ASML近日官宣,,最新規(guī)格EUV光刻機擬明年中期發(fā)貨,。
據(jù)《科創(chuàng)板日報》消息,ASML公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,,這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,,提高了18%的生產(chǎn)率,,并改進機器匹配套準精度至1.1納米,,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨,。
在DUV光刻業(yè)務領(lǐng)域,ASML在本季度對第一臺TWINSCAN NXT:2050i進行了質(zhì)量認證,,并于第四季度初發(fā)貨,。NXT:2050i基于NXT平臺的新版本,其中包括掩模版工作臺,,晶圓工作臺,,投影物鏡和曝光激光器的技術(shù)改進。該系統(tǒng)提供了比其前身更好的套刻精度控制,,并具有更高的生產(chǎn)率,,而且,NXT:2050i 將立即進入批量生產(chǎn),。
ASML是全球光刻機行業(yè)龍頭,,市占率超過60%,在DUV浸入式光刻機市場占據(jù)了最大的份額,,并壟斷了頂級的EUV光刻機市場,。
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