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KLA推出兩種全新的系統(tǒng)來解決半導(dǎo)體制造業(yè)中最棘手的問題

PWG5?專門針對(duì)3D NAND的制程問題,Surfscan® SP7XP則專注解決3nm邏輯產(chǎn)品的缺陷
2020-12-14
來源:KLA

美國(guó)加州,,米爾皮塔斯市,2020年12月14日:今天,,KLA公司(納斯達(dá)克股票代碼:KLAC)宣布推出兩款全新產(chǎn)品:PWG5? 晶圓幾何系統(tǒng)與Surfscan? SP7XP晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)。新系統(tǒng)專注解決先進(jìn)的存儲(chǔ)器與邏輯集成電路制造中遇到的極其困難的問題,。

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KLA全新的PWG5? 圖形晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)和Surfscan? SP7XP無圖案晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)支持先進(jìn)邏輯,、DRAM和3D NAND產(chǎn)品的開發(fā)與生產(chǎn)。

功能最強(qiáng)大的閃存結(jié)構(gòu)是建立在稱為3D NAND的體系中,,類似是分子世界中的摩天大樓,,堆疊結(jié)構(gòu)甚至更高。96層頂級(jí)存儲(chǔ)芯片已經(jīng)投放市場(chǎng),,應(yīng)用在最先進(jìn)的移動(dòng)通訊設(shè)備中,,而在不斷尋求空間效率和成本效益的驅(qū)使下,它很快會(huì)被具有128層或更多層級(jí)結(jié)構(gòu)的3D NAND產(chǎn)品取代 ,。為了制造這些復(fù)雜的結(jié)構(gòu),需要經(jīng)過沉積數(shù)百種不同材質(zhì)的薄膜,,然后通過刻蝕并填充幾微米深,、百分之一微米面積的導(dǎo)通孔結(jié)構(gòu)來創(chuàng)建存儲(chǔ)單元。隨著這些薄膜堆疊的積累,,它們會(huì)在晶圓上產(chǎn)生應(yīng)力,,最終使晶片的表面平面度變形,。這些翹曲的晶圓會(huì)影響下游工藝的均勻性以及圖案成型的完整性,最終影響器件的性能和產(chǎn)品良率,。PWG5量測(cè)系統(tǒng)具備前所未有的分辨率,,能測(cè)量出晶圓幾何形貌的微小變形,從源頭識(shí)別并修正圖案化晶圓的變形,。而且,,這些關(guān)鍵的晶圓幾何形狀測(cè)量現(xiàn)在能夠配合在線生產(chǎn)的速度,并在較大的翹曲范圍內(nèi)完成,。

KLA Surfscan and ADE部門總經(jīng)理Jijen Vazhaeparambil表示:“復(fù)雜的3D NAND多層結(jié)構(gòu)將晶圓幾何測(cè)量推向了最前沿,。“我們新型的圖案化晶圓幾何系統(tǒng)PWG5所具備的靈敏度,,可同時(shí)測(cè)量晶圓正面和背面與平面度的任何偏差,。首創(chuàng)的在線測(cè)量速度和出色的分辨率不僅支持3D NAND產(chǎn)品制程,還支持先進(jìn)的DRAM和邏輯產(chǎn)品應(yīng)用,。結(jié)合KLA的5D Analyzer? 數(shù)據(jù)分析系統(tǒng),,PWG5將幫助我們的客戶制定相應(yīng)的決策,例如晶圓返工,、工藝設(shè)備的重新校準(zhǔn)或提醒光刻系統(tǒng),,并提供最佳的圖案校正建議。PWG5系統(tǒng)在制程控制中起著至關(guān)重要的作用,,有助于提高先進(jìn)的存儲(chǔ)器和邏輯產(chǎn)品良率,、性能和工廠盈利能力?!?/p>

先進(jìn)的邏輯產(chǎn)品方面,,5nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)產(chǎn)品的大批量生產(chǎn)在不斷增長(zhǎng)的同時(shí),3nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)也正處于研發(fā)階段,。在這些技術(shù)節(jié)點(diǎn)中最關(guān)鍵的結(jié)構(gòu)層,,*EUV光刻技術(shù)的應(yīng)用已經(jīng)非常普及,伴隨著finFET或全環(huán)繞柵極晶體管(GAA)架構(gòu)之類的新型架構(gòu),,器件的制程也變得更為復(fù)雜,。以可重復(fù)的方式在晶圓上進(jìn)行數(shù)十億次的可重復(fù)圖案成型,需要進(jìn)行精確的缺陷控制,,包括使用無圖案化晶圓檢測(cè)系統(tǒng)對(duì)起始的基板晶圓和材料進(jìn)行仔細(xì)鑒定,,并經(jīng)常監(jiān)控制程和設(shè)備。以Surfscan SP7為基準(zhǔn),,新的Surfscan SP7XP無圖案晶圓缺陷檢測(cè)系統(tǒng)具有靈敏度和生產(chǎn)能力方面的進(jìn)步,,并引入了基于機(jī)器學(xué)習(xí)的缺陷分類方式,可以應(yīng)對(duì)更廣泛的薄膜和基材類型,,捕獲和識(shí)別更大范圍的缺陷類型,。

Vazhaeparambil補(bǔ)充說:“ Surfscan設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)不僅專注于靈敏度和缺陷分類技術(shù)的進(jìn)步,,而且還著眼于提高產(chǎn)品的擁有成本?!?nbsp;因此,,針對(duì)無圖案晶圓檢測(cè)的應(yīng)用,Surfscan SP7XP代表了一種單設(shè)備解決方案,,涵蓋了先進(jìn)設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)器件產(chǎn)品和所需基板從研發(fā)到大規(guī)模生產(chǎn)的需求,。硅晶圓制造商、半導(dǎo)體設(shè)備制造商開發(fā)無缺陷制程以及芯片代工廠都在使用它,,確保入場(chǎng)晶圓,、制程和設(shè)備的質(zhì)量與性能。

為了維護(hù)系統(tǒng)的高性能和生產(chǎn)力,,Surfscan SP7XP和PWG5系統(tǒng)得到了KLA全球綜合服務(wù)網(wǎng)絡(luò)的支持,。有關(guān)PWG5和Surfscan SP7XP系統(tǒng)新功能與技術(shù)的更多信息,及此處未介紹的系統(tǒng)應(yīng)用程序的相關(guān)信息,,請(qǐng)?jiān)L問KLA Advance新聞中心,。

*半導(dǎo)體行業(yè)使用的節(jié)點(diǎn)命名法與晶體管的最小尺寸有關(guān)。為了比較,,3nm大約是雙螺旋DNA直徑的一半,。


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