文獻(xiàn)標(biāo)識碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.190961
中文引用格式: 伍文俊,,蘭雪梅. GaN FET的結(jié)構(gòu),、驅(qū)動(dòng)及應(yīng)用綜述[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2020,,46(1):22-29,,38.
英文引用格式: Wu Wenjun,Lan Xuemei. Overview on GaN FET structure, driving and its application[J]. Application of Electronic Technique,,2020,,46(1):22-29,38.
0 引言
氮化鎵(GaN)為第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,,在高溫,、高壓、高頻等應(yīng)用場合其半導(dǎo)體器件的特性都要優(yōu)于Si基半導(dǎo)體器件,,因此,,在電力電子的應(yīng)用領(lǐng)域備受矚目。
用GaN材料制成的功率器件GaN FET具有低的擊穿電壓,、低的閾值電壓,、低的柵極電荷Qg,其開關(guān)頻率高,,導(dǎo)通電阻小,。GaN FET優(yōu)越的特性與其器件結(jié)構(gòu)有極大的關(guān)系。但是它的缺點(diǎn)也不可忽視,,在高頻應(yīng)用場合表現(xiàn)極為明顯,,比如其對寄生參數(shù)極其敏感,高頻使用時(shí)極易使柵極電壓產(chǎn)生振蕩,,引起柵極過電壓,,導(dǎo)致器件工作不穩(wěn)定,,甚至不安全。因此相較于傳統(tǒng)的Si基半導(dǎo)體器件的驅(qū)動(dòng)電路,,GaN FET的驅(qū)動(dòng)要求更為嚴(yán)苛,。GaN FET的進(jìn)步、應(yīng)用的發(fā)展與其器件結(jié)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)電路有密不可分的聯(lián)系,,因此,,其器件結(jié)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)電路的研究很有意義。本文將對當(dāng)前國內(nèi)外GaN FET的器件結(jié)構(gòu),、驅(qū)動(dòng)電路及其在電機(jī)驅(qū)動(dòng),、LED驅(qū)動(dòng)、光伏逆變器,、POL等場合中的應(yīng)用進(jìn)行綜述,。
1 GaN FET的器件結(jié)構(gòu)及工作原理
GaN FET器件的結(jié)構(gòu)目前主要有耗盡型(Depletion mode,D-mode)和增強(qiáng)型(Enhancement mode,,E-mode),。增強(qiáng)型GaN FET又分單體GaN和Cascade GaN(共柵共源)。
1.1 耗盡型GaN FET
耗盡型GaN FET的器件結(jié)構(gòu)如圖1所示,。耗盡型GaN FET采用Si材料作為GaN FET的基片,,在Si基片基礎(chǔ)上生長出高阻性的GaN晶體層,即氮化鎵通道層(GaN channel),。一般在GaN層和Si襯底層之間添加氮化鋁(AIN)絕緣層作為氮化鎵緩沖層(GaN buffer),,將器件和襯底隔離開來。AlGaN層存在GaN層和柵極(G),、源極(S)和漏極(D)之間,;AlGaN層和GaN層之間可以產(chǎn)生具有高電子遷移率、低電阻特性的二維電子氣(Two-Dimensional Electron Gas,,2DEG),,且它的濃度隨AlGaN厚度先線性增加,然后達(dá)到飽和,。
