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國內首款!華中大團隊成功研發(fā)計算光刻EDA軟件

2022-11-30
來源: 拓墣產業(yè)研究

  近日,華中科技大學機械學院劉世元教授團隊成功研發(fā)出我國首款完全自主可控的OPC軟件,并已在相關企業(yè)實現成果轉化和產業(yè)化,填補了國內空白。

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  劉世元介紹,光刻是芯片制造中最為關鍵的一種工藝,就是通過光刻成像系統,將設計好的圖形轉移到硅片上。隨著芯片尺寸不斷縮小,硅片上的曝光圖形會產生畸變。

  在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前,都必須采用一類名為OPC(光學臨近校正)的算法軟件進行優(yōu)化。沒有OPC,所有IC制造廠商將失去將芯片設計轉化為芯片產品的能力。

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  目前,全球OPC工具軟件市場完全由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美國公司占領。

  劉世元是華中科技大學集成電路測量裝備研究中心、光谷實驗室集成電路測量檢測技術創(chuàng)新中心主任。

  研制的儀器、軟件、測量裝備等多項成果已實現成果轉化和產業(yè)化,在中芯國際、長江存儲、華為、京東方、華星光電等微電子、光電子龍頭企業(yè)獲得批量應用。

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