根據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）的數(shù)據(jù)表明,，2020年全球集成電路、面板,、LED用光刻機(jī)出貨約580臺(tái),，較2019年增加30臺(tái)。其中集成電路制造用光刻機(jī)出貨約410臺(tái),；面板,、LED用光刻機(jī)出貨約170臺(tái)。

　　一,、前三大出貨情況

　　2020年,，前三大ASML、Nikon,、Canon的集成電路用光刻機(jī)出貨達(dá)413臺(tái),，較2019年的359臺(tái)增加54臺(tái)，漲幅為15%,。

　　從EUV,、ArFi、ArF三個(gè)高端機(jī)型的出貨來(lái)看,，2020年共出貨143臺(tái),，較2019年的154臺(tái)下滑7%。其中ASML出貨121臺(tái),，占有85%的市場(chǎng),，較2019年增加1個(gè)百分點(diǎn)；Nikon出貨22臺(tái),，占有15%的市場(chǎng),，較2019年減少1個(gè)百分點(diǎn)。

　　EUV方面還是ASML獨(dú)占鰲頭,，市占率100%,；ArFi方面ASML市占率高達(dá)86%，較2019年減少2個(gè)百分占,；ArF方面ASML占有67%的市場(chǎng)份額,，較2019年增加4個(gè)百分點(diǎn),；KrF方面ASML也是占據(jù)71%的市場(chǎng)份額，較2019年增加8個(gè)百分點(diǎn),；在i線方面ASML也有27%的市場(chǎng)份額。

　　從總營(yíng)收來(lái)看,，2020年前三大ASML,、Nikon、Canon的光刻機(jī)總營(yíng)收達(dá)988億元人民幣,，較2019年小幅增長(zhǎng)4.6%,。從營(yíng)收占比來(lái)看，ASML占據(jù)79%的份額,，較2019年增加5個(gè)百分點(diǎn),。ASML在2020年各型號(hào)光刻機(jī)出貨數(shù)量增長(zhǎng)13%，且高端機(jī)臺(tái)EUV的出貨量增加了5臺(tái),，也使得總體營(yíng)收增長(zhǎng)超過(guò)10%,。

　　ASML

　　2020年ASML光刻機(jī)營(yíng)收約780億元人民幣，較2019年成長(zhǎng)10.8%,。

　　2020年ASML共出貨258臺(tái)光刻機(jī),，較2019年229年增加29臺(tái)，增長(zhǎng)13%,。其中EUV光刻機(jī)出貨31臺(tái),，較2019年增加5臺(tái)；ArFi光刻機(jī)出貨68臺(tái),，較2019年減少14臺(tái),；ArF光刻機(jī)出貨22臺(tái)，和2018年持平,；KrF光刻機(jī)出貨103臺(tái),，較2019年增加38臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨34臺(tái),，和2019年持平,。

　　2020年ASML的EUV光刻機(jī)營(yíng)收達(dá)350億元人民幣，占光刻機(jī)整體收入的45%,，較2019年增加133億元人民幣,。2020年單臺(tái)EUV平均售價(jià)超過(guò)11億元人民幣，較2019年單臺(tái)平均售價(jià)增長(zhǎng)35%,。從2011年出售第一臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)以來(lái),，截止2020年第四季出貨超過(guò)100臺(tái)，達(dá)101臺(tái),。且EUV機(jī)臺(tái)單價(jià)越來(lái)越高,，據(jù)悉,，2020年第四季接獲得的6臺(tái)總額達(dá)86億人民幣，單臺(tái)價(jià)格超過(guò)14億人民幣,。

　　2020年來(lái)自中國(guó)的光刻機(jī)收入占比18%,，超過(guò)140億人民幣，表明中國(guó)內(nèi)地各大FAB至少共搬入30臺(tái)以上光刻機(jī),。

