《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > 模擬設(shè)計(jì) > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 光刻機(jī)的三大誤區(qū)

光刻機(jī)的三大誤區(qū)

2022-09-27
來源:半導(dǎo)體風(fēng)向標(biāo)
關(guān)鍵詞: 光刻機(jī) DUV 紫外線 英特爾

1/ DUV和EUV被限,,國內(nèi)擴(kuò)產(chǎn)邏輯破了?

光刻機(jī)大致分為兩類:

1)DUV深紫外線光刻機(jī):可以制備0.13um到28/14/7nm芯片,;

2)EUV極紫外線光刻機(jī):適合7nm到5/4/3nm以下芯片,。

目前情況下DUV光刻機(jī)并不限制中國,,還在正常供應(yīng),因?yàn)楣?yīng)商主要來自于歐洲荷蘭的ASML以及日本Nikon,、佳能,,并不直接受美國禁令,但EUV目前并未買到,。

回顧光刻機(jī)的歷史,,我們發(fā)現(xiàn):DUV技術(shù)由日本和荷蘭獨(dú)立發(fā)展:自2006年超越尼康成為全球光刻機(jī)龍頭以后,,其行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位維持至今。同時(shí),,由于核心浸沒式技術(shù)主要來自臺(tái)積電,,所以美國在DUV領(lǐng)域不具備統(tǒng)治地位,ASML向中國出貨DUV光刻機(jī)也無需得到美國授權(quán),。

EUV自出生就被美國從資本和技術(shù)層面全面掌控(與DUV有本質(zhì)的不同):1997年EUV LLC聯(lián)盟成立,,由英特爾和美國政府牽頭成。ASML在2007年收購美國Brion,,獲取了光刻技術(shù)后,,成功開啟并購美國光刻企業(yè)之路。至此,,美國開始在EUV技術(shù)方面滲入ASML,。2012年,英特爾,、三星,、臺(tái)積電共同買入ASML23%的股權(quán),獲得了ASML光刻機(jī)的優(yōu)先供貨權(quán),,成為了利益共同體,。

2/ 有了光刻機(jī)就能造芯片?

其實(shí)光刻只是半導(dǎo)體前道7大工藝環(huán)節(jié)(光刻,、刻蝕,、沉積、離子注入,、清洗,、氧化、檢測)中的一個(gè)環(huán)節(jié),,雖然是最重要的環(huán)節(jié)之一,,但是離開了其他6個(gè)環(huán)節(jié)中的任何一個(gè)都不行。

集成電路的制造工藝分為“三大四小”工藝:三大(75%):光刻,、刻蝕,、沉積;四?。?5%):清洗,、氧化、檢測,、離子注入,。

一般情況下光刻占整條產(chǎn)線設(shè)備投資的30%,與刻蝕機(jī)(25%),、PVD/CVD/ALD(25%)并列成為最重要的三大前道設(shè)備之一,,所以并不是有了光刻機(jī)就能造芯片,,光刻只是芯片制造工藝流程的中的一個(gè),還需要其他6大前道工藝設(shè)備的支撐,,其重要程度與光刻機(jī)同等重要,。

3/ 中國最緊迫的是造出光刻機(jī)?

其實(shí)目前中國并不缺光刻機(jī),,缺的是其他6大類被美國廠商把持的工藝設(shè)備(沉積,、刻蝕、離子注入,、清洗,、氧化、檢測),。

中國半導(dǎo)體未來將從全部外循環(huán),,轉(zhuǎn)向外循環(huán)+內(nèi)循環(huán)的雙循環(huán)架構(gòu),基于半導(dǎo)體是全球化深度分工的現(xiàn)實(shí),,外循環(huán)也就是團(tuán)結(jié)非美系設(shè)備商依舊是重點(diǎn)和現(xiàn)實(shí)的選擇,。

目前前道設(shè)備格局是:1)光刻機(jī):由歐洲ASML和日本Nikon和Canon壟斷;2)刻蝕,、沉積,、離子注入、清洗,、氧化,、檢測設(shè)備:由美國和日本壟斷,其中檢測設(shè)備由美系的KLA深度壟斷,。

所以現(xiàn)在中國半導(dǎo)體擴(kuò)產(chǎn)大背景下的內(nèi)外雙循環(huán)的當(dāng)務(wù)之急是依靠國產(chǎn)和聯(lián)合歐洲,、日本去替代美國把持的非光刻設(shè)備,所以,,與絕大多數(shù)人理解的不同,中國半導(dǎo)體制造并不缺光刻機(jī),。



更多信息可以來這里獲取==>>電子技術(shù)應(yīng)用-AET<<

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn),。轉(zhuǎn)載的所有的文章,、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有,。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者,。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,,請及時(shí)通過電子郵件或電話通知我們,,以便迅速采取適當(dāng)措施,,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話:010-82306118,;郵箱:[email protected],。