到處肆虐的半導(dǎo)體寒風(fēng)在ASML的投資者日會議上戛然而止,，接連上修的營收展望,、持續(xù)推進(jìn)的產(chǎn)能擴大計劃、強勁的未來需求,，就連摩根士丹利分析師Lee Simpson也在近日大喊加碼,，ASML的周圍充滿了春天生機盎然的氣息，這與一眾在半導(dǎo)體寒冬中瑟瑟發(fā)抖的設(shè)備廠商相比,，顯得尤為“格格不入”,。

　　這家光刻機龍頭似乎總有一股魔力，哪怕在10月份,，整體半導(dǎo)體設(shè)備廠商的股價都步入低谷之際,，ASML依舊讓投資機構(gòu)給出了超凡的估值。Khaveen Investments在10月11日的報告中,，給出了ASML 24.29x的企業(yè)估值數(shù)據(jù),，而他們認(rèn)為半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)平均EV / EBITDA （EV/EBITDA 又稱企業(yè)價值倍數(shù)，是一種被廣泛使用的公司估值指標(biāo)）僅為12.37 x,，是 ASML的一半，其余KLA,、Lam Research,、應(yīng)用材料,、Tokyo Electron (TEL)等幾家設(shè)備巨頭的估值甚至皆未達(dá)到均值。

　　自2018年后,，光刻機的熱度就喧囂塵上,，但在眾多半導(dǎo)體設(shè)備中，光刻機突出的,，可遠(yuǎn)不止它的超高話題度…

　　一枝獨秀的光刻機廠商

　　雖然常有半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈“賣鏟人”之稱,，但今年半導(dǎo)體設(shè)備廠商也并不好過，此前《市值暴跌的半導(dǎo)體設(shè)備巨頭》一文指出,，今年以來,，下滑的需求，腰斬的市值,、消退的熱情,、縮減的資本都讓半導(dǎo)體設(shè)備廠商處于水深火熱之中。即便近一個月設(shè)備廠商們的股價有所回升,，但籠罩在他們未來展望上的陰霾卻并沒有消散,。

　　TEL甚至4年來首度下砍財測。11月10日,，TEL發(fā)布新聞稿稱,，因總體經(jīng)濟(jì)放緩疑慮、地緣政治風(fēng)險,，導(dǎo)致半導(dǎo)體廠商的設(shè)備投資出現(xiàn)暫緩/抑制傾向,，造成營收預(yù)估將遜于原先預(yù)期，因此今年度（2022年4月至2023年3月）合并營收目標(biāo)自原先預(yù)估的2.35兆日圓下砍2,500億日圓至2.1兆日圓,，合并營益目標(biāo)自7,160億日圓下修1,700億日圓至5,460億日圓,，合并純益目標(biāo)也自5,230億日圓下修1,230億日圓至4,000億日圓。

　　除此之外,，Lam Research此前估計明年損失20億至25億美元收入,；KLA初估明年營收損失達(dá)9億美元；AMAT雖然還未公布季度財報,，但在過去幾個月,，分析師一直看跌他們的盈利前景，九次向下修正盈利預(yù)測,，投資機構(gòu)Zacks預(yù)測每股盈利為 1.73 美元,，表明收益同比下降約10%。

　　然而,，在這“愁,，愁，愁”的氛圍中，ASML和佳能兩家光刻機廠商卻展現(xiàn)出了前所未有的產(chǎn)業(yè)生機,。

　　ASML：營收預(yù)測“向上而生”

　　由于看好市場對先進(jìn)芯片生產(chǎn)設(shè)備的需求強勁,，ASML于11月10日上調(diào)了2025年的營收展望，預(yù)估到2025年時營收將達(dá)300億-400億歐元（約309至412億美元）,，高于之前預(yù)估的240億-300億歐元,，也優(yōu)于分析師平均預(yù)估的320億歐元。ASML還指出,，未來十年的業(yè)績將持續(xù)增長,，到2030年時的銷售目標(biāo)為440億-600億歐元，并持續(xù)提高產(chǎn)能,。