與Si傳統(tǒng)器件不同,,耗盡型GaN FET由于氮化物極強(qiáng)的極化效應(yīng),AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)可以通過自發(fā)極化和壓電極化效應(yīng)在其界面形成很高濃度2DEG導(dǎo)電溝道,,在零柵壓下,,器件處于導(dǎo)通狀態(tài)。因此往往需要負(fù)壓關(guān)斷,。耗盡型GaN FET不同于Si MOSFET的是,,由于其柵極下方不存在與S極連接的P型寄生雙極性區(qū),因此沒有寄生體二極管,,故而器件開關(guān)損耗小,、具有對稱的傳導(dǎo)特性,。因此GaN FET可由正柵源電壓VGS或正柵漏電壓VGD驅(qū)動(dòng)。
1.2 增強(qiáng)型GaN FET
對于耗盡型GaN FET,,要關(guān)斷器件,,必須加負(fù)柵壓。這意味著電路中一旦有耗盡型GaN FET,,就會(huì)增加?xùn)艠O驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)的復(fù)雜性,,而且易發(fā)生誤導(dǎo)通,有直通的潛在威脅,,使電路穩(wěn)定性和安全性降低,。增強(qiáng)型GaN FET則相反,只有加正偏壓才會(huì)導(dǎo)通,,減小了電路復(fù)雜性,,穩(wěn)定性和安全性也較好。目前,,增強(qiáng)型GaN FET主要是在耗盡型高電子遷移率晶體管(Gallium Nitride High Electron Mobility Transistor,,GaN HEMT)結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上改進(jìn)而成。目前主要的增強(qiáng)型GaN FET結(jié)構(gòu)方案包括:P型柵,、凹槽柵,、Cascode結(jié)構(gòu)等。
1.2.1 P型柵結(jié)構(gòu)
有很多學(xué)者研究P型柵結(jié)構(gòu)的GaN FET,,如圖2所示[1-2],。與耗盡型不同的是,P型柵結(jié)構(gòu)是在AlGaN勢壘層上生長了一個(gè)帶正電的P型GaN柵極,,如圖2中的P-GaN層,。P型GaN層可以拉升AlGaN勢壘層的能帶,起到耗盡2DEG的作用,,以實(shí)現(xiàn)常斷特性。當(dāng)施加足夠的正VGS時(shí),,使柵源電壓大于閾值電壓,,P-GaN層的內(nèi)電場被削弱,2DEG濃度上升,,形成導(dǎo)通溝道,,GaN FET器件導(dǎo)通。隨著VGS的降低且小于閾值電壓,,溝道又逐漸關(guān)閉,,GaNFET器件關(guān)斷。因此,,這種結(jié)構(gòu)主要是通過控制P型柵極勢壘的電位,,升降A(chǔ)lGaN勢壘層的能帶,,使2DEG的濃度改變來實(shí)現(xiàn)對GaNFET器件的通斷控制。
文獻(xiàn)[3]在P型柵結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上,,采用在P-GaN層上沉積TiN金屬,,形成三層掩膜的柵極結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)肖特基接觸,,如圖3所示,。這種結(jié)構(gòu)存在柵極場板,可增加高壓應(yīng)用場板設(shè)計(jì)的靈活性,。實(shí)驗(yàn)證明,,這種結(jié)構(gòu)具有低柵極電阻、降低高漏源電壓VDS時(shí)的導(dǎo)通電阻RDS-ON等優(yōu)勢,,且相比采用歐姆接觸的P-GaN結(jié)構(gòu),,此結(jié)構(gòu)降低了柵極漏電流。
1.2.2 凹槽柵結(jié)構(gòu)
凹槽柵[4]結(jié)構(gòu)如圖4所示,,此結(jié)構(gòu)通過電感耦合等離子體(Inductively Couple Plasma,,ICP)干法刻蝕技術(shù)刻蝕掉柵極下方區(qū)域一定厚度的AlGaN勢壘層,當(dāng)AlGaN勢壘層厚度減薄到一定程度時(shí),,溝道內(nèi)的2DEG濃度會(huì)足夠低[5],。凹型柵極下方的整個(gè)AlGaN勢壘層被去除,柵極下的2DEG消失,,柵極金屬下沉積了Al2O3膜作為柵極電介質(zhì),,可防止由于器件尺寸越來越小而引發(fā)嚴(yán)重柵極漏電流、擊穿電壓過低等問題,。在零柵壓下,,2DEG濃度小到可以忽略,器件處于關(guān)斷狀態(tài),。只有施加正柵壓后,,導(dǎo)電通道才會(huì)恢復(fù),實(shí)現(xiàn)器件導(dǎo)通,,即實(shí)現(xiàn)增強(qiáng)型特性,。但除去柵極下方的勢壘層,AlGaN勢壘層其他區(qū)域的未被減薄,,2DEG濃度保持原有水平,。因此,凹槽柵技術(shù)制成的GaN FET在飽和電流和跨導(dǎo)方面較有優(yōu)勢,。
