到處肆虐的半導(dǎo)體寒風(fēng)在ASML的投資者日會議上戛然而止,接連上修的營收展望,、持續(xù)推進的產(chǎn)能擴大計劃、強勁的未來需求,,就連摩根士丹利分析師Lee Simpson也在近日大喊加碼,,ASML的周圍充滿了春天生機盎然的氣息,這與一眾在半導(dǎo)體寒冬中瑟瑟發(fā)抖的設(shè)備廠商相比,,顯得尤為“格格不入”,。
這家光刻機龍頭似乎總有一股魔力,哪怕在10月份,,整體半導(dǎo)體設(shè)備廠商的股價都步入低谷之際,,ASML依舊讓投資機構(gòu)給出了超凡的估值。Khaveen Investments在10月11日的報告中,,給出了ASML 24.29x的企業(yè)估值數(shù)據(jù),,而他們認(rèn)為半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)平均EV / EBITDA (EV/EBITDA 又稱企業(yè)價值倍數(shù),是一種被廣泛使用的公司估值指標(biāo))僅為12.37 x,,是 ASML的一半,,其余KLA、Lam Research,、應(yīng)用材料,、Tokyo Electron (TEL)等幾家設(shè)備巨頭的估值甚至皆未達到均值。
自2018年后,,光刻機的熱度就喧囂塵上,,但在眾多半導(dǎo)體設(shè)備中,光刻機突出的,,可遠不止它的超高話題度…
一枝獨秀的光刻機廠商
雖然常有半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈“賣鏟人”之稱,,但今年半導(dǎo)體設(shè)備廠商也并不好過,此前《市值暴跌的半導(dǎo)體設(shè)備巨頭》一文指出,,今年以來,,下滑的需求,腰斬的市值,、消退的熱情,、縮減的資本都讓半導(dǎo)體設(shè)備廠商處于水深火熱之中。即便近一個月設(shè)備廠商們的股價有所回升,,但籠罩在他們未來展望上的陰霾卻并沒有消散,。
TEL甚至4年來首度下砍財測。11月10日,,TEL發(fā)布新聞稿稱,,因總體經(jīng)濟放緩疑慮、地緣政治風(fēng)險,導(dǎo)致半導(dǎo)體廠商的設(shè)備投資出現(xiàn)暫緩/抑制傾向,,造成營收預(yù)估將遜于原先預(yù)期,,因此今年度(2022年4月至2023年3月)合并營收目標(biāo)自原先預(yù)估的2.35兆日圓下砍2,500億日圓至2.1兆日圓,合并營益目標(biāo)自7,160億日圓下修1,700億日圓至5,460億日圓,,合并純益目標(biāo)也自5,230億日圓下修1,230億日圓至4,000億日圓,。
除此之外,Lam Research此前估計明年損失20億至25億美元收入,;KLA初估明年營收損失達9億美元,;AMAT雖然還未公布季度財報,但在過去幾個月,,分析師一直看跌他們的盈利前景,九次向下修正盈利預(yù)測,,投資機構(gòu)Zacks預(yù)測每股盈利為 1.73 美元,,表明收益同比下降約10%。
然而,,在這“愁,,愁,愁”的氛圍中,,ASML和佳能兩家光刻機廠商卻展現(xiàn)出了前所未有的產(chǎn)業(yè)生機,。
ASML:營收預(yù)測“向上而生”
由于看好市場對先進芯片生產(chǎn)設(shè)備的需求強勁,ASML于11月10日上調(diào)了2025年的營收展望,,預(yù)估到2025年時營收將達300億-400億歐元(約309至412億美元),,高于之前預(yù)估的240億-300億歐元,也優(yōu)于分析師平均預(yù)估的320億歐元,。ASML還指出,,未來十年的業(yè)績將持續(xù)增長,到2030年時的銷售目標(biāo)為440億-600億歐元,,并持續(xù)提高產(chǎn)能,。
按照ASML 2021年186億歐元的營收估算,到了2025年ASML營收增長率為61.3%-115%,,到2030年營收增長率為136.6%-222.6%,。雖然這個數(shù)據(jù)看起來很嚇人,但對于ASML來說,,可能只是屬于正常增長,,因為過去十年,它就是這么成長而來的,。2012年,,ASML營收僅為47.32億歐元,到了2016年就已經(jīng)增長至68.75億歐元,由此來看,,2012-2021十年間,,ASML營收成長率高達295.7%,而2016-2021五年間,,成長率則為169.6%,。事實證明,現(xiàn)實數(shù)據(jù)只會更加驚人,。
