《電子技術(shù)應(yīng)用》
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消息稱SK海力士將在1c DRAM生產(chǎn)中采用新型光刻膠

2024-05-30
來源:IT之家
關(guān)鍵詞: SKhynix DRAM 光刻膠 三星

5 月 30 日消息,隨著 DRAM 小型化的不斷推進(jìn),,SK 海力士,、三星電子等公司正在致力于新材料的開發(fā)和應(yīng)用。

據(jù) TheElec,,SK Hynix 計(jì)劃在第 6 代(1c 工藝,,約 10nm)DRAM 的生產(chǎn)中使用 Inpria 下一代金屬氧化物光刻膠(MOR),這是 MOR 首次應(yīng)用于 DRAM 量產(chǎn)工藝,。

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消息人士稱,,SK Hynix 量產(chǎn)的 1c DRAM 上有五個(gè)極紫外 (EUV) 層,其中一層將使用 MOR 繪制,。他還補(bǔ)充說,,“不僅 SK 海力士,三星電子也將追求這類無機(jī) PR 材料,?!?/p>

查詢公開資料獲悉,Inpria 是日本化學(xué)公司 JSR 的子公司,,也是無機(jī)光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者,;而 MOR 則被認(rèn)為是目前用于先進(jìn)芯片光刻的化學(xué)放大光刻膠(CAR)的下一代產(chǎn)品。

此外,,該公司自 2022 年以來就一直與 SK Hynix 合作進(jìn)行 MOR 研究,。SK Hynix 此前曾表示,使用 Sn(基)氧化物光刻膠將有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本,。

TheElec 報(bào)道還指出,,三星電子也在考慮將 MOR 應(yīng)用于 1c DRAM,,目前三星電子在 1c DRAM 上應(yīng)用了 6 至 7 個(gè) EUV 層,,而美光則只應(yīng)用了 1 層。


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