1.2.3 Cascode結(jié)構(gòu)
Cascode結(jié)構(gòu)是由高壓耗盡型GaN HEMT和低壓增強(qiáng)型Si MOSFET(金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管)級聯(lián)構(gòu)成的,,如圖5所示。
從結(jié)構(gòu)可知,當(dāng)器件不加?xùn)艍呵衣┰措妷捍笥诹銜r(shí),,工作在正向阻斷模態(tài),;當(dāng)柵壓大于Si MOSFET的閾值電壓時(shí),器件正向?qū)?;一旦Si MOSFET反向?qū)?,器件將工作在反向?qū)B(tài)。又因?yàn)镾i MOSFET的漏源電壓Vds_Si給GaN HEMT的柵源電壓Vgs_GaN提供負(fù)偏置電壓,,因此控制Si MOSFET的通斷即可控制GaN HEMT的通斷,。當(dāng)然,這種結(jié)構(gòu)由于引入了硅基器件,,因此對封裝的要求較高,,體積也較大。
與其他結(jié)構(gòu)GaNFET相比,,Cascode GaNFET的結(jié)構(gòu),,電壓等級較高、驅(qū)動(dòng)電壓范圍較寬,,但對dv/dt和di/dt敏感,,特別是在高頻時(shí),共源電感過大[6]可能會(huì)使器件損壞,。Andrew等人通過將智能柵極驅(qū)動(dòng)與Si MOSFET集成,,驅(qū)動(dòng)耗盡型GaN HEMT,形成智能Cascade GaNFET,,如圖6所示,。該智能Cascade GaNFET內(nèi)置電流檢測、可調(diào)輸出電阻,、可調(diào)電流檢測率和智能數(shù)字控制[7],。實(shí)驗(yàn)表明,此改進(jìn)的Cascode結(jié)構(gòu)通過利用動(dòng)態(tài)開關(guān)技術(shù),,可以減少柵極振蕩,、降低高電壓和電流轉(zhuǎn)換速率、解決dv/dt和di/dt問題,,優(yōu)化EMI,。
2 GaN FET的產(chǎn)品現(xiàn)狀
目前,生產(chǎn)耗盡型GaN FET的公司主要有美國Cree,,其產(chǎn)品主要的參數(shù)如表1所示,,為推廣耗盡型GaNHEMT的應(yīng)用,,Transphorm公司推出了Cascode結(jié)構(gòu)的GaN FET,。從表1可知Cree公司的GaN FET的閾值電壓為負(fù)值,充分體現(xiàn)了它在零柵壓下的常通特性。
增強(qiáng)型GaN FET的生產(chǎn)商則相對較多,,主要包括中國香港的EPC,、加拿大的GaN Systems、日本Panasonic公司等,,它們的主要參數(shù)見表2,。從表2可知,在增強(qiáng)型GaN FET產(chǎn)品中,,GaN Systems公司的電壓電流等級較高,,但閾值電壓較小,;EPC公司的電壓等級較低,,驅(qū)動(dòng)電壓范圍最窄,導(dǎo)通損耗較大,,但漏極電流等級最多,;Panasonic公司的電壓和電流等級最少,閾值電壓最低,,但開通較快,;Transphorm公司的電壓等級較高,驅(qū)動(dòng)范圍最廣,,閾值電壓較高[8],,使用較安全。
表3是GaN FET主要的封裝形式,,從表可知,,增強(qiáng)型GaN FET的封裝結(jié)構(gòu)中貼片式的使用較多,直插式的較少,。貼片式的外部引腳寄生效應(yīng)影響較小,,但不利于散熱;直插式則相反,,其散熱能力較好,,但高頻時(shí)往往易受寄生參數(shù)影響。
