荷蘭或斷供光刻機(jī)

　　近年來(lái)，美國(guó)在對(duì)華政策上實(shí)行脅迫外交,，多次施壓其盟國(guó)限制如光刻機(jī)等高科技產(chǎn)品等出口,。其中，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）因?yàn)樵谛酒袠I(yè)中占據(jù)極其重要的地位,，成了美國(guó)政府的重點(diǎn)“關(guān)照”對(duì)象,，該公司占全球光刻機(jī)市場(chǎng)份額的60%以上。

　　自2018年以來(lái),，在美國(guó)的壓力之下,，荷蘭政府一直禁止阿斯麥向中國(guó)出口其最先進(jìn)的極紫外線光刻機(jī)（EUV），但仍可以銷售上一代的深紫外線光刻機(jī)（DUV）,。

　　然而,，美國(guó)希望進(jìn)一步打壓中國(guó)芯片行業(yè)，將DUV也納入禁售范圍,。今年7月起,，美國(guó)已陸續(xù)派出官員赴荷蘭施壓，要求阿斯麥公司擴(kuò)大對(duì)中國(guó)的禁售范圍,。

　　施賴納馬赫爾前不久表示：“我們正與美國(guó)進(jìn)行談判,，顯然他們已經(jīng)宣布了單方面措施。我無(wú)法評(píng)論荷蘭將接受什么,，我們?cè)跈?quán)衡自己的利益,，我們的公司已經(jīng)受到（以前的）出口限制的損害?！?/p>

　　可不到一個(gè)月時(shí)間,，畫風(fēng)突然改變。

　　2022年12月9日,，美國(guó)與荷蘭擬議中的對(duì)華半導(dǎo)體出口管制談判結(jié)果初定,。媒體援引與會(huì)人士的消息稱，荷蘭已同意與美國(guó)加強(qiáng)合作,，共同限制中國(guó)企業(yè)取得先進(jìn)芯片技術(shù)的管道,，把對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體的出口管制法規(guī)化，從而與美國(guó)10月7日出臺(tái)的一系列半導(dǎo)體出口措施保持一致。

　　雙方仍在進(jìn)行中的談判,，計(jì)劃禁止對(duì)中國(guó)銷售制造14nm或更先進(jìn)制程芯片所需的設(shè)備,。在具體的執(zhí)行層面，即是禁止阿斯麥（ASML）向中國(guó)出售DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī),，其先進(jìn)程度比EUV光刻機(jī)落后一代,，是制造7nm以上制程芯片的必備硬件。與之前對(duì)華禁售極紫外光刻機(jī)EUV相比,，新的管制范圍進(jìn)一步擴(kuò)大了,。

　　在荷蘭做出決定后，中國(guó)企業(yè)采購(gòu)DUV光刻機(jī)的通路,，還剩下尼康和佳能,，但隨著美國(guó)向日本施壓，這條道路將會(huì)變得越來(lái)越不確定,。

　　半導(dǎo)體領(lǐng)域的變局,，會(huì)很快傳遞到汽車行業(yè)。在中國(guó)汽車市場(chǎng),，整車制造商的智能座艙,、智能駕駛芯片，必然會(huì)升級(jí)到7nm以上的制程,，甚至部分廠家已經(jīng)從5nm起步,。與此同時(shí)，在自動(dòng)駕駛領(lǐng)域,，28nm制程的芯片,，已經(jīng)難以滿足市場(chǎng)的需求，他們同樣面臨著技術(shù)升級(jí)的需求,。

　　國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)并非為零

　　光刻機(jī)也叫曝光系統(tǒng),，是制造芯片的核心裝備之一。光刻機(jī)用來(lái)將掩模版上的電路圖形通過(guò)曝光的方式轉(zhuǎn)移到晶圓上,，與相片的沖印有相似之處,。

　　光刻曝光的過(guò)程可以簡(jiǎn)單描述為在晶圓上方放置掩模版（Mask）,  使用光刻機(jī)對(duì)準(zhǔn)掩模版，進(jìn)行紫外線曝光,。通過(guò)這樣的方式將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓，為后面的刻蝕步驟做準(zhǔn)備,。

