàn)下降，可能ASML也正是因為擔憂光刻機的需求下滑,，因此不斷發(fā)出正面信息,，既是鼓舞自己也是為了提升投資者信心。

無論如何,，這兩年全球芯片市場已發(fā)生重大變化,，這已對全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈造成了巨大的沖擊，這種變化為ASML帶來了這兩年的好日子,，但是同樣也是因為這種變化必將對ASML的光刻機造成深遠的影響,，繼續(xù)維持這種好日子實在不太現(xiàn)實。