　　按照ASML 2021年186億歐元的營收估算,，到了2025年ASML營收增長率為61.3%-115%，到2030年營收增長率為136.6%-222.6%,。雖然這個數(shù)據(jù)看起來很嚇人,，但對于ASML來說，可能只是屬于正常增長,，因為過去十年,，它就是這么成長而來的。2012年,，ASML營收僅為47.32億歐元,，到了2016年就已經(jīng)增長至68.75億歐元，由此來看,，2012-2021十年間,，ASML營收成長率高達(dá)295.7%，而2016-2021五年間,，成長率則為169.6%,。事實證明，現(xiàn)實數(shù)據(jù)只會更加驚人,。

　　想要實現(xiàn)這樣的營收預(yù)期,，產(chǎn)能的擴充自然是必不可少的。一直以來,，ASML的光刻機都處于一個供不應(yīng)求的狀態(tài),，產(chǎn)能越多，營收才能更多,，尤其那些適用于先進(jìn)制程的EUV,、High NA EUV設(shè)備，雖然制作難度上升,，但相對的價格也是水漲船高,。從ASML擴產(chǎn)計劃來看,，到2025-2026年EUV年產(chǎn)能增加到 90 臺，過去十年間,，ASML EUV出貨量從2012年的1臺,，增長到了2021年的42臺，隨著產(chǎn)能的增加,，未來五年/十年EUV的出貨量肯定也會取得顯著增長。

　　到2027-2028年,，ASML還計劃將 High-NA EUV 產(chǎn)能增加到 20 個系統(tǒng),，據(jù)路透社此前報道,新一代High-NA EUV設(shè)備訂價約4億美元，上一代EUV光刻機售價大約1.2億美元,，這就意味著High-NA EUV設(shè)備售價提升了兩倍多,。今年年初ASML收到來自英特爾的最新款High-NA EUV「EXE:5200」首張訂單，英特爾預(yù)計到2025年該設(shè)備加入量產(chǎn),，除英特爾外,，目前臺積電、三星等一線晶圓廠也都已預(yù)購了High-NA EUV ,。

　　與EUV/High-NA EUV相比,，DUV就便宜了很多，平均每臺售價約0.28億歐元,，但這并不妨礙其成為此次擴產(chǎn)的主力軍,。ASML計劃到2025-2026年，DUV 系統(tǒng)的年產(chǎn)能增加到600個,，幾乎是2019-2021年ASML 3年的DUV出貨總量,，數(shù)據(jù)顯示，2021年ASML共出貨了234臺DUV光刻機,，2020年共出貨193臺,，2019年共出貨169臺，三年總計596臺,，可見此次ASML擴產(chǎn)力度不可小覷,。

　　佳能：產(chǎn)能翻番

　　在光刻機的擴產(chǎn)方面，并不是只有ASML在行動,，“落魄”的光刻機貴族佳能居然時隔21年宣布擴產(chǎn)計劃,。之所以說“落魄”，想必大家都知道,，佳能光刻機在上世紀(jì)也是一方霸主的存在,，但在干濕路線之爭之后，佳能就有些趕不上ASML的步伐了,，尤其在EUV設(shè)備領(lǐng)域,，更是難以望其項背。

　　在過去相機是佳能的主營業(yè)務(wù)，但近些年全球數(shù)碼相機業(yè)務(wù)持續(xù)下滑,，佳能也難免受到?jīng)_擊,，而光刻機業(yè)務(wù)卻逐漸成為了增長動力，畢竟據(jù)華爾街日報去年年底報道,，1995年制造的二手光刻機佳能FPA3000i4,，在2014年10月只值10萬美元，今天則值170萬美元,，漲價17倍,。二手的都這么搶手，一手的更不用多說了,。

