根據(jù)芯思想研究院（ChipInsights）的數(shù)據(jù)表明,，2020年全球集成電路、面板,、LED用光刻機出貨約580臺,，較2019年增加30臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約410臺,；面板,、LED用光刻機出貨約170臺。
一,、前三大出貨情況
2020年,，前三大ASML,、Nikon、Canon的集成電路用光刻機出貨達(dá)413臺,，較2019年的359臺增加54臺,，漲幅為15%。
從EUV,、ArFi,、ArF三個高端機型的出貨來看，2020年共出貨143臺,，較2019年的154臺下滑7%,。其中ASML出貨121臺，占有85%的市場,，較2019年增加1個百分點,；Nikon出貨22臺，占有15%的市場,，較2019年減少1個百分點,。
EUV方面還是ASML獨占鰲頭，市占率100%,；ArFi方面ASML市占率高達(dá)86%,，較2019年減少2個百分占；ArF方面ASML占有67%的市場份額,，較2019年增加4個百分點,；KrF方面ASML也是占據(jù)71%的市場份額，較2019年增加8個百分點,；在i線方面ASML也有27%的市場份額,。
從總營收來看，2020年前三大ASML,、Nikon,、Canon的光刻機總營收達(dá)988億元人民幣，較2019年小幅增長4.6%,。從營收占比來看,，ASML占據(jù)79%的份額，較2019年增加5個百分點,。ASML在2020年各型號光刻機出貨數(shù)量增長13%,，且高端機臺EUV的出貨量增加了5臺，也使得總體營收增長超過10%,。
ASML
2020年ASML光刻機營收約780億元人民幣,，較2019年成長10.8%。
2020年ASML共出貨258臺光刻機，較2019年229年增加29臺,，增長13%,。其中EUV光刻機出貨31臺,，較2019年增加5臺,；ArFi光刻機出貨68臺，較2019年減少14臺,；ArF光刻機出貨22臺,，和2018年持平；KrF光刻機出貨103臺,，較2019年增加38臺,；i-line光刻機出貨34臺，和2019年持平,。
2020年ASML的EUV光刻機營收達(dá)350億元人民幣,，占光刻機整體收入的45%，較2019年增加133億元人民幣,。2020年單臺EUV平均售價超過11億元人民幣,，較2019年單臺平均售價增長35%。從2011年出售第一臺EUV機臺以來,，截止2020年第四季出貨超過100臺,，達(dá)101臺。且EUV機臺單價越來越高,，據(jù)悉,，2020年第四季接獲得的6臺總額達(dá)86億人民幣，單臺價格超過14億人民幣,。
2020年來自中國的光刻機收入占比18%,，超過140億人民幣，表明中國內(nèi)地各大FAB至少共搬入30臺以上光刻機,。
Nikon
2020年度,，Nikon光刻機業(yè)務(wù)營收約120億元人民幣，較2019年下滑23%,。
2020年度,，Nikon集成電路用光刻機出貨33臺，較2019年減少13臺,。其中ArFi光刻機出貨11臺,，和2019年度持平；ArF光刻機出貨11臺,，較2019年度減少2臺,；KrF光刻機出貨2臺，較2017年度減少2臺；i-line光刻機出貨9臺,，較2019年度減少9臺,。
2020年度，Nikon全新機臺出貨26臺,，翻新機臺出貨7臺,。
2020年，Nikon面板（FPD）用光刻機出貨20臺,，較2019年下跌50%,。但面板用光刻機主要是10.5代線用光刻機出貨，共出貨13臺,。
Canon
2020年,，Canon光刻機營收約為88億元人民幣，較2019年下降約7%,。
2020年,，Canon半導(dǎo)體用全部是i-line、KrF兩個低端機臺出貨,，光刻機出貨量達(dá)122臺,，較2019年出貨增加38臺，增幅32%,，其中i-line機臺是出貨的主力,，得益于化合物半導(dǎo)體和板級封裝的發(fā)展。
2020年7月,，Canon針對板級封裝推出i線步進(jìn)式光刻機FPA-8000iW,，可對應(yīng)尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力。據(jù)悉佳能自主研發(fā)的投影光學(xué)系統(tǒng)可實現(xiàn)52×68mm的大視場曝光,，達(dá)到了板級基板封裝光刻機中高標(biāo)準(zhǔn)的1.0微米解像力,，將極大推動追求高速處理的AI芯片、HPCR的封裝,。
佳能還將在2021年3月出貨新式i線步進(jìn)式光刻機“FPA-3030i5a”,，可以對硅基以及SiC（碳化硅）和GaN（氮化鎵）等化合物半導(dǎo)體晶圓，從而實現(xiàn)多種半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)制造……
