自2022年初俄烏沖突爆發(fā)之后,，以蘋果、英特爾,、AMD等為代表的西方科技巨頭紛紛暫停了自己在俄羅斯當?shù)氐南嚓P業(yè)務,，幾乎所有先進晶圓制造商都停止了與俄羅斯實體的合作，就連ARM也無法將他們的技術授權給俄羅斯的芯片設計師,。

為了解決技術被“卡脖子”的問題,，俄羅斯科學院下諾夫哥羅德應用物理研究所（IPF RAS）正在緊鑼密鼓地研發(fā)俄羅斯首套半導體光刻設備，并對外宣稱“這套自行研發(fā)的光刻機將于2028年問世,，不僅能夠生產(chǎn)出7nm芯片,，還可以擊敗ASML同類產(chǎn)品”。

根據(jù)俄羅斯下諾夫哥羅德策略發(fā)展機構的一份公文顯示，該計劃將在6年內分為三個階段實現(xiàn)：

● 第一階段：首先要在2024年開發(fā)一臺alpha機器,，驗證系統(tǒng)的全面可靠性,。這一階段的重點不在于其工作或解決的高速性，而在于所有系統(tǒng)的全面性,。

● 第二階段：到了2026年,，將利用Beta版本取代alpha技術，屆時所有系統(tǒng)都將得到改進和優(yōu)化,，同時分辨率也將得到提升,，生產(chǎn)力也將隨之提高，許多操作都將實現(xiàn)機械自動化,。這一階段的重點是,，要將其集成到實際的技術流程中，并通過“拉起”適合其他生產(chǎn)階段的設備對其進行調試,。

● 第三階段：到了2028年,，將完成所有準備工作，并實現(xiàn)原型機生產(chǎn),，屆時將為光刻機帶來更強的光源,、改進的定位和饋送系統(tǒng)，并使得這套光刻系統(tǒng)能夠快速準確地工作,。

據(jù)21ic家了解,，俄羅斯此前宣布過一項國家計劃，那就是希望通過“逆向工程”培養(yǎng)本土化半導體人才,，力爭在2030年突破28nm芯片制造技術,。

然而，要想實現(xiàn)這個目標并不容易,，因為俄羅斯目前只能大量生產(chǎn)90nm芯片,，小規(guī)模生產(chǎn)65nm芯片，暫時還無法做到更先進的工藝,。所以,，在芯片制造方面還不敢奢望更為先進的技術。

可是,，IPF RAS卻認為這項計劃過于保守,，并對外放出豪言“6年內就能突破7nm技術節(jié)點”。

要知道,，從28nm到7nm工藝,，中間間隔著至少三代以上的差距，哪怕像荷蘭光刻機巨頭ASML和應用材料等公司,，按照正常情況下的發(fā)展,，也要花費十年甚至幾十年的時間才能完成,。

所以，該消息一經(jīng)發(fā)布,，便立刻在全球網(wǎng)絡上引發(fā)了巨大的熱議,。

業(yè)界普遍認為，IPF RAS的想法太過天真,，這是一個無法完成的任務,，要想在6年內僅憑自己的力量研發(fā)出可以媲美ASML十年積淀的光刻技術，實在是有點難以令人相信,！

另外,，從各大媒體的表態(tài)來看，似乎也更愿意相信這是IPF RAS的一種“美好愿望”,，最終能否實現(xiàn)還很難講,，因為光刻機領域需要的不僅僅是金錢與時間的投入，而晶圓廠也并非僅靠光刻機就能生產(chǎn)出芯片,，還需要許多外圍設備,，而俄羅斯目前并不滿足獨立生產(chǎn)這些設備的條件。

不過,，也有網(wǎng)友對其表示欽佩,，認為俄羅斯是公認的“戰(zhàn)斗民族”，一定會說到做到,。

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