財(cái)聯(lián)社10月5日訊（編輯 趙昊）當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二（10月4日），美國(guó)最大內(nèi)存芯片制造商美光科技在官網(wǎng)宣布,，公司計(jì)劃在紐約州中部打造一個(gè)巨型晶圓廠，以促進(jìn)在美存儲(chǔ)芯片的生產(chǎn),。

　　聲明稱,，在未來(lái)20年，美光計(jì)劃向工廠總共投資高達(dá)1000億美元,，這將成為紐約州歷史上最大的私人投資,，能為當(dāng)?shù)貏?chuàng)造約50,000個(gè)就業(yè)機(jī)會(huì)。在項(xiàng)目周期內(nèi),，紐約州還將為工廠提供55億美元的資金激勵(lì),，支持工廠招聘和資本投資。

　　美光將向一期項(xiàng)目投資200億美元,，在克萊鎮(zhèn)新建一個(gè)巨型內(nèi)存工廠,，2023年開始場(chǎng)地準(zhǔn)備工作，2024年開始施工,，2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),，并在2026年-2030年間根據(jù)行業(yè)需求逐步增產(chǎn)。

　　聲明指出,，這座工廠最終可能包含四個(gè)600,000平方英尺的潔凈室——半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)廠房,，總計(jì)面積能達(dá)到240萬(wàn)平方英尺，規(guī)模接近40個(gè)橄欖球場(chǎng)的大小,，創(chuàng)美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)歷史之最,。

　　美光透露，紐約工廠將采用最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工藝和工具,，包括極紫外線（EUV） 光刻技術(shù),，以鞏固公司在DRAM行業(yè)中的領(lǐng)先地位。

　　在2031年-2040年期間,，美光將致力于推動(dòng)DRAM在美產(chǎn)量的增長(zhǎng),，目標(biāo)是占全球產(chǎn)量的40%以上。

　　在聲明中,，美光還提到了美國(guó)政府不久前簽署的《芯片與科學(xué)法案》（Chips and Science Act）,。公司首席執(zhí)行官桑杰·梅羅特拉表示，“毫無(wú)疑問,，如果沒有這項(xiàng)法案,，我們就不會(huì)有今天,。”

　　目前這項(xiàng)法案已經(jīng)促成了包含格芯,、SK海力士,、環(huán)球晶圓等多家芯片公司在美設(shè)廠的計(jì)劃。

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