繼日前半導(dǎo)體光刻設(shè)備廠商ASML,、佳能相繼下修年度財測目標(biāo)后,，另一家光刻機廠商尼康近日也宣布下修年度財測目標(biāo)。

10月31日,，尼康發(fā)布了公告稱,，雖然數(shù)碼相機等圖像事業(yè)部銷售大致符合預(yù)期，但是由于半導(dǎo)體設(shè)備市場需求復(fù)蘇緩慢,，半導(dǎo)體光刻設(shè)備銷售低于預(yù)期,，因此將今年度（2024年4月-2025年3月）合并營收目標(biāo)由今年8月預(yù)估的7,500億日元下修至7,250億日元（仍可保持同比增長1%），合并營業(yè)利潤目標(biāo)則由350億日元大幅砍低至220億日元（同比減少45%）,，合并凈利潤目標(biāo)也自300億日元大幅砍低至160億日元（將同比減少51%）,。

據(jù)日經(jīng)新聞報導(dǎo)，尼康下修過后的凈利潤預(yù)估值遠低于市場預(yù)期的297億日元,。巖井Cosmo證券（Iwai Cosmo Securities）分析師齋藤和嘉表示,，“半導(dǎo)體光刻設(shè)備銷售低迷，很大程度是受到主要客戶英特爾業(yè)績惡化,、縮減設(shè)備投資的影響”,。

值得注意的是，光刻機大廠ASML于10月15日公布了三季度財報,，雖然當(dāng)季的銷售額和毛利率符合預(yù)期,，但新增訂單環(huán)比大跌53%，不及市場預(yù)期的一半,，同時還下調(diào)2025年度的銷售目標(biāo),，即由原本預(yù)計的300億到400億歐元區(qū)間，下調(diào)至300億歐元至350億歐元之間,。ASML認(rèn)為,，除了人工智能領(lǐng)域需求強勁外，其他市場需求復(fù)蘇比預(yù)期更為緩慢,，部分晶圓廠對于光刻系統(tǒng)需求推后,，特別是EUV系統(tǒng)。

佳能10月24日公布的2024年第三季度（7-9月）財報雖然營收創(chuàng)下了歷史新高,，但是卻下調(diào)了2024年全年的業(yè)績預(yù)期,。其中,，營收由原先預(yù)計的4.6萬億日元下修至4.54萬億日元，合并營業(yè)利潤也由原先預(yù)估的4,650億日元下修至4,555億日元,；合并凈利潤目標(biāo)自3,350億日元下修至3,250億日元,。對于下修財測的原因，佳能稱是由于日元匯率較此前預(yù)期上升,。不過,，佳能也將今年度半導(dǎo)體光刻機銷售量目標(biāo)由原先預(yù)估的244臺下調(diào)至239臺。