　　目前,，佳能主要在宇都宮事務(wù)所（宇都宮市）和阿見事務(wù)所（茨城縣阿見町）等2處日本工廠生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備，專注于i-line到KrF的低端光刻機系列,。佳能財報顯示,，未來隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加，佳能的光刻機業(yè)務(wù)還會持續(xù)增長,。

　　或許是覺得“與其讓黃牛賺這個錢還不如讓我自己賺”,，又或許是受到地緣政治的影響，也有可能是力壓的NIL（納米壓印光刻）技術(shù)有了突破性進(jìn)展,，總之,，這個曾經(jīng)的光刻機龍頭時隔21年宣布擴產(chǎn)。

　　據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)10月初報道,，佳能將在宇都宮事務(wù)所內(nèi)約7萬平方米的空地上建設(shè)半導(dǎo)體光刻設(shè)備的新工廠,，包括廠房建設(shè)費用和生產(chǎn)設(shè)備在內(nèi)的總投資額預(yù)計達(dá)到540～560億日元左右，將于2023年內(nèi)開工建設(shè),，產(chǎn)能將提高至現(xiàn)在的2倍,，力爭2025年春季投入運行。

　　值得注意的是,，日經(jīng)新聞網(wǎng)還指出,，新工廠還計劃開發(fā)新一代設(shè)備，這新一代設(shè)備就是上述提到的NIL設(shè)備,，NIL是一種復(fù)制納米尺度特征的有效技術(shù),，2003年就被添加到ITRS路線圖中，作為NIL技術(shù)的擁護(hù)者,，佳能早在2004年就開始這項技術(shù)的研發(fā),，目前已經(jīng)在存儲領(lǐng)域取得了顯著進(jìn)展（和佳能共同開發(fā)的NIL技術(shù)的鎧俠已掌握NIL 15nm的制程量產(chǎn)技術(shù)，目前正在進(jìn)行15nm以下技術(shù)研發(fā),，預(yù)計2025年進(jìn)一步達(dá)成）,。據(jù)悉,，為了實現(xiàn)NIL系統(tǒng)的快速升級，佳能還應(yīng)用機器學(xué)習(xí)和AI技術(shù)進(jìn)一步提高系統(tǒng)性能,，提高生產(chǎn)力,，并實現(xiàn)更自主的控制?；蛟S,，佳能NIL設(shè)備的量產(chǎn)已經(jīng)指日可待了。

　　不得不承認(rèn),，近期內(nèi)佳能在光刻機領(lǐng)域的布局并不少,，今年4月初，日經(jīng)新聞還報道稱,，佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體3D技術(shù)的光刻機，新產(chǎn)品通過在原基礎(chǔ)上改進(jìn)透鏡和鏡臺等光學(xué)零部件,，來提高曝光精度,，曝光面積達(dá)到原產(chǎn)品的4倍。為了增加布線密度,，新產(chǎn)品還提高了分辨率,，支持1微米的線寬。不過,，該新產(chǎn)品最早于2023年上半年上市,，從時間來看，或許還是在原有廠房內(nèi)制造,。

　　產(chǎn)能方面,，佳能預(yù)測2022年半導(dǎo)體光刻設(shè)備的銷量比上年增長29％，增至180臺,，最近10年內(nèi)激增至4倍,，建設(shè)新工廠后，2個基地的總產(chǎn)能將增至約2倍,。產(chǎn)能和研發(fā)兩手抓的佳能,，能否在未來擴大自己光刻機的市占率，我們也拭目以待,。

　　尼康雖然暫未傳出擴產(chǎn)消息,，但據(jù)日經(jīng)新聞8月報道，尼康預(yù)計2025財年（截至2026年3月）將把半導(dǎo)體光刻機主力機型的年銷量增至截至2021財年（截至2022年3月）3年平均銷量的2倍以上,，以2023年上市的支持3D半導(dǎo)體的新產(chǎn)品為中心,，開拓英特爾以外的日本、中國大陸,、臺灣客戶,。雖然并非是尖端的光刻機,，但尼康認(rèn)為通過支持3D實現(xiàn)附加價值，可以提高在行業(yè)里的影響力,。