　　光刻機(jī)工作原理

　　光刻機(jī)成本極高,，先進(jìn)制程光刻機(jī)的單臺(tái)價(jià)值量在億歐元以上級(jí)別，是集成電路制造領(lǐng)域的核心設(shè)備,。在 7nm 以下先進(jìn)制程的芯片生產(chǎn)中,，需要使用波長(zhǎng)為 13.5nm的極紫外光刻機(jī)。

　　而此外最先進(jìn)的 DUV 光刻機(jī)，可以達(dá)到的最先進(jìn)制程水平為 28nm,。浸沒(méi)式 DUV 光刻機(jī)通過(guò)在水中折射的方式,，將波長(zhǎng)為 193nm 的光源折射成等效 132nm波長(zhǎng)，需要經(jīng)過(guò)多次曝光,，并要求有極高的對(duì)準(zhǔn)精度,。目前我國(guó)在光刻機(jī)層面的國(guó)產(chǎn)替代需求較大，國(guó)產(chǎn)替代率較低,。

　　此外,，先進(jìn)制程代工廠可以選擇采用多重曝光和刻蝕的方式用 DUV 光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)14nm 以下的芯片制程設(shè)計(jì)，但是所需的工序步驟,，時(shí)間大幅增加,，同時(shí)對(duì)精度要求極高。為了在條件有限的情況下生產(chǎn)先進(jìn)制程芯片,，需要更多的刻蝕設(shè)備和薄膜設(shè)備的用量,。

　　受限于《瓦森納協(xié)議》，ASML 的 7nm 制程先進(jìn)制程光刻機(jī)無(wú)法出口中國(guó)大陸,，大陸地區(qū)主要以采購(gòu)成熟制程光刻機(jī)為主,。對(duì)比 AMAT，泛林半導(dǎo)體,，東京電子等海外設(shè)備龍頭,，ASML 的大陸地區(qū)營(yíng)收貢獻(xiàn)占比明顯較低。光刻機(jī)產(chǎn)品在前道制程領(lǐng)域的戰(zhàn)略意義較高,。

　　國(guó)產(chǎn)替代方面,，中科院光電所研發(fā)出 365nm 波長(zhǎng)的近紫外光 DUV 光刻機(jī)設(shè)備。上海微電子已有生產(chǎn)前道90nm制程的光刻機(jī),，后道先進(jìn)封裝光刻機(jī)也已經(jīng)實(shí)現(xiàn)出貨,。

　　上海微電子的 SSX600 系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)、可滿足 IC 前道制造 90nm,、110nm,、280nm 關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，應(yīng)用于 8 寸線或 12 寸線的大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn),。而后道先進(jìn)封裝光刻設(shè)備方面,，2021 年 9 月上海微電子推出了 SSB520先進(jìn)封裝光刻機(jī)，可以滿足 0.8 微米分辨率的光刻工藝需求,，且極限分辨率達(dá)到了 0.6 微米,。可以通過(guò)升級(jí)運(yùn)動(dòng),、量測(cè)和控制系統(tǒng)等將套刻精度提升到 100 納米以下,，并保持長(zhǎng)期穩(wěn)定性能,。

　　上海微電子及相關(guān)科研院所的光刻機(jī)產(chǎn)品以及市面上流通的二手設(shè)備一定程度上填補(bǔ)了空缺，國(guó)內(nèi)成熟制程的光刻設(shè)備主要依靠向海外采購(gòu),。成熟制程所用的 28nm DUV 光刻機(jī)并未受到制裁影響,。因此，在成熟制程芯片用量增加的大背景下,，中國(guó)大陸晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)的進(jìn)程仍在加速推進(jìn),。成熟制程芯片（MCU, 模擬類芯片，各類傳感器,，功率器件,，車載電子芯片等）的火熱需求使代工廠和上游設(shè)備持續(xù)獲得訂單。

　　而除光刻機(jī)之外,，刻蝕是半導(dǎo)體制造工藝中的重要環(huán)節(jié),，和光刻環(huán)節(jié)類似，主要作用也是轉(zhuǎn)移掩模版上的圖形到晶圓上,。是光刻之后用化學(xué)或物理方法從晶圓表面去除部分材料的過(guò)程,。