　　Nikon

　　2020年度,，Nikon光刻機(jī)業(yè)務(wù)營(yíng)收約120億元人民幣，較2019年下滑23%,。

　　2020年度,，Nikon集成電路用光刻機(jī)出貨33臺(tái)，較2019年減少13臺(tái),。其中ArFi光刻機(jī)出貨11臺(tái),，和2019年度持平；ArF光刻機(jī)出貨11臺(tái),，較2019年度減少2臺(tái),；KrF光刻機(jī)出貨2臺(tái)，較2017年度減少2臺(tái),；i-line光刻機(jī)出貨9臺(tái),，較2019年度減少9臺(tái)。

　　2020年度,，Nikon全新機(jī)臺(tái)出貨26臺(tái),，翻新機(jī)臺(tái)出貨7臺(tái)。

　　2020年,，Nikon面板（FPD）用光刻機(jī)出貨20臺(tái),，較2019年下跌50%。但面板用光刻機(jī)主要是10.5代線用光刻機(jī)出貨,，共出貨13臺(tái),。

　　Canon

　　2020年，Canon光刻機(jī)營(yíng)收約為88億元人民幣,，較2019年下降約7%,。

　　2020年，Canon半導(dǎo)體用全部是i-line,、KrF兩個(gè)低端機(jī)臺(tái)出貨,，光刻機(jī)出貨量達(dá)122臺(tái)，較2019年出貨增加38臺(tái),，增幅32%,，其中i-line機(jī)臺(tái)是出貨的主力，得益于化合物半導(dǎo)體和板級(jí)封裝的發(fā)展。

　　2020年7月,，Canon針對(duì)板級(jí)封裝推出i線步進(jìn)式光刻機(jī)FPA-8000iW,，可對(duì)應(yīng)尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力。據(jù)悉佳能自主研發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)52×68mm的大視場(chǎng)曝光,，達(dá)到了板級(jí)基板封裝光刻機(jī)中高標(biāo)準(zhǔn)的1.0微米解像力,，將極大推動(dòng)追求高速處理的AI芯片、HPCR的封裝,。

　　佳能還將在2021年3月出貨新式i線步進(jìn)式光刻機(jī)“FPA-3030i5a”,，可以對(duì)硅基以及SiC（碳化硅）和GaN（氮化鎵）等化合物半導(dǎo)體晶圓，從而實(shí)現(xiàn)多種半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)制造……

　　2020年2月正式出貨FPA-3030iWa型光刻機(jī),，采用的投影透鏡具有52毫米x52毫米的廣角,，NA可從0.16到0.24范圍內(nèi)可調(diào),。新設(shè)備可以在2英寸到8英寸之間自由選擇晶圓尺寸的處理系統(tǒng),，方便支持各種化合物半導(dǎo)體晶圓，可運(yùn)用在未來(lái)需求增長(zhǎng)的汽車功率器件,、5G相關(guān)的通信器件,、IoT相關(guān)器件（如MEMS和傳感器等）的制造工藝中。

　　2020年,，Canon面板（FPD）用光刻機(jī)出貨32臺(tái),，較2019年出貨量減少18臺(tái)，下滑36%,。

　　二,、其他公司出貨

　　上海微電子SMEE

　　上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司光刻機(jī)主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝,、FPD,、MEMS、LED,、功率器件等制造領(lǐng)域,，2020年出貨預(yù)估在60+臺(tái)，較2019年增加約10臺(tái),，主要集中在先進(jìn)封裝,、LED方面，在FPD領(lǐng)域也有出貨,。

　　不錯(cuò),，我國(guó)正在協(xié)力攻關(guān)193nm DUV光刻機(jī)和浸沒(méi)式光刻機(jī)，在先進(jìn)沒(méi)光刻機(jī)方面進(jìn)展還是相當(dāng)快,。至于網(wǎng)上流傳的上海微電子將在2021年交付28納米光刻機(jī)一事,，芯思想研究院認(rèn)為不要很樂(lè)觀，但也不要悲觀,。能成功交付當(dāng)然是好事,，不能按時(shí)交付媒體也不要去噴,。

