在半導體制造中,，清洗工藝貫穿于光刻,、刻蝕、沉積等關鍵流程,，并在單晶硅片制備階段發(fā)揮著重要作用,。隨著技術的發(fā)展，芯片制程已推進至28nm,、14nm乃至更先進節(jié)點,。

晶圓對微小污染物的敏感性也顯著增強。每一道工序前,，晶圓表面都需清除顆粒,、有機物、金屬雜質和氧化層等污染物,，以確保后續(xù)制程的順利進行,。以7nm及以下制程工藝為例，若晶圓表面每平方厘米存在超過3個0.5nm粒子,，良率可能下降12%-18%,。

國產替代提速，破解172nm光源依賴

晶圓表面清洗作為先進制程中的關鍵工序,，正朝著高效,、低損的方向不斷演進。針對納米級有機污染物,，172nm準分子紫外光清洗技術提供了一種非接觸,、高精清潔的解決方案,，逐漸成為行業(yè)應用和技術發(fā)展的重點方向。

然而,，該技術所依賴的172nm準分子光源長期依靠進口,，面臨成本高、供應不穩(wěn)定,、技術封鎖等問題,。隨著全球產業(yè)鏈重構和供應鏈安全意識提升，國產替代需求愈加迫切,。

廣明源172nm晶圓光清洗方案：高效,、非接觸、精細化

該技術通過172nm高能紫外光激發(fā)有機物產生自由基,，并與氧自由基發(fā)生光敏氧化反應,，能有效將污染物分解為水和二氧化碳，從而達到原子級潔凈度,。

172nm平板型光源

172nm網狀電極圓管光源

技術優(yōu)勢：

√ 非熱處理：冷光源技術,，避免熱應力，適用于熱敏材料,。

√ 高效清潔：可有效去除納米級有機殘留,，提升工藝良率。

√ 穩(wěn)定性好：長壽命設計,，性能穩(wěn)定可靠,。

√ 交付可靠： 資深172nm準分子光源及設備制造商,，交付有保障,。

√ 靈活定制：可根據客戶需求提供定制化設備和解決方案。

適用領域：

√ 半導體晶圓清洗與去膠

√ 光學透鏡清潔

√ LCD/OLED的TFT生產（去除光刻膠殘留）

√ 高精度PCB表面處理

172nm紫外線晶圓光清洗模組

該模組專為晶圓光清洗設計,，可高效去除納米級有機污染物和殘留膠質,，提升后續(xù)鍍膜/鍵合等工藝良率。

√ 長壽命設計：通過陰極材料優(yōu)化和氣體配比控制,，確保2500小時穩(wěn)定輸出,。

√ 無損傷處理：冷光源特性，避免熱應力導致晶圓翹曲,。

√ 冷卻方式：風冷/水冷可選,，根據產線潔凈度要求靈活配置。

推動光清洗設備國產替代,，服務高端制造產業(yè)

廣明源深耕光科技應用的研發(fā)與制造二十多年,，專注172nm準分子光源及設備/模組的研發(fā)，覆蓋光清洗,、光固化,、光改性,、純水處理等多個關鍵領域。依托成熟的研發(fā)創(chuàng)新,、設備設計與定制能力,，廣明源可提供從實驗驗證到量產階段所需的核心光部件與解決方案，助力國內高端制造實現(xiàn)自主可控,，保障產業(yè)鏈安全穩(wěn)定,。