2020年2月正式出貨FPA-3030iWa型光刻機,，采用的投影透鏡具有52毫米x52毫米的廣角,，NA可從0.16到0.24范圍內(nèi)可調(diào)。新設(shè)備可以在2英寸到8英寸之間自由選擇晶圓尺寸的處理系統(tǒng),，方便支持各種化合物半導(dǎo)體晶圓,，可運用在未來需求增長的汽車功率器件、5G相關(guān)的通信器件,、IoT相關(guān)器件（如MEMS和傳感器等）的制造工藝中,。
2020年，Canon面板（FPD）用光刻機出貨32臺，較2019年出貨量減少18臺,，下滑36%,。
二、其他公司出貨
上海微電子SMEE
上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司光刻機主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道,、先進(jìn)封裝,、FPD、MEMS,、LED,、功率器件等制造領(lǐng)域,，2020年出貨預(yù)估在60+臺,，較2019年增加約10臺，主要集中在先進(jìn)封裝,、LED方面,，在FPD領(lǐng)域也有出貨。
不錯,，我國正在協(xié)力攻關(guān)193nm DUV光刻機和浸沒式光刻機,，在先進(jìn)沒光刻機方面進(jìn)展還是相當(dāng)快。至于網(wǎng)上流傳的上海微電子將在2021年交付28納米光刻機一事,，芯思想研究院認(rèn)為不要很樂觀,，但也不要悲觀。能成功交付當(dāng)然是好事,，不能按時交付媒體也不要去噴,。
SUSS
德國SUSS光刻機主要用于半導(dǎo)體集成電路先進(jìn)封裝、MEMS,、LED,，2020年光刻機收入約7.8億元人民幣，較2019年成長10%,。
VEECO
2020年公司來自先進(jìn)封裝,、MEMS和LED用光刻機的營收約為4億元人民幣，較2019年成長30%,。預(yù)估銷售臺數(shù)在30臺以內(nèi),。
EVG
公司的光刻設(shè)備主要應(yīng)用于先進(jìn)封裝、面板等行業(yè),，當(dāng)然公司也出售對準(zhǔn)儀等,。
三、ASML EUV進(jìn)展
從2018年以來,，ASML一直在加速EUV技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn),；二是實驗以0.55 NA取代目前的0.33 NA，具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓，從而提高分辨率,，并且實現(xiàn)更小的特征尺寸,。
2020年10月，ASML公布新一代TWINSCAN NXE: 3600D的參數(shù)和規(guī)格,。NXE: 3600D套刻精度提升至1.1nm,，曝光速度30 mJ/cm2，每小時曝光160片晶圓,。而NXE: 3400C的套刻精度為1.5nm,，曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光170片晶圓,；更早的NXE: 3400B的套刻精度為2nm,、曝光速度20mJ/cm2，每小時可曝光125片晶圓,。不過NXE: 3600D最快也要到2021年第二季發(fā)貨,。
從2011年出售第一臺EUV機臺以來，截止2020年第四季出貨101臺,。且EUV機臺單價越來越高,，據(jù)悉，2020年第四季接獲得的6臺總額達(dá)86億人民幣,，單臺價格超過14億人民幣,。
預(yù)估2022年將推出0.55 NA的新機型EXE:5000樣機，可用于1納米生產(chǎn),，按照之前的情況推測,，真正量產(chǎn)機型出貨可能要等到2024年。當(dāng)然0.55 NA鏡頭的研發(fā)進(jìn)度也會影響新機型的出貨時間,。
2020年ASML全年出貨31臺EUV光刻機,，沒有達(dá)到預(yù)期的35臺，也許和2020年的新冠疫情有關(guān),。
四,、Canon NIL發(fā)展
針對 7納米米以下節(jié)點，ASML的重點是EUV,，同時也向客戶出售ArF浸沒系統(tǒng),，ArF浸沒系統(tǒng)可與多種曝光工藝配合使用，將DUV光刻技術(shù)擴(kuò)展到7納米以下,；而Nikon只推ArF浸沒系統(tǒng),。
Canon押注納米壓印（Nanoimprint Lithography,，NIL）,，該技術(shù)來源于佳能2014年收購的Molecular Imprints,。
最新的納米壓印（NIL）的參數(shù)指標(biāo)不錯,，套刻精度為2.4nm/3.2nm,，每小時可曝光超過100片晶圓。
據(jù)悉,，納米壓?。∟IL）已經(jīng)達(dá)到3D NAND的要求，日本3D NAND大廠鎧俠（Kioxia,，原東芝存儲部門）已經(jīng)開始96層3D NAND中使用此技術(shù),。在3D NAND之外 也可以滿足1Anm DRAM的生產(chǎn)需求。