　　相對(duì)于光刻機(jī)，國(guó)產(chǎn)廠商在刻蝕設(shè)備領(lǐng)域較早的實(shí)現(xiàn)了突破,。無(wú)論是中微公司,，北方華創(chuàng)，嘉芯半導(dǎo)體等在國(guó)產(chǎn)線的出貨量逐漸增大,。中微公司的 CCP 刻蝕機(jī),，在 2020 年，已經(jīng)做到了部分存儲(chǔ),，邏輯產(chǎn)線的第三大供應(yīng)商,，在部分產(chǎn)線中占有 30%以上的市占率。現(xiàn)階段,，刻蝕設(shè)備的整體國(guó)產(chǎn)化率達(dá)到了 20%,，下游晶圓廠仍有持續(xù)替代的意愿和空間，相關(guān)機(jī)構(gòu)預(yù)計(jì)刻蝕設(shè)備的終局國(guó)產(chǎn)化率可以達(dá)到 70%以上,，28nm 以上制程工藝覆蓋完備,，幾家重點(diǎn)公司進(jìn)入國(guó)內(nèi)存儲(chǔ)+邏輯大廠產(chǎn)線開(kāi)始加速放量。

　　事實(shí)上,，海外對(duì)我國(guó)光刻機(jī)的打壓,，反而推動(dòng)了我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備的加速落地。

　　國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備亟待落地

　　光刻機(jī)只是一個(gè)縮影,，回顧近期美國(guó)對(duì)我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)頒布的一系列限制措施,，可以發(fā)現(xiàn)整體的限制領(lǐng)域正在逐步從下游應(yīng)用向上游制造轉(zhuǎn)移。

　　從最初的的 5G 產(chǎn)品出口限制到現(xiàn)在的設(shè)備,、軟件限制，其影響程度越發(fā)深遠(yuǎn)。底層的設(shè)備與軟件,，正是支撐整個(gè)數(shù)字經(jīng)濟(jì)的核心,，倘若無(wú)法破局，對(duì)我國(guó)發(fā)展將是極大的掣肘,。

　　隨著美國(guó)發(fā)布《芯片法案》,，遏制中國(guó)半導(dǎo)體發(fā)展的“鐵幕”正在形成。

　　該法案將為美國(guó)半導(dǎo)體研發(fā),、制造以及勞動(dòng)力發(fā)展提供 527 億美元,。其中 390 億美元將用于半導(dǎo)體制造業(yè)的激勵(lì)措施，20 億美元用于汽車和國(guó)防系統(tǒng)使用的傳統(tǒng)芯片,。此外,，在美國(guó)建立芯片工廠的企業(yè)將獲得25%的減稅。而接受法案提供的聯(lián)邦資金和稅收補(bǔ)貼的芯片制造商將被禁止十年內(nèi)在中國(guó)大陸建造先進(jìn)制程產(chǎn)線,，以此遏制中國(guó)半導(dǎo)體發(fā)展,。

　　除此以外，還限制美國(guó)14nm 及以下制程半導(dǎo)體設(shè)備和先進(jìn)制程 EDA 軟件出口中國(guó),，從上游對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)行封鎖,。在此國(guó)際局勢(shì)下，半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程需要進(jìn)一步加強(qiáng),。而目前各種半導(dǎo)體前道核心設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率還很低,，如光刻機(jī)等設(shè)備尚未形成有效突破，整體國(guó)產(chǎn)化率還有極大的提升空間,。

　　而在國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)鏈中,，國(guó)產(chǎn)晶圓廠逆勢(shì)擴(kuò)產(chǎn)正在進(jìn)行。據(jù) SEMI 最新統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,，中國(guó)大陸在晶圓廠建廠速度全球第一,，預(yù)計(jì)至 2024 年底，將建立 31 座大型晶圓廠,，且全部鎖定成熟制程,。據(jù)集微網(wǎng)統(tǒng)計(jì)，2021 年底中國(guó)大陸現(xiàn)有 12 英寸線和 8 英寸線的產(chǎn)能分別為 120萬(wàn)片/月和 123 萬(wàn)片/月,，預(yù)計(jì)今年將分別新增 36.6 萬(wàn)片/月和 9.6萬(wàn)片/月,，對(duì)應(yīng)半導(dǎo)體設(shè)備需求強(qiáng)勁。