此外,,除單體GaN器件,,還有集成式GaN模塊產(chǎn)品。目前GaN集成形式最多的是GaN半橋模塊,,主要有EPC和GaN Systems在生產(chǎn),。其中EPC2104(100 V,30 A),、GS66508T(650 V,,30 A)分別是兩家公司等級最高的GaN半橋模塊產(chǎn)品。
3 GaN FET的驅(qū)動(dòng)
3.1 隔離方式
驅(qū)動(dòng)電路位于主電路與控制電路之間,其輸出與主電路有耦合關(guān)系,,其輸入與控制電路相連,。因此,驅(qū)動(dòng)電路往往需要隔離設(shè)計(jì),。一般的隔離方式主要分為光耦隔離和變壓器隔離,。目前,相較于變壓器隔離,,GaN FET驅(qū)動(dòng)電路的隔離中用光耦隔離[9-10]的較多,。光耦隔離的參數(shù)設(shè)計(jì)較簡單,但其輸出需要隔離驅(qū)動(dòng)電源,。目前,,GaN FET驅(qū)動(dòng)電路的分類主要是由分立元件構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)電路和以集成器件為主構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)電路。
3.2 驅(qū)動(dòng)電路的基本要求
增強(qiáng)型GaN FET的低柵源電壓VGS,、低閾值電壓VTH以及寄生參數(shù)等影響,使得傳統(tǒng)的Si驅(qū)動(dòng)電路不再適用于GaN,,GaNFET的驅(qū)動(dòng)要求更為嚴(yán)格,其驅(qū)動(dòng)電路至少具備以下三個(gè)功能:
(1)驅(qū)動(dòng)信號可靠性,。驅(qū)動(dòng)信號的可靠性對于驅(qū)動(dòng)電路來說是很重要的,,驅(qū)動(dòng)信號一旦不穩(wěn)定極有可能損壞GaN器件。因此,,一定要保證驅(qū)動(dòng)信號可靠傳輸,。一般在通信系統(tǒng)中或使用頻率在兆赫茲等級以上時(shí),常用微波驅(qū)動(dòng)(Drive-by-Mcrowave,,DBM)技術(shù)來傳輸驅(qū)動(dòng)信號[11],。
(2)抗擾性能。GaN FET的低閾值電壓使其對di/dt,、dv/dt和寄生電感極其敏感,,若驅(qū)動(dòng)的抗擾性不好,開關(guān)頻率的增加不僅使器件損耗增多,,嚴(yán)重時(shí)還會(huì)損壞器件,。因此,驅(qū)動(dòng)需要較好的抗擾性,。一般采取減小共源電感,、增加驅(qū)動(dòng)電阻等方法提高驅(qū)動(dòng)抗擾性。
(3)漏源回路寄生電感小,。GaN FET柵極信號的噪聲[12]和振蕩很強(qiáng),,一旦回路寄生電感過大會(huì)導(dǎo)致關(guān)斷時(shí)出現(xiàn)過電壓和寄生振蕩,導(dǎo)致額外的損耗,。因此可優(yōu)化驅(qū)動(dòng)回路,,減小寄生電感,。
3.3 分立式GaN FET驅(qū)動(dòng)電路
增強(qiáng)型GaN FET一般的分立式驅(qū)動(dòng)電路如圖7所示。分立式驅(qū)動(dòng)電路由驅(qū)動(dòng)電源VCC,、PWM信號、隔離和柵極電阻RG等基本部分組成,。前面幾部分主要是給GaN FET提供驅(qū)動(dòng)電壓VGS,。
圖8為GaN FET峰值箝位驅(qū)動(dòng)電路。通過加入二極管-電阻-電容網(wǎng)絡(luò)對柵極進(jìn)行箝位保護(hù)[13],,此箝位電路可以有效抑制開通過程的柵極電壓峰值和漏極電流峰值,。其中,R1和C1可使器件快速開關(guān)并抑制柵極電壓峰值,,但在關(guān)斷過程會(huì)產(chǎn)生負(fù)的柵極電壓尖峰,;故用D1、R3支路提高關(guān)斷時(shí)C1的放電速率,,且R3越大,,C1放電越快。
