《電子技術(shù)應(yīng)用》
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英特爾5nm制程電晶體面臨瓶頸,,或棄用 FinFET專(zhuān)用GAA環(huán)繞柵極電晶體,?

2020-03-16
來(lái)源:與非網(wǎng)
關(guān)鍵詞: 英特爾 FinFET GAA

  3 月 16 日訊,,有消息表示,處理器龍頭廠商英特爾在 5 納米節(jié)點(diǎn)上將會(huì)放棄 FinFET 電晶體,,轉(zhuǎn)向 GAA 環(huán)繞柵極電晶體,。

  此前,英特爾(Intel)的財(cái)務(wù)長(zhǎng) George Davis 在公開(kāi)場(chǎng)合表示,,目前除了 10 納米產(chǎn)能正在加速之外,,英特爾還將恢復(fù)制程技術(shù)領(lǐng)先的關(guān)鍵部分寄望在未來(lái)更先進(jìn)制程的發(fā)展上,包括英特爾將在 2021 年推出 7 納米制程技術(shù),,并且將在 7 納米制程的基礎(chǔ)上發(fā)展出 5 納米制程,。

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  據(jù)悉,隨著制程技術(shù)的升級(jí),,芯片的電晶體制作也面臨著瓶頸,。英特爾最早在 22 納米的節(jié)點(diǎn)上首先使用了 FinFET 電晶體技術(shù),,當(dāng)時(shí)叫做 3D 電晶體,就是將原本平面的電晶體,,變成立體的 FinFET 鰭式場(chǎng)效電晶體,,不僅提高了芯片的性能,也降低了功耗,。之后,,F(xiàn)inFET 電晶體也成為全球主要晶圓廠制程發(fā)展的選擇,一直用到現(xiàn)在的 7 納米及 5 納米制程節(jié)點(diǎn)上,。

  目前在 GAA 電晶體上也有多種技術(shù)發(fā)展路線(xiàn),。如之前三星提到自家的 GAA 電晶體相較于第一代的 7 納米制程來(lái)說(shuō),能夠提升芯片 35%的性能,,并且降低 50%的功耗以及 45%的芯片面積,。對(duì)于三星而言,GAA 電晶體就已經(jīng)有這樣的效能,,而英特爾在技術(shù)實(shí)力上會(huì)比三星要更加強(qiáng)大,,未來(lái)英特爾在 GAA 電晶體的發(fā)展上,期提升效能應(yīng)該會(huì)更加明顯,。

  另外,,其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電目前在 2020 年首季準(zhǔn)備量產(chǎn) 5 納米制程上,依舊采用 FinFET 電晶體,。但是,到了下一世代的 3 納米節(jié)點(diǎn),,目前臺(tái)積電還尚未公布預(yù)計(jì)的制程方式,。根據(jù)臺(tái)積電官方的說(shuō)法,其 3 納米相關(guān)細(xì)節(jié)將會(huì)在 2020 年的 4 月 29 日的的北美技術(shù)論壇上公布,。

  目前,,英特爾 5 納米制程的問(wèn)世時(shí)間也還沒(méi)明確的時(shí)間表。不過(guò),,英特爾之前提到 7 納米之后制程技術(shù)發(fā)展周期將會(huì)回歸以往的 2 年升級(jí)的節(jié)奏上,,因此就是表示最快 2023 年就能見(jiàn)到英特爾的 5 納米制程技術(shù)問(wèn)世。


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