想要實現(xiàn)這樣的營收預(yù)期,,產(chǎn)能的擴充自然是必不可少的。一直以來,,ASML的光刻機都處于一個供不應(yīng)求的狀態(tài),,產(chǎn)能越多,營收才能更多,,尤其那些適用于先進制程的EUV,、High NA EUV設(shè)備,雖然制作難度上升,,但相對的價格也是水漲船高,。從ASML擴產(chǎn)計劃來看,到2025-2026年EUV年產(chǎn)能增加到 90 臺,,過去十年間,,ASML EUV出貨量從2012年的1臺,增長到了2021年的42臺,,隨著產(chǎn)能的增加,,未來五年/十年EUV的出貨量肯定也會取得顯著增長。
到2027-2028年,,ASML還計劃將 High-NA EUV 產(chǎn)能增加到 20 個系統(tǒng),,據(jù)路透社此前報道,新一代High-NA EUV設(shè)備訂價約4億美元,上一代EUV光刻機售價大約1.2億美元,,這就意味著High-NA EUV設(shè)備售價提升了兩倍多,。今年年初ASML收到來自英特爾的最新款High-NA EUV「EXE:5200」首張訂單,英特爾預(yù)計到2025年該設(shè)備加入量產(chǎn),,除英特爾外,,目前臺積電、三星等一線晶圓廠也都已預(yù)購了High-NA EUV ,。
與EUV/High-NA EUV相比,,DUV就便宜了很多,平均每臺售價約0.28億歐元,,但這并不妨礙其成為此次擴產(chǎn)的主力軍,。ASML計劃到2025-2026年,,DUV 系統(tǒng)的年產(chǎn)能增加到600個,幾乎是2019-2021年ASML 3年的DUV出貨總量,,數(shù)據(jù)顯示,,2021年ASML共出貨了234臺DUV光刻機,2020年共出貨193臺,,2019年共出貨169臺,,三年總計596臺,可見此次ASML擴產(chǎn)力度不可小覷,。
佳能:產(chǎn)能翻番
在光刻機的擴產(chǎn)方面,,并不是只有ASML在行動,“落魄”的光刻機貴族佳能居然時隔21年宣布擴產(chǎn)計劃,。之所以說“落魄”,,想必大家都知道,佳能光刻機在上世紀(jì)也是一方霸主的存在,,但在干濕路線之爭之后,,佳能就有些趕不上ASML的步伐了,尤其在EUV設(shè)備領(lǐng)域,,更是難以望其項背,。
在過去相機是佳能的主營業(yè)務(wù),,但近些年全球數(shù)碼相機業(yè)務(wù)持續(xù)下滑,,佳能也難免受到?jīng)_擊,而光刻機業(yè)務(wù)卻逐漸成為了增長動力,,畢竟據(jù)華爾街日報去年年底報道,,1995年制造的二手光刻機佳能FPA3000i4,在2014年10月只值10萬美元,,今天則值170萬美元,,漲價17倍。二手的都這么搶手,,一手的更不用多說了,。
目前,佳能主要在宇都宮事務(wù)所(宇都宮市)和阿見事務(wù)所(茨城縣阿見町)等2處日本工廠生產(chǎn)半導(dǎo)體光刻設(shè)備,,專注于i-line到KrF的低端光刻機系列,。佳能財報顯示,未來隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加,,佳能的光刻機業(yè)務(wù)還會持續(xù)增長,。
或許是覺得“與其讓黃牛賺這個錢還不如讓我自己賺”,又或許是受到地緣政治的影響,,也有可能是力壓的NIL(納米壓印光刻)技術(shù)有了突破性進展,,總之,,這個曾經(jīng)的光刻機龍頭時隔21年宣布擴產(chǎn)。
據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)10月初報道,,佳能將在宇都宮事務(wù)所內(nèi)約7萬平方米的空地上建設(shè)半導(dǎo)體光刻設(shè)備的新工廠,,包括廠房建設(shè)費用和生產(chǎn)設(shè)備在內(nèi)的總投資額預(yù)計達到540~560億日元左右,將于2023年內(nèi)開工建設(shè),,產(chǎn)能將提高至現(xiàn)在的2倍,,力爭2025年春季投入運行。