　　SUSS

　　德國(guó)SUSS光刻機(jī)主要用于半導(dǎo)體集成電路先進(jìn)封裝、MEMS,、LED,，2020年光刻機(jī)收入約7.8億元人民幣，較2019年成長(zhǎng)10%,。

　　VEECO

　　2020年公司來(lái)自先進(jìn)封裝,、MEMS和LED用光刻機(jī)的營(yíng)收約為4億元人民幣，較2019年成長(zhǎng)30%,。預(yù)估銷售臺(tái)數(shù)在30臺(tái)以內(nèi),。

　　EVG

　　公司的光刻設(shè)備主要應(yīng)用于先進(jìn)封裝、面板等行業(yè),，當(dāng)然公司也出售對(duì)準(zhǔn)儀等,。

　　三、ASML EUV進(jìn)展

　　從2018年以來(lái),，ASML一直在加速EUV技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn),；二是實(shí)驗(yàn)以0.55 NA取代目前的0.33 NA，具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓,，從而提高分辨率,，并且實(shí)現(xiàn)更小的特征尺寸。

　　2020年10月,，ASML公布新一代TWINSCAN NXE: 3600D的參數(shù)和規(guī)格,。NXE: 3600D套刻精度提升至1.1nm，曝光速度30 mJ/cm2,，每小時(shí)曝光160片晶圓,。而NXE: 3400C的套刻精度為1.5nm，曝光速度20mJ/cm2,，每小時(shí)可曝光170片晶圓,；更早的NXE: 3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2,，每小時(shí)可曝光125片晶圓,。不過(guò)NXE: 3600D最快也要到2021年第二季發(fā)貨。

　　從2011年出售第一臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)以來(lái),，截止2020年第四季出貨101臺(tái),。且EUV機(jī)臺(tái)單價(jià)越來(lái)越高，據(jù)悉,，2020年第四季接獲得的6臺(tái)總額達(dá)86億人民幣,，單臺(tái)價(jià)格超過(guò)14億人民幣。

　　預(yù)估2022年將推出0.55 NA的新機(jī)型EXE:5000樣機(jī)，可用于1納米生產(chǎn),，按照之前的情況推測(cè),，真正量產(chǎn)機(jī)型出貨可能要等到2024年。當(dāng)然0.55 NA鏡頭的研發(fā)進(jìn)度也會(huì)影響新機(jī)型的出貨時(shí)間,。

　　2020年ASML全年出貨31臺(tái)EUV光刻機(jī),，沒(méi)有達(dá)到預(yù)期的35臺(tái)，也許和2020年的新冠疫情有關(guān),。

　　四,、Canon NIL發(fā)展

　　針對(duì) 7納米米以下節(jié)點(diǎn)，ASML的重點(diǎn)是EUV,，同時(shí)也向客戶出售ArF浸沒(méi)系統(tǒng),，ArF浸沒(méi)系統(tǒng)可與多種曝光工藝配合使用，將DUV光刻技術(shù)擴(kuò)展到7納米以下,；而Nikon只推ArF浸沒(méi)系統(tǒng),。

　　Canon押注納米壓印（Nanoimprint Lithography,，NIL）,，該技術(shù)來(lái)源于佳能2014年收購(gòu)的Molecular Imprints,。

　　最新的納米壓?。∟IL）的參數(shù)指標(biāo)不錯(cuò)，套刻精度為2.4nm/3.2nm,，每小時(shí)可曝光超過(guò)100片晶圓,。

　　據(jù)悉，納米壓?。∟IL）已經(jīng)達(dá)到3D NAND的要求,，日本3D NAND大廠鎧俠（Kioxia，原東芝存儲(chǔ)部門(mén)）已經(jīng)開(kāi)始96層3D NAND中使用此技術(shù),。在3D NAND之外 也可以滿足1Anm DRAM的生產(chǎn)需求,。