《電子技術(shù)應(yīng)用》
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日本攜手英特爾建先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心

將配備EUV光刻機(jī)
2024-09-04
來(lái)源:芯智訊

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據(jù)日經(jīng)亞洲(Nikkei Asia)9月3日?qǐng)?bào)導(dǎo),美國(guó)處理器大廠英特爾已決定與日本官方研究機(jī)構(gòu)在日本設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體研發(fā)中心,,以提振日本半導(dǎo)體設(shè)備制造與材料產(chǎn)業(yè),。

據(jù)介紹,這座新的研發(fā)中心將在未來(lái)3到5年落成,,擬配備極紫外光(EUV)光刻設(shè)備。設(shè)備制造商與材料商只要繳納一定的費(fèi)用,就能使用設(shè)備進(jìn)行測(cè)試與試作,。這將是日本第一座擁有供廠商共用EUV光刻機(jī)的研發(fā)中心,也是日本研究機(jī)構(gòu)首度計(jì)劃導(dǎo)入EUV光刻機(jī),。

該研發(fā)中心將由隸屬于日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)?。ń?jīng)產(chǎn)省)的產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所(AIST)負(fù)責(zé)營(yíng)運(yùn),,而英特爾將提供使用EUV技術(shù)制造芯片的專(zhuān)業(yè)知識(shí),。這座研發(fā)中心的總投資額將達(dá)數(shù)百億日元。

EUV在制造5nm以下先進(jìn)芯片上扮演重要角色,,不過(guò)一臺(tái)EUV設(shè)備動(dòng)輒售價(jià)約1.5億美元,,并非是許多材料商與設(shè)備商可單獨(dú)負(fù)擔(dān)的價(jià)格。

而資金不夠雄厚的廠商目前只能使用海外研究機(jī)構(gòu)的EUV設(shè)備來(lái)研發(fā)產(chǎn)品,,例如比利時(shí)微電子研究中心(IMEC),。此外,日本政府與8家民間企業(yè)合資的晶圓代工廠Rapidus計(jì)劃今年12月引進(jìn)EUV設(shè)備,,以便制造尖端制程芯片,,不過(guò)日本研究機(jī)構(gòu)目前尚無(wú)這類(lèi)設(shè)備。

隨著美中科技競(jìng)爭(zhēng)日趨激烈,,美國(guó)早已禁止EUV的對(duì)華出口,,并加強(qiáng)了對(duì)于高端DUV相關(guān)技術(shù)和產(chǎn)品的出口管制,其中包含設(shè)備與材料,,不過(guò)管制措施也導(dǎo)致廠商從海外研究機(jī)構(gòu)回收數(shù)據(jù)到日本之際更加耗時(shí),。未來(lái)日本國(guó)內(nèi)就能使用EUV光刻機(jī),就能減少管制帶來(lái)的阻礙,。

荷蘭光刻機(jī)大廠ASML是唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,,不過(guò)生產(chǎn)芯片需要經(jīng)過(guò)超過(guò)600道制程,而光刻機(jī)只是其中一環(huán),其他相關(guān)設(shè)備與材料的發(fā)展也至關(guān)重要,。


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