文獻(xiàn)[14]提出了一種降低反向?qū)〒p耗的GaN FET的新型柵驅(qū)動(dòng)電路,,如圖9所示,。作者在分壓型驅(qū)動(dòng)的基礎(chǔ)上加入了由電阻R3、電容C3,、P溝道MOSFET自激開關(guān)Q1和二極管Dg組成的電路,,如圖9虛線部分所示。其中,,C3,、R3的值要比C2、R2的值大得多,,因此,,C2比C3充放電快得多。關(guān)斷時(shí),,未改進(jìn)前的分壓驅(qū)動(dòng)中,,分壓電容C2存儲的電荷會(huì)產(chǎn)生高負(fù)VGS使反向?qū)〒p耗增加。改進(jìn)后,,加入的虛線部分電路可使C2放電,,使VGS幾乎降為零。另外,,VGS受二極管Dg的正向壓降限制,。因此,該驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)有效減少了器件反向特性引起的損耗,。
文獻(xiàn)[15]基于Transphorm公司的雙向GaN,,設(shè)計(jì)具有抗dv/dt的雙向GaN FET驅(qū)動(dòng)電路,,如圖10所示。數(shù)字隔離器具有高共模瞬態(tài)抗擾度,,可防止高dv/dt的影響,;鐵氧體磁珠用來抑制柵極電壓的振蕩;緩沖電路放在器件附近可以抑制浪涌電壓,。
目前,,已有的可變柵極驅(qū)動(dòng)在瞬態(tài)期間或之外只能改變每次開關(guān)事件的一次單驅(qū)動(dòng)參數(shù),而文獻(xiàn)[16]設(shè)計(jì)的有源驅(qū)動(dòng)在開關(guān)瞬態(tài)期間,,可激活0.12 Ω~64 Ω間的任意上拉或下拉柵極驅(qū)動(dòng)輸出電阻,,且達(dá)到6.7 GHz的有效電阻更新率,電路如圖11所示,。實(shí)驗(yàn)表明,,開環(huán)有源柵極驅(qū)動(dòng)能保持低開關(guān)損耗,減少過沖,、振蕩和EMI,。
3.4 集成式GaN FET驅(qū)動(dòng)電路
一般的分立式驅(qū)動(dòng)電路分立元件多,電路結(jié)構(gòu)較復(fù)雜,,導(dǎo)致保護(hù)也復(fù)雜,,從而可靠性變差。因此,,實(shí)際應(yīng)用中大多采用集成驅(qū)動(dòng)電路,。集成式驅(qū)動(dòng)電路主要由驅(qū)動(dòng)芯片和其他元件組成,如圖12所示,。而在GaN FET的集成驅(qū)動(dòng)中,,常用的驅(qū)動(dòng)芯片有LM5113[17-22]、UCC27611[9,,21],、UCC21520[23]等。
3.4.1 LM5113集成式驅(qū)動(dòng)電路
LM5113是專為驅(qū)動(dòng)同步buck或半橋配置的高端和低端增強(qiáng)型GaN FET而設(shè)計(jì)的驅(qū)動(dòng)芯片,。該芯片采用自舉技術(shù)生成高端偏置電壓,,并在內(nèi)部將其箝位在5.2 V,防止柵極電壓超過GaN FET 的最大柵源電壓額定值,。
文獻(xiàn)[22]提出了三電平驅(qū)動(dòng)技術(shù),,驅(qū)動(dòng)電路如圖13所示。只有當(dāng)在死區(qū)時(shí)間,,CON為高信號時(shí),,下管Vgs變?yōu)閂x(Vx<Vth)。理論上,,當(dāng)Vx接近Vth時(shí),,反向?qū)▔航禐?,。實(shí)驗(yàn)證明,與兩電平驅(qū)動(dòng)相比,,該驅(qū)動(dòng)使GaN FET反向?qū)▔航档玫接行Ы档?,從而提高了變換器的效率。
3.4.2 UCC27611集成式驅(qū)動(dòng)電路
UCC27611是單通道高速柵極驅(qū)動(dòng)器,,驅(qū)動(dòng)電壓VREF被內(nèi)部線性穩(wěn)壓器精確穩(wěn)壓至5 V,。其具有最低寄生電感的封裝和引腳分配,減少了上升和下降時(shí)間并限制了振鈴,。文獻(xiàn)[21]采用的集成驅(qū)動(dòng)電路如圖14所示,此電路的回路面積只有原來的1/30,,有效減少了寄生電感,,從而減少了對驅(qū)動(dòng)電壓的干擾。