值得注意的是,,日經(jīng)新聞網(wǎng)還指出,,新工廠還計劃開發(fā)新一代設(shè)備,這新一代設(shè)備就是上述提到的NIL設(shè)備,,NIL是一種復(fù)制納米尺度特征的有效技術(shù),,2003年就被添加到ITRS路線圖中,作為NIL技術(shù)的擁護者,,佳能早在2004年就開始這項技術(shù)的研發(fā),,目前已經(jīng)在存儲領(lǐng)域取得了顯著進展(和佳能共同開發(fā)的NIL技術(shù)的鎧俠已掌握NIL 15nm的制程量產(chǎn)技術(shù),目前正在進行15nm以下技術(shù)研發(fā),,預(yù)計2025年進一步達成),。據(jù)悉,為了實現(xiàn)NIL系統(tǒng)的快速升級,,佳能還應(yīng)用機器學(xué)習(xí)和AI技術(shù)進一步提高系統(tǒng)性能,,提高生產(chǎn)力,并實現(xiàn)更自主的控制,?;蛟S,佳能NIL設(shè)備的量產(chǎn)已經(jīng)指日可待了,。
不得不承認(rèn),,近期內(nèi)佳能在光刻機領(lǐng)域的布局并不少,今年4月初,,日經(jīng)新聞還報道稱,,佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體3D技術(shù)的光刻機,新產(chǎn)品通過在原基礎(chǔ)上改進透鏡和鏡臺等光學(xué)零部件,,來提高曝光精度,,曝光面積達到原產(chǎn)品的4倍。為了增加布線密度,,新產(chǎn)品還提高了分辨率,,支持1微米的線寬。不過,,該新產(chǎn)品最早于2023年上半年上市,,從時間來看,,或許還是在原有廠房內(nèi)制造。
產(chǎn)能方面,,佳能預(yù)測2022年半導(dǎo)體光刻設(shè)備的銷量比上年增長29%,,增至180臺,最近10年內(nèi)激增至4倍,,建設(shè)新工廠后,,2個基地的總產(chǎn)能將增至約2倍。產(chǎn)能和研發(fā)兩手抓的佳能,,能否在未來擴大自己光刻機的市占率,,我們也拭目以待。
尼康雖然暫未傳出擴產(chǎn)消息,,但據(jù)日經(jīng)新聞8月報道,,尼康預(yù)計2025財年(截至2026年3月)將把半導(dǎo)體光刻機主力機型的年銷量增至截至2021財年(截至2022年3月)3年平均銷量的2倍以上,以2023年上市的支持3D半導(dǎo)體的新產(chǎn)品為中心,,開拓英特爾以外的日本,、中國大陸、臺灣客戶,。雖然并非是尖端的光刻機,,但尼康認(rèn)為通過支持3D實現(xiàn)附加價值,可以提高在行業(yè)里的影響力,。
光刻機為何如此“耐打”
同為半導(dǎo)體制造不可或缺的設(shè)備,,為什么光刻機就如此“耐打”?筆者分析,,主要有以下三大原因:
原因一:先進制程設(shè)備的訂單比產(chǎn)能擴張計劃更具黏性,。
光刻技術(shù)是芯片制造工藝中最關(guān)鍵的一步,,芯片技術(shù)之所以能在過去60年間,,一步步從百微米發(fā)展到如今的3nm,光刻機功不可沒,,沒有光刻機,,摩爾定律或許無法延伸到現(xiàn)在。在芯片制造過程中,,光刻機身處最前道,,只有通過光刻機把掩膜版上的電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的抗蝕劑膜上,才能進行后續(xù)的化學(xué)顯影,、定影,、清洗和檢測等工序,沒有光刻機,,再優(yōu)秀的芯片設(shè)計也只會是“鏡中花,,水中月”,,無法轉(zhuǎn)換成對我們有用的芯片。
而對于臺積電,、三星,、英特爾等一線晶圓代工廠來說,想要搶在競爭對手前面率先取得先進制程的突破,,繞不開光刻機,,畢竟“巧婦難為無米之炊”,沒有先進的光刻機就不可能制造出采用先進制程工藝的芯片,,所以大廠們才會在去年年底就開始爭先下單ASML High-NA EUV,。High-NA EUV作為進入到未來2nm,甚至是“埃米時代”的入場券,,只有擁有了它,,玩家才有資格參與到下一輪的先進制程斗爭中。
這也是開頭Lee Simpson在低迷市場情勢下大喊加碼ASML的原因所在,,Lee Simpson認(rèn)為,,ASML比大多數(shù)同行有更好的條件挺過去,因為先進工具的訂單往往比產(chǎn)能擴張計劃更具黏性,。他指出,,盡管ASML知道更廣泛芯片業(yè)的需求有些疲軟,但它可以證明自己深具韌性,,此前大量積壓的訂單可以支撐到2023年,,屆時供應(yīng)鏈條件改善可提高毛利率,而且ASML的EUV具有戰(zhàn)略性質(zhì),。
原因二:存儲業(yè)務(wù)占比相對較少,,晶圓代工需求旺盛。