　　根據(jù) IC Insights 的數(shù)據(jù),，中國(guó)大陸晶圓產(chǎn)能在全球的占比約 16.2%,。隨著國(guó)內(nèi)晶圓廠的快速擴(kuò)產(chǎn)，預(yù)計(jì)到 2023 年,，中國(guó)大陸晶圓產(chǎn)能在全球的占比有望達(dá)24%,，產(chǎn)能占比提升將極大地帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備的市場(chǎng)規(guī)模,。

　　除了晶圓產(chǎn)能不斷攀升，通過(guò)市占率獲得全球供需話語(yǔ)權(quán)外,，我國(guó)先進(jìn)制程受到針對(duì)性阻擊,，但一旦突破也將開(kāi)辟更廣新天地。

　　先進(jìn)制程一般指 28nm 以下的制程節(jié)點(diǎn),，主要用于高性能,、低功耗的應(yīng)用領(lǐng)域，如手機(jī),、PC,、IDC  等設(shè)備的  CPU、GPU,、DRAM等產(chǎn)品,。目前國(guó)產(chǎn)產(chǎn)線正在努力突破先進(jìn)制程技術(shù)節(jié)點(diǎn)，國(guó)內(nèi)晶圓廠尚未大規(guī)模進(jìn)行14nm 產(chǎn)線的擴(kuò)產(chǎn),，但隨著技術(shù)的更新,，開(kāi)展 14nm 先進(jìn)制程產(chǎn)線趨勢(shì)必不可當(dāng)。

　　當(dāng)前由于外部諸多限制,，中國(guó)先進(jìn)制程產(chǎn)能擴(kuò)張受限,，但是若以全球先進(jìn)制程產(chǎn)能的15%測(cè)算，中國(guó)大陸 12 英寸先進(jìn)制程產(chǎn)能還有 6 倍的增長(zhǎng)空間,。假設(shè)未來(lái)全球先進(jìn)制程產(chǎn)能達(dá)到 40 萬(wàn)片/月,，國(guó)內(nèi)設(shè)備市場(chǎng)將新增近百億美元規(guī)模，帶來(lái)國(guó)產(chǎn)設(shè)備和零部件顯著營(yíng)收增長(zhǎng),。

　　在當(dāng)前國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)環(huán)境下,，各大設(shè)備廠商都在積極投入研發(fā)，面向先進(jìn)制程產(chǎn)線所需的更先進(jìn)設(shè)備進(jìn)行持續(xù)探索與創(chuàng)新,。當(dāng)前刻蝕設(shè)備已經(jīng)能用于 5nm 制程,；鍍膜設(shè)備、清洗設(shè)備,、CMP,、熱處理設(shè)備均在 14nm 制程驗(yàn)證中；涂膠顯影設(shè)備,、離子注入設(shè)備,、光刻機(jī)等均在 28nm 制程的研發(fā)或驗(yàn)證中。在國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速的背景下,，當(dāng)前只需靜待各大設(shè)備突破先進(jìn)制程,，期待未來(lái)廣闊成長(zhǎng)空間。

　　具體本土企業(yè)方面,，大陸代工廠均在朝著更高水平的制程代工的方向努力,。中芯國(guó)際的14nm,，F(xiàn)inFET 工藝，應(yīng)用的平臺(tái)和客戶不斷增加,，具備多元化和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力,，在礦機(jī)芯片領(lǐng)域具備一定市場(chǎng)份額。

　　根據(jù)公司新聞公告,，長(zhǎng)江存儲(chǔ)的 Xtacking 技術(shù)業(yè)內(nèi)領(lǐng)先，其原理是將外圍電路置于存儲(chǔ)單元之上,，在兩片獨(dú)立的晶圓上加工外圍電路和存儲(chǔ)單元,，讓 NAND獲取更高的 I/O 接口速度及更多的操作功能，從而實(shí)現(xiàn)比傳統(tǒng) 3D NAND 更高的存儲(chǔ)密度?，F(xiàn)已實(shí)現(xiàn)了 128 層 NAND FLASH 的量產(chǎn),。

