眾所周知,，目前所有的芯片制造，均要經(jīng)過(guò)光刻這么一個(gè)工藝,，所以光刻機(jī)是必不可少的半導(dǎo)體設(shè)備,。

而光刻機(jī)與芯片的工藝是相對(duì)應(yīng)的，比如EUV光刻機(jī)用于7nm及以下,，DUV光刻機(jī)用于7－180nm,。還有UV（i－line）光刻機(jī)，主要用于0．35um工藝,。

而DUV光刻機(jī)又分為ArFi光刻機(jī),，用于45－7nm；而ArF Dry用于65nm,，還有KrF用于180nm等等,。

目前全球的光刻機(jī)廠商，真不多,，特別是用于芯片制造的,，也就是前道光刻機(jī)，全球也就四家,，分別是ASML,、日本的佳能,、尼康、上海微電子,。

其中ASML是最牛的,， 特別是EUV光刻機(jī)，僅ASML一家廠商能制,，可以說(shuō)ASML卡住了全球先進(jìn)晶圓廠的脖子,。

但事實(shí)上，除了EUV光刻外,，ASML在DUV領(lǐng)域的光刻機(jī),，也是一頂一的，全球沒(méi)有對(duì)手,。

據(jù)機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)銷售情況表,，上面列出了3大巨頭，在各種光刻機(jī)上面的銷售數(shù)據(jù),。

數(shù)據(jù)顯示,，全球一共售出478臺(tái)前道光刻機(jī)，被ASML,、尼康,、佳能瓜分了。其中ASML拿下了其中的309臺(tái),，占比為65％,，接近三分之二的市場(chǎng)。而尼康為6％,，佳能為29％,。

但是在高端EUV光刻機(jī)領(lǐng)域,，ASML占據(jù)了100％的市場(chǎng),，而在次高端的在ArFi和ArF光刻機(jī)領(lǐng)域，也分別占據(jù)96％和88％的市場(chǎng),。

至于佳能,，尼康，則主要集中在最低端的還有UV（i－line）光刻機(jī)領(lǐng)域,，在次高端的DUV領(lǐng)域,，都表現(xiàn)一般。

至于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),，雖然可以用于90nm,，但其實(shí)晶圓廠們用得非常少，并且主要不是用于前道,，也就是晶圓制造這一塊,，更多是用于后道,，比如封測(cè)等領(lǐng)域。

畢竟光刻機(jī)要與其它的產(chǎn)品一起協(xié)同工作的,，這一塊國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)并不占優(yōu),，很多晶圓廠在有選擇的情況下，一般不選擇國(guó)產(chǎn),，而是選擇與其它設(shè)備早就兼容聯(lián)調(diào)好的國(guó)外產(chǎn)品,。

當(dāng)然，目前全球也在研發(fā)其它技術(shù)的光刻機(jī),，比如多電子束直寫光刻機(jī)（MEB）,、定向自組裝技術(shù)（DSA）、nm壓印技術(shù)（NIL）等不同新技術(shù)也,，希望這些技術(shù)有所突破,，那么我們就不必依賴ASML了，否則真的太難超越它了,。

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