佳能正在東京以北的栃木縣宇都宮建廠(chǎng)，估計(jì)耗資 500 億日元(約合 3.66 億美元)。

該工廠(chǎng)將用于制造 KrF 和 i-line 光刻機(jī)，還將用于增加納米壓印光刻 (NIL) 機(jī)的產(chǎn)量。計(jì)劃于 2025 年開(kāi)始運(yùn)營(yíng)。

KrF 和 i-line 光刻是成熟的技術(shù)，但它們?nèi)员粡V泛用于定義眾多 IC 類(lèi)型、MEMS 和平板顯示器。

NIL 也可用于這些寬松的幾何形狀，但可以在 10 納米及以下定義更精細(xì)的結(jié)構(gòu)尺寸。

佳能董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官御手洗富士夫在伴隨佳能 22 財(cái)年第 3 季度財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)向分析師發(fā)表的演講中表示，該公司正處于針對(duì)在大規(guī)模生產(chǎn)中使用 NIL 進(jìn)行調(diào)整的最后階段。

Mitarai 表示，自 2021 年 3 月 NIL 被選為研發(fā)項(xiàng)目以來(lái)，佳能一直與國(guó)家研發(fā)機(jī)構(gòu)新能源和工業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)組織 (NEDO) 合作。

佳能于 2014 年通過(guò)收購(gòu)成立于2001年的Molecular Imprints Inc.(德克薩斯州奧斯汀)，將其更名為 Canon Nanotechnologies Inc.，從而進(jìn)入 NIL市場(chǎng)。

該公司聲稱(chēng)其技術(shù)版本可以以非常低的成本將納米壓印功能降至 10 納米及以下。

這可能使該技術(shù)成為臺(tái)積電、三星和其他公司正在使用的非常昂貴的極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)的替代品。

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