　　光刻機為何如此“耐打”

　　同為半導(dǎo)體制造不可或缺的設(shè)備,，為什么光刻機就如此“耐打”？筆者分析,，主要有以下三大原因：

　　原因一：先進(jìn)制程設(shè)備的訂單比產(chǎn)能擴張計劃更具黏性,。

　　光刻技術(shù)是芯片制造工藝中最關(guān)鍵的一步，芯片技術(shù)之所以能在過去60年間,，一步步從百微米發(fā)展到如今的3nm,，光刻機功不可沒，沒有光刻機,，摩爾定律或許無法延伸到現(xiàn)在,。在芯片制造過程中，光刻機身處最前道,，只有通過光刻機把掩膜版上的電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的抗蝕劑膜上,，才能進(jìn)行后續(xù)的化學(xué)顯影、定影,、清洗和檢測等工序,，沒有光刻機，再優(yōu)秀的芯片設(shè)計也只會是“鏡中花,，水中月”,，無法轉(zhuǎn)換成對我們有用的芯片。

　　而對于臺積電,、三星,、英特爾等一線晶圓代工廠來說，想要搶在競爭對手前面率先取得先進(jìn)制程的突破,，繞不開光刻機,，畢竟“巧婦難為無米之炊”，沒有先進(jìn)的光刻機就不可能制造出采用先進(jìn)制程工藝的芯片,，所以大廠們才會在去年年底就開始爭先下單ASML High-NA EUV,。High-NA EUV作為進(jìn)入到未來2nm，甚至是“埃米時代”的入場券,，只有擁有了它,，玩家才有資格參與到下一輪的先進(jìn)制程斗爭中。

　　這也是開頭Lee Simpson在低迷市場情勢下大喊加碼ASML的原因所在,，Lee Simpson認(rèn)為,，ASML比大多數(shù)同行有更好的條件挺過去，因為先進(jìn)工具的訂單往往比產(chǎn)能擴張計劃更具黏性,。他指出,，盡管ASML知道更廣泛芯片業(yè)的需求有些疲軟,，但它可以證明自己深具韌性，此前大量積壓的訂單可以支撐到2023年,，屆時供應(yīng)鏈條件改善可提高毛利率,，而且ASML的EUV具有戰(zhàn)略性質(zhì)。

　　原因二：存儲業(yè)務(wù)占比相對較少,，晶圓代工需求旺盛,。

　　近期設(shè)備廠商之所以步履薄冰，最大關(guān)鍵點就是受到短期內(nèi)個人計算機和智能手機需求放緩影響,，臺積電,、SK海力士、美光,、英特爾等芯片廠商都在放緩資本支出,。這其中，以存儲廠商資本支出縮減最為嚴(yán)重,，存儲芯片是一個市場周期波動性比較大的行業(yè),，面對當(dāng)前不景氣的終端市場，包括SK海力士,、美光、鎧俠,、南亞科在內(nèi)眾多存儲廠商大幅縮減資本支出,，動蕩的下游市場自然對設(shè)備廠商產(chǎn)生了極大的影響，因為在廠商的資本縮減中,，設(shè)備投資減少首當(dāng)其中,。

　　Khaveen Investments數(shù)據(jù)顯示，存儲業(yè)務(wù)是Lam Research最大的業(yè)務(wù),，61%的營收來自于此,；TEL的存儲收入占了51.3%，TEL日前下修財測的原因中就包括了內(nèi)存廠商變更或延后設(shè)備投資,；AMAT的存儲收入則占了40%,；相比下ASML 29.8%的存儲收入占比遠(yuǎn)低于其他幾家設(shè)備廠商，因此其受到的資本縮減影響也相對較少,。