近期設(shè)備廠商之所以步履薄冰,,最大關(guān)鍵點就是受到短期內(nèi)個人計算機和智能手機需求放緩影響,,臺積電、SK海力士,、美光,、英特爾等芯片廠商都在放緩資本支出。這其中,,以存儲廠商資本支出縮減最為嚴(yán)重,,存儲芯片是一個市場周期波動性比較大的行業(yè),面對當(dāng)前不景氣的終端市場,,包括SK海力士,、美光、鎧俠,、南亞科在內(nèi)眾多存儲廠商大幅縮減資本支出,,動蕩的下游市場自然對設(shè)備廠商產(chǎn)生了極大的影響,,因為在廠商的資本縮減中,設(shè)備投資減少首當(dāng)其中,。
Khaveen Investments數(shù)據(jù)顯示,,存儲業(yè)務(wù)是Lam Research最大的業(yè)務(wù),61%的營收來自于此,;TEL的存儲收入占了51.3%,,TEL日前下修財測的原因中就包括了內(nèi)存廠商變更或延后設(shè)備投資;AMAT的存儲收入則占了40%,;相比下ASML 29.8%的存儲收入占比遠低于其他幾家設(shè)備廠商,,因此其受到的資本縮減影響也相對較少。
另一方面,,雖然晶圓代工廠的資本支出也所有縮減,,但從長期來看,芯片制造競爭加劇,,美歐日韓中等多地區(qū)都在努力扶植本土的芯片生產(chǎn),,將促成芯片產(chǎn)業(yè)所需產(chǎn)能的提高。Khaveen Investments根據(jù)各大廠商透露的消息,,預(yù)計存儲芯片制造商的資本支出將在2023年下降,,而邏輯芯片制造商的資本支出將在2023年回升。
TrendForce也指出,,2022 年晶圓代工產(chǎn)值成長來自市場需求,,市場疲弱造成庫存調(diào)整,沖擊 2023 年產(chǎn)值僅成長 2.7%,。即便如此,,2023 年晶圓代工產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值仍會持續(xù)成長,因臺積電預(yù)計市占逼近六成,,加上強勢漲價與高單價 3 nm制程晶圓挹注,,使臺積電有高個位數(shù)成長,帶動 2023 年晶圓代工產(chǎn)值成長,。這無疑又給邏輯芯片占據(jù)大頭的光刻機廠商增添了底氣,。
原因三:歐日廠商主導(dǎo)光刻機市場,,受美國禁令影響比純美系廠商小,。
目前,全球三大光刻機廠商分別是ASML,、佳能和尼康,,其中ASML屬于歐洲廠商,佳能和尼康則均為日本廠商,,這點從彭博社此前統(tǒng)計的芯片設(shè)備制造商命運因地點而異的圖表就可以體現(xiàn)出,。
據(jù)彭博社報道,,分析師預(yù)計Lam Research、KAL,、AMAT這三家美國公司的明年收入下降幅度將超過日本同行,。Lam Research 已經(jīng)預(yù)計2023年在華收入減少20億-25億美元,KAL也初估受美禁令影響明年營收損失達9億美元,,雖然日本的TEL營收也受到了影響,,但相比上述三家,影響較少,。
從ASML財報來看,,中國大陸在2021年的時候就不是ASML的最大銷售市場,銷售額僅為 16%,。據(jù)路透社報道,,ASML首席執(zhí)行官 Peter Wennink 上周五對投資者表示,如果中國芯片制造商無法將產(chǎn)能擴大到當(dāng)前水平以上,,ASML也不會改變其 2030 年的營收預(yù)測,。Wennink表示:“雖然我不愿意看到,但如果地緣政治形勢是這樣,,如果中國被排除在任何增長之外,,但芯片需求還是在那里,晶圓廠將會建在其他地方,。雖然這可能會存在短暫的問題,,但最終我們?nèi)孕枰圃爝@些芯片?!?/p>
而從某種意義上說,,ASML在中國市場上空出的份額,有一定幾率由佳能和尼康來填補,,畢竟目前來看,,這兩家廠商的光刻機主要屬于中低端系列,受到美國禁令影響更小,。
寫在最后
大家都知道半導(dǎo)體行業(yè)是周期性的,,雖然現(xiàn)在行業(yè)整體都處于下行周期,但總有一天會迎來轉(zhuǎn)折點,,迎來新契機,。不過,那都是未來的事情了,,沒有當(dāng)下,,何談未來?
因此,現(xiàn)下我們需要考慮的就是如何度過低迷時期,,總結(jié)光刻機之所以“耐打”,,就是因為它足夠強。技術(shù)夠強,,所以能在半導(dǎo)體制造中有著舉足輕重的地位,;ASML也因為夠強,所以客戶更具黏性,。當(dāng)然,,本土廠商除了勤修內(nèi)功,努力變強外,,還需要多元化布局,,即便是存儲、邏輯雙重布局的設(shè)備巨頭都因比重問題受到了不小的影響,,更不用說單一性布局的其他廠商了,,在特殊時期,受到的影響只會更大,。
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