文獻(xiàn)[9]基于UCC17611設(shè)計(jì)的集成驅(qū)動(dòng)不同于圖14,,其設(shè)計(jì)的電路在驅(qū)動(dòng)橋壁上管時(shí)驅(qū)動(dòng)信號先經(jīng)通用CMOS鎖相環(huán)集成電路CD4046,,再經(jīng)光耦數(shù)字隔離器Si8610BC后才由UCC27611驅(qū)動(dòng),而下管驅(qū)動(dòng)信號則不隔離直接經(jīng)過UCC27611驅(qū)動(dòng),。這種方式可以避免橋壁直通,,因?yàn)樯瞎艿尿?qū)動(dòng)信號經(jīng)過光耦等元件后,必定與下管驅(qū)動(dòng)信號不同步,,有延時(shí),。
3.4.3 UCC21520集成式驅(qū)動(dòng)電路
UCC21520是隔離雙通道柵極驅(qū)動(dòng)器,輸出的兩通道驅(qū)動(dòng)信號互補(bǔ),。當(dāng)PWM信號INA為高電平時(shí),,輸出OUTA驅(qū)動(dòng)上管開通;INB為高電平時(shí),,輸出OUTB驅(qū)動(dòng)下管,,且INA與INB是互補(bǔ)信號。文獻(xiàn)[23]采用UCC21520設(shè)計(jì)了含有源箝位的GaNFET驅(qū)動(dòng)如圖15所示,。由于芯片內(nèi)部集成有死區(qū)電路,,所以可通過改變驅(qū)動(dòng)電路中外接電阻R29的阻值來調(diào)節(jié)死區(qū)。磁珠起減緩柵極電路中產(chǎn)生較大電壓振蕩的作用,;穩(wěn)壓管用來防止柵源電壓VGS波動(dòng)太大使開關(guān)損壞,;箝位三極管V6可抑制干擾導(dǎo)致誤開通的現(xiàn)象??梢?,該集成驅(qū)動(dòng)電路的抗擾性較好。
4 GaN FET的典型應(yīng)用
4.1 在電機(jī)驅(qū)動(dòng)中的應(yīng)用
眾所周知,,在電力工業(yè)中60%以上負(fù)載是電機(jī),。在節(jié)能減排的大環(huán)境下,,電機(jī)的驅(qū)動(dòng)變換器向低功耗、高功率密度,、高效率發(fā)展,。為實(shí)現(xiàn)這些目標(biāo),人們把目光轉(zhuǎn)向GaN等功率器件,,利用GaN FET的特性提高電機(jī)驅(qū)動(dòng)變換器的性能,。
文獻(xiàn)[1]針對5 kW三相電機(jī),采用了GaN 3×3逆變模塊完成了矩陣變換器的控制,,大大減小了系統(tǒng)的損耗和體積,。在10 kHz工作時(shí),變換器效率達(dá)到96%,,功耗低于1 W,,體積減少不少于1%。
同樣在5 kW電機(jī)驅(qū)動(dòng)中,,由于傳統(tǒng)隔離柵極驅(qū)動(dòng)器在高溫下光耦的使用壽命短,,因此文獻(xiàn)[24]設(shè)計(jì)了適于高溫的帶隔離的微波驅(qū)動(dòng)半橋柵極驅(qū)動(dòng)器。此驅(qū)動(dòng)采用PGA26C09DV,,使得GaN逆變器工作在1 MHz時(shí),,開關(guān)損耗恒為0.9 W,效率達(dá)到了94%[11],,且在140°的環(huán)境溫度中也能提供足夠的柵極功率,。
文獻(xiàn)[25]通過對采用型號為TPH3206LD的GaN FET和型號為IPL60R185P7的Si MOSFET的三相逆變器的性能比較后發(fā)現(xiàn),開關(guān)頻率在10 kHz~100 kHz變化時(shí),,GaN逆變器的開關(guān)損耗占總損耗的12%~55%,、效率在97.8%~96.4%之間;而Si的損耗為36%~77%,,10 kHz時(shí)效率只有96.9%,。可見,,GaN逆變器應(yīng)用到電機(jī)驅(qū)動(dòng)中,,其性能要優(yōu)于Si的,也更有潛力,。
4.2 在LED驅(qū)動(dòng)中的應(yīng)用
LED壽命長,、效率高、節(jié)能等優(yōu)勢使其越來越受歡迎,,但LED是直流供電,,因此變換器成為其必不可少的一部分。由于變換器極貼近LED燈,,這要求變換器小型化,、能在高溫下運(yùn)行,。而小型化需要開關(guān)頻率在兆赫茲范圍,因此GaN等新型寬禁帶半導(dǎo)體在LED驅(qū)動(dòng)中有潛在的市場,。