　　另一方面,，雖然晶圓代工廠的資本支出也所有縮減，但從長期來看,，芯片制造競爭加劇,，美歐日韓中等多地區(qū)都在努力扶植本土的芯片生產(chǎn)，將促成芯片產(chǎn)業(yè)所需產(chǎn)能的提高,。Khaveen Investments根據(jù)各大廠商透露的消息,，預(yù)計存儲芯片制造商的資本支出將在2023年下降,，而邏輯芯片制造商的資本支出將在2023年回升。

　　TrendForce也指出,，2022 年晶圓代工產(chǎn)值成長來自市場需求,，市場疲弱造成庫存調(diào)整，沖擊 2023 年產(chǎn)值僅成長 2.7%,。即便如此,，2023 年晶圓代工產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值仍會持續(xù)成長，因臺積電預(yù)計市占逼近六成,，加上強勢漲價與高單價 3 nm制程晶圓挹注,，使臺積電有高個位數(shù)成長，帶動 2023 年晶圓代工產(chǎn)值成長,。這無疑又給邏輯芯片占據(jù)大頭的光刻機廠商增添了底氣,。

　　原因三：歐日廠商主導(dǎo)光刻機市場，受美國禁令影響比純美系廠商小,。

　　目前,，全球三大光刻機廠商分別是ASML、佳能和尼康,，其中ASML屬于歐洲廠商,，佳能和尼康則均為日本廠商，這點從彭博社此前統(tǒng)計的芯片設(shè)備制造商命運因地點而異的圖表就可以體現(xiàn)出,。

　　據(jù)彭博社報道,，分析師預(yù)計Lam Research、KAL,、AMAT這三家美國公司的明年收入下降幅度將超過日本同行,。Lam Research 已經(jīng)預(yù)計2023年在華收入減少20億-25億美元，KAL也初估受美禁令影響明年營收損失達(dá)9億美元,，雖然日本的TEL營收也受到了影響,，但相比上述三家，影響較少,。

　　從ASML財報來看,，中國大陸在2021年的時候就不是ASML的最大銷售市場，銷售額僅為 16%,。據(jù)路透社報道,，ASML首席執(zhí)行官 Peter Wennink 上周五對投資者表示，如果中國芯片制造商無法將產(chǎn)能擴大到當(dāng)前水平以上,，ASML也不會改變其 2030 年的營收預(yù)測,。Wennink表示：“雖然我不愿意看到，但如果地緣政治形勢是這樣,，如果中國被排除在任何增長之外,，但芯片需求還是在那里,，晶圓廠將會建在其他地方。雖然這可能會存在短暫的問題,，但最終我們?nèi)孕枰圃爝@些芯片,。“

　　而從某種意義上說,，ASML在中國市場上空出的份額,，有一定幾率由佳能和尼康來填補，畢竟目前來看,，這兩家廠商的光刻機主要屬于中低端系列,，受到美國禁令影響更小。

　　寫在最后

　　大家都知道半導(dǎo)體行業(yè)是周期性的,，雖然現(xiàn)在行業(yè)整體都處于下行周期,，但總有一天會迎來轉(zhuǎn)折點，迎來新契機,。不過,，那都是未來的事情了，沒有當(dāng)下,，何談未來,？

　　因此，現(xiàn)下我們需要考慮的就是如何度過低迷時期,，總結(jié)光刻機之所以“耐打”,，就是因為它足夠強。技術(shù)夠強,，所以能在半導(dǎo)體制造中有著舉足輕重的地位；ASML也因為夠強,，所以客戶更具黏性,。當(dāng)然，本土廠商除了勤修內(nèi)功,，努力變強外,，還需要多元化布局，即便是存儲,、邏輯雙重布局的設(shè)備巨頭都因比重問題受到了不小的影響,，更不用說單一性布局的其他廠商了，在特殊時期,，受到的影響只會更大,。

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