眾所周知,，目前所有的芯片制造,，均要經過光刻這么一個工藝,，所以光刻機是必不可少的半導體設備,。

而光刻機與芯片的工藝是相對應的,，比如EUV光刻機用于7nm及以下,，DUV光刻機用于7－180nm。還有UV（i－line）光刻機,，主要用于0．35um工藝,。

而DUV光刻機又分為ArFi光刻機，用于45－7nm,；而ArF Dry用于65nm,，還有KrF用于180nm等等。

目前全球的光刻機廠商,，真不多,，特別是用于芯片制造的，也就是前道光刻機,，全球也就四家,，分別是ASML、日本的佳能,、尼康,、上海微電子。

其中ASML是最牛的,， 特別是EUV光刻機,，僅ASML一家廠商能制,，可以說ASML卡住了全球先進晶圓廠的脖子。

但事實上,，除了EUV光刻外,，ASML在DUV領域的光刻機，也是一頂一的,，全球沒有對手,。

據機構統(tǒng)計的2021年全球半導體前道光刻機銷售情況表，上面列出了3大巨頭,，在各種光刻機上面的銷售數據,。

數據顯示，全球一共售出478臺前道光刻機,，被ASML,、尼康、佳能瓜分了,。其中ASML拿下了其中的309臺,，占比為65％，接近三分之二的市場,。而尼康為6％,，佳能為29％。

但是在高端EUV光刻機領域,，ASML占據了100％的市場,，而在次高端的在ArFi和ArF光刻機領域，也分別占據96％和88％的市場,。

至于佳能,，尼康，則主要集中在最低端的還有UV（i－line）光刻機領域,，在次高端的DUV領域,，都表現一般。

至于國產光刻機,，雖然可以用于90nm,，但其實晶圓廠們用得非常少，并且主要不是用于前道,，也就是晶圓制造這一塊,，更多是用于后道，比如封測等領域,。

畢竟光刻機要與其它的產品一起協(xié)同工作的,，這一塊國產光刻機并不占優(yōu)，很多晶圓廠在有選擇的情況下，一般不選擇國產,，而是選擇與其它設備早就兼容聯調好的國外產品,。

當然，目前全球也在研發(fā)其它技術的光刻機,，比如多電子束直寫光刻機（MEB）,、定向自組裝技術（DSA）、nm壓印技術（NIL）等不同新技術也,，希望這些技術有所突破,，那么我們就不必依賴ASML了，否則真的太難超越它了,。

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