　　根據(jù)媒體科創(chuàng)版日?qǐng)?bào)報(bào)道，合肥長(zhǎng)鑫的產(chǎn)線已有 19 納米（1X 納米）的工藝制程,，正推進(jìn) 17nm 工藝的量產(chǎn),，目前良率正在爬升。我國(guó)晶圓代工廠在閃存,，DRAM,，邏輯等幾大工藝平臺(tái)均在產(chǎn)能和制程上同時(shí)突破。

　　絕非鐵板一塊的歐美半導(dǎo)體

　　提振本土的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,，并壟斷全球半導(dǎo)體芯片市場(chǎng)的話語(yǔ)權(quán),，歐洲顯然也不愿意總是當(dāng)“跟班小弟”。

　　為實(shí)現(xiàn)對(duì)本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的扶持,，美國(guó)確定了520億美元的芯片補(bǔ)貼,，可隨之而來(lái)的是歐盟也定下了相應(yīng)的目標(biāo)，制定《歐洲芯片法案》,，計(jì)劃在2030年將歐洲地區(qū)的芯片產(chǎn)能,，占到世界總量的20%。

　　今年2月,，歐盟委員會(huì)公布了醞釀已久的《歐洲芯片法案》（A Chips Act for Europe）,。根據(jù)法案，到2030年,，歐盟擬動(dòng)用超過(guò)430億歐元的公共和私有資金,，支持芯片生產(chǎn)、試點(diǎn)項(xiàng)目和初創(chuàng)企業(yè),，并大力建設(shè)大型芯片制造廠,。歐盟在法案中還提出了一項(xiàng)雄心勃勃的目標(biāo)，到2030年,，將芯片產(chǎn)量占全球的份額從目前的10%提高至20%,。

　　值得注意的是,，就在《歐洲芯片法案》出爐的前幾天，美國(guó)眾議院通過(guò)了《2022年美國(guó)競(jìng)爭(zhēng)法案》,，其中包括對(duì)芯片制造業(yè)提供500多億美元的資金支持,。后來(lái)，“瘦身版”的《芯片與科學(xué)法案》獲得通過(guò)并由美國(guó)總統(tǒng)拜登正式簽署生效,。美國(guó)之外,，韓國(guó)、日本,、印度等國(guó)也相繼出臺(tái)與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)相關(guān)的政策支持與指引,。

　　2021年9月15日，歐盟委員會(huì)主席馮德萊恩在發(fā)表年度國(guó)情咨文時(shí)提出了這句話,。當(dāng)時(shí)的馮德萊恩進(jìn)一步表示,，由于半導(dǎo)體短缺，盡管需求不斷增長(zhǎng),，但整個(gè)生產(chǎn)線已經(jīng)在以較低的速度運(yùn)轉(zhuǎn),。盡管全球需求出現(xiàn)爆炸式增長(zhǎng)，但歐洲在價(jià)值鏈（從設(shè)計(jì)到制造）上的份額卻出現(xiàn)了萎縮,。

　　她強(qiáng)調(diào),，這不僅僅是競(jìng)爭(zhēng)力的問(wèn)題，也是一個(gè)技術(shù)主權(quán)問(wèn)題,。在此背景下,，馮德萊恩表示歐盟將提出一項(xiàng)歐洲芯片法案。

　　2022年2月,，備受關(guān)注的《歐洲芯片法案》正式出爐,，希望借此解決半導(dǎo)體的短缺問(wèn)題，以及加強(qiáng)歐洲的技術(shù)領(lǐng)先地位,。具體來(lái)看,，這一法案包含多個(gè)目標(biāo)，包括加強(qiáng)歐洲在“更小更快”芯片上的研究,、加強(qiáng)高端芯片設(shè)計(jì),、制造和封裝方面的創(chuàng)新能力，同時(shí)要解決技能短缺的問(wèn)題,，希望吸引更多的人才以及培養(yǎng)熟練勞動(dòng)力,。其中最為矚目的，是到2030年,，將芯片產(chǎn)量占全球的份額從目前的10%提高至20%,。

　　歐盟認(rèn)為，歐洲在半導(dǎo)體的特定領(lǐng)域具備優(yōu)勢(shì)，例如電力電子元件,、射頻和模擬器件,、傳感器和微控制器的設(shè)計(jì)（這些器件廣泛應(yīng)用于汽車和制造業(yè)），在運(yùn)營(yíng)大型芯片制造廠所需的材料和設(shè)備方面,，歐洲也處于非常有利的位置,。

