《電子技術(shù)應(yīng)用》
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聯(lián)發(fā)科采用Cadence 7nm工藝實現(xiàn)流片

2017-04-19
關(guān)鍵詞: cadence 聯(lián)發(fā)科

  Cadence公司4月18日正式發(fā)布針對7nm工藝的全新Virtuoso 先進工藝節(jié)點平臺。通過與采用7nm FinFET工藝的早期客戶展開緊密合作,Cadence成功完成了Virtuoso定制設(shè)計平臺的功能拓展,新平臺能幫助客戶管理由于先進工藝所導(dǎo)致的更復(fù)雜的設(shè)計以及特殊的工藝效應(yīng)。新版Virtuoso先進工藝平臺同樣支持所有主流FinFET先進節(jié)點,性能已得到充分認證;同時提高了7nm工藝的設(shè)計效率,。

  為了應(yīng)對7nm設(shè)計的眾多技術(shù)挑戰(zhàn),Virtuoso先進工藝平臺提供豐富的版圖設(shè)計功能,,包括:支持多重曝光(MPT)的色彩感知的編輯功能,、支持FinFET網(wǎng)格功能、及支持模塊生成器(ModGen)器件陣列編輯功能等多種高級編輯功能,。同時,,在電路設(shè)計流程中,客戶可以使用Spectre APS仿真器,、Virtuoso ADE產(chǎn)品套件和Virtuoso 原理圖編輯器執(zhí)行對多工藝邊界的蒙特卡洛分析(Monte Carlo Analysis),,從而加強電路設(shè)計的差異分析。

  聯(lián)發(fā)科技(MediaTek)模擬設(shè)計與電路技術(shù)部總經(jīng)理Ching San Wu表示,,“我們與Cadence長期開展密切合作,,成功開發(fā)并部署了基于Virtuoso先進工藝節(jié)點平臺的定制設(shè)計方法。采用Cadence針對7nm工藝專門開發(fā)的多項獨特功能,,我們得以成功實現(xiàn)近期的流片,。”


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