尼康昨日宣布,，已對荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥（ASML）和德國光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司（Carl Zeiss）提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù),。

尼康稱,，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟,?？柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下,，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術(shù)?！?/p>

當(dāng)前,，光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體，而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機市場。評級機構(gòu)“惠譽評級”（Fitch Ratings）今年1月發(fā)布的調(diào)研報告顯示,，在高端光刻機市場,，阿斯麥的份額高達(dá)90%。

尼康在訴訟文件中稱,，要求阿斯麥和卡爾蔡司對未授權(quán)使用專利技術(shù)而做出賠償,。

對此，阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克（Peter Wennink）稱：“尼康的訴訟毫無依據(jù),，沒有必要,，為半導(dǎo)體市場制造了不確定性?！睖啬峥诉€稱,，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當(dāng)前的一份交叉授權(quán)協(xié)議進(jìn)行延期,。