　　但是，歐洲在全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的總體份額僅為10%,，并且在很大程度上依賴于第三國(guó)供應(yīng)商,。根據(jù)歐盟公布的數(shù)據(jù)，在半導(dǎo)體供應(yīng)鏈上,，歐盟在設(shè)備制造領(lǐng)域的市場(chǎng)份額為23%,，在原材料/硅片領(lǐng)域占14%，在芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)域占8%,，而在IP/電子設(shè)計(jì)領(lǐng)域，僅占2%,。

　　顯然,，歐盟也想謀求在全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的話語(yǔ)權(quán)，而在歐美積極布局半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的同時(shí),，全球其他國(guó)家也在該領(lǐng)域加碼,。

　　以日本為例，一方面,，邀請(qǐng)臺(tái)積電來(lái)本土建設(shè)28nm等成熟制程晶圓廠,。另一方面，日本還拿出700億日元助力豐田,、鎧俠等八家日本企業(yè)組建了“高端芯片聯(lián)盟”,，并把目光瞄準(zhǔn)了2nm芯片的研發(fā)，甚至計(jì)劃要在2025年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),。韓國(guó)也在2021年5月公布“K—半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)帶”戰(zhàn)略,，計(jì)劃在2030年前在國(guó)內(nèi)構(gòu)建全球最大規(guī)模的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈

　　作為全球人口第二多的國(guó)家，印度的芯片消費(fèi)潛力也很大,。據(jù)公開(kāi)數(shù)據(jù)顯示,，印度半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模將在2026年達(dá)到630億美元，相比2020年增加了4.3倍,。

　　而半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)這些年一直都是我國(guó)發(fā)展的重點(diǎn),，據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年前三季度,，國(guó)產(chǎn)芯片已經(jīng)達(dá)到了日產(chǎn)10億顆,，對(duì)進(jìn)口芯片的砍單量也達(dá)到了610億顆，本土化趨勢(shì)已經(jīng)非常明顯，而在一些細(xì)分賽道上,，我國(guó)更是具備了彎道超車的可能,。

　　大有可為的細(xì)分賽道

　　相對(duì)于傳統(tǒng)半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域，光子芯片等細(xì)分賽道當(dāng)下也給予我國(guó)彎道超車的機(jī)會(huì),。尤其是隨著芯片技術(shù)升級(jí)迭代,，光子芯片有望成為新一代信息領(lǐng)域的底層技術(shù)支撐。

　　光子芯片是光電子器件的核心組成部分,，與集成電路芯片相比存在多處不同——

　　·從性能而言,，光子芯片的計(jì)算速度較電子芯片快約1000倍，且功耗更低,。

　　·從材料而言,，InP、GaAS等二代化合物半導(dǎo)體是光子芯片更為常用的材料,，而集成電路一般采用硅片,。

　　·從制備而言，光子芯片的制備流程與集成電路芯片存在一定相似性,，但側(cè)重點(diǎn)在于外延設(shè)計(jì)與制備環(huán)節(jié),，而非光刻環(huán)節(jié)。民生證券指出,，這也決定了光子芯片行業(yè)中,，IDM模式是主流，有別于標(biāo)準(zhǔn)化程度高,、行業(yè)分工明確的集成電路芯片,。

　　值得一提的是，相較于電子芯片,，光子芯片對(duì)結(jié)構(gòu)的要求較低,，一般是百納米級(jí)，因此降低了對(duì)先進(jìn)工藝的依賴,。中科鑫通總裁隋軍也表示,，光子芯片使用我國(guó)已相對(duì)成熟的原材料及設(shè)備就能生產(chǎn)，而不像電子芯片一樣,，必須使用EUV等極高端光刻機(jī),。

　　目前來(lái)看，全球市場(chǎng)中,，高意集團(tuán)(II-VI),、Lumentum等占據(jù)領(lǐng)先地位，而長(zhǎng)光華芯,、源杰科技等本土企業(yè)已在高功率激光芯片,、高速率激光芯片等領(lǐng)域取得進(jìn)展。