Eric等人提出一種小而簡單的模擬磁滯控制谷底開關(guān)(準(zhǔn)諧振)浮動(dòng)Buck變換器[26],,該變換器使用了GaN FET器件。并通過實(shí)驗(yàn)證明,,600 V GaN FET在MHz頻率等級的優(yōu)越開關(guān)性能使得變換器尺寸有效減小,,從而進(jìn)一步提高了功率密度,并使20 W的LED在2.5~4.4 MHz時(shí)效率達(dá)到91.2%,??梢姡珿aN FET在LED驅(qū)動(dòng)應(yīng)用的前景非??捎^,。
4.3 其他應(yīng)用場合
4.3.1 光伏逆變器
光伏電池板與電網(wǎng)存在電氣連接,逆變器的高頻行為所導(dǎo)致的共模電壓通過光伏板與大地之間的寄生電容,,形成共模電流,,而共模電流會(huì)引起并網(wǎng)電流的畸變,,產(chǎn)生電磁干擾,,嚴(yán)重時(shí)會(huì)對人的安全產(chǎn)生威脅。因此,,需要抑制或消除非隔離型光伏并網(wǎng)系統(tǒng)中的共模電流,,基于型號TPH3006PS的GaN雙buck并網(wǎng)逆變器有效解決了這個(gè)問題。經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明,,其效率達(dá)到98.63%[27],。
4.3.2 POL
隨著負(fù)載點(diǎn)技術(shù)(Point of Load,POL)在信息通信技術(shù)ICT設(shè)備中的應(yīng)用,,開關(guān)頻率達(dá)到30 MHz時(shí),,減少寄生阻抗成為GaN基同步DC/DC變換器的最大挑戰(zhàn)[28]。Akagi等人通過設(shè)計(jì)柵極驅(qū)動(dòng)IC并在上面加入3D堆疊電源SoC(Stacked-on-Chip),,使變換器在30 MHz下最大效率達(dá)到了59%,,優(yōu)化后最高效率預(yù)計(jì)為85%??梢?,型號為EPC8002的GaN FET在高頻上頗有優(yōu)勢。
目前,,GaN FET在電力電子裝置應(yīng)用廣泛,。研究者主要是利用GaN FET高的開關(guān)頻率、低的開關(guān)損耗等優(yōu)勢,,通過提高變換器工作頻率減小裝置體積,,進(jìn)而提高裝置效率,、降低裝置成本、增加收益,。
表4給出了GaN FET變換器在其他方面的應(yīng)用研究情況,。從表中可以看到,GaN FET目前多用在中小功率變換器上,,隨著開關(guān)頻率的提高,,變換器效率降低,但基本在90%及以上,。實(shí)驗(yàn)證明,,效率的降低與開關(guān)損耗機(jī)理有關(guān)[29]。當(dāng)然,,除了提高效率,,用GaN FET設(shè)計(jì)的功率1 kW以上的變換器,輸出電壓和電流紋波很小[30-31],。此外,,采用GaN FET并聯(lián)技術(shù)[32-34]有可能使其應(yīng)用到10 kW及以上的大功率場合??梢?,GaN FET在變換器的應(yīng)用前景廣闊。
5 結(jié)論
通過對GaN FET的器件結(jié)構(gòu),、驅(qū)動(dòng)電路以及應(yīng)用的研究,,可以看出只要解決GaN FET高頻下獨(dú)特的柵極振蕩問題,就能極大地推動(dòng)它的發(fā)展,。一般可從兩方面著手,,一是設(shè)計(jì)性能更好的器件結(jié)構(gòu);二是設(shè)計(jì)更合理的驅(qū)動(dòng)電路,。雖然GaN FET目前在中小功率場合更有優(yōu)勢,,但未來,隨著對GaN FET性能的不斷改進(jìn)和提高,,更多大功率場合也必然有GaN FET的一席之地,。
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作者信息:
伍文俊,,蘭雪梅
(西安理工大學(xué) 自動(dòng)化與信息工程學(xué)院,陜西 西安710048)