8月29日,,存儲芯片大廠SK海力士宣布,全球首次成功開發(fā)出采用第六代10nm級(1c)工藝的16Gb(Gigabit,千兆比特)DDR5 DRAM,。由此,,公司向世界展現了10nm級的超微細化存儲工藝技術,。
SK海力士強調:“隨著10nm級DRAM技術的推進,,精細工藝的難度也隨之加大,但公司以通過業(yè)界最高性能得到認可的第五代(1b)技術力為基礎,,提高了設計完成度,,率先突破了技術極限。公司將在年內完成1c DDR5 DRAM的量產準備,,從明年開始供應產品,,引領半導體存儲器市場發(fā)展?!?/p>
SK海力士技術團隊表示,,公司以1b DRAM平臺擴展的方式開發(fā)了1c工藝,由此不僅可以減少工藝高度化過程中可能發(fā)生的嘗試錯誤,,還可以最有效地將業(yè)界內以最高性能DRAM受到認可的SK海力士1b工藝優(yōu)勢轉移到1c工藝,。
而且,SK海力士在部分EUV工藝中開發(fā)并適用了新材料,,也在整個工藝中針對EUV適用工藝進行了優(yōu)化,,由此確保了成本競爭力。與此同時,,在1c工藝上也進行了設計技術革新,,與前一代1b工藝相比,其生產率提高了30%以上,。
據介紹,,此次推出的1c DDR5 DRAM將主要用于高性能數據中心,其運行速度為8Gbps(每秒8千兆比特),,與前一代相比速度提高了11%,。另外,,能效也提高了9%以上,。隨著AI時代的到來,數據中心的耗電量在繼續(xù)增加,,如果運營云服務的全球客戶將SK海力士1c DRAM采用到數據中心,,公司預測其電費最高能減少30%。
SK海力士DRAM開發(fā)擔當副社長金鍾煥表示:“1c工藝技術兼?zhèn)渲罡咝阅芎统杀靖偁幜?,公司將其應用于新一代HBM1,、LPDDR62、GDDR73等最先進DRAM主力產品群,由此為客戶提供差別化的價值,。今后公司也將堅守DRAM市場的領導力,,鞏固最受客戶信賴的AI用存儲器解決方案企業(yè)的地位?!?/p>