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八英寸晶圓廠的“問題”

2021-05-31
來源: 半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 晶圓 8英寸

保守來講,,當(dāng)下8英寸(200mm)晶圓的供應(yīng)鏈情況相當(dāng)嚴(yán)峻!

然而,,這絕不是新問題,。中國臺灣的市場調(diào)查公司一一TrendForce于2020年11月發(fā)布新聞稱:“就8英寸晶圓的產(chǎn)能而言,,自2019年下半年以來一直持續(xù)在嚴(yán)重的供給不足問題”。

此外,,雪上加霜的是2021年3月瑞薩電子那珂工廠發(fā)生了火災(zāi),。由于瑞薩的此處工廠為諸多車型供貨,因此導(dǎo)致問題更加惡化,。

基于以上背景,導(dǎo)致諸多因素“糾纏”在一起,。但是,,不言而喻,最大的原因還是在于新冠疫情(COVID-19),。由于新冠疫情的發(fā)生,,耳機(jī)、電腦,、電視,、顯示屏、手機(jī)等各種電子產(chǎn)品的需求猛增,。

雖然汽車也屬于以上范疇,,但人們還是希望汽車市場會在2021年內(nèi)從新冠疫情的陰影中恢復(fù)。如今各種產(chǎn)品都在推廣將多種功能匯集于一體的SoC(System on Chip)模式,,因此很多產(chǎn)品都需要搭載多個具備數(shù)?;旌闲盘枺∕ixed Signal Chip)的IC。以上產(chǎn)品的用途方向主要有以下:PMIC(Power Management IC),、CMOS圖像傳感器,、指紋識別傳感器、汽車發(fā)動機(jī)/底盤控制,、顯示屏驅(qū)動IC,、Sub Giga Hertz的無線通信芯片等。一般情況下,,以上這些都適用180納米,、350納米工藝,用8英寸晶圓生產(chǎn),。

即,,用于這種數(shù)?;旌闲盘栃酒∕ixed Signal Chip)、功率半導(dǎo)體的產(chǎn)品需求不斷增長,,這導(dǎo)致了8英寸晶圓的產(chǎn)能不足,。

受到8英寸晶圓的供給達(dá)到極限的影響,代工廠(Foundry)很有可能會擴(kuò)大產(chǎn)能,。代工廠可能會收購垂直統(tǒng)籌型廠家(IDM:Integrated Device Manufacturer)的8英寸晶圓生產(chǎn)設(shè)備和產(chǎn)線,。可列舉的事例如下:最近有報道指出,,中國臺灣的UMC正在討論收購Japan Semiconductor(原東芝的半導(dǎo)體制造公司) 的8英寸產(chǎn)線,。

沒有供生產(chǎn)廠家

正如Trend Force的報道指出的一樣,自2019年下半年開始的嚴(yán)重的半導(dǎo)體供給不足問題,,可以推測的原因是幾乎沒有廠家可以生產(chǎn)出8英寸晶圓的設(shè)備,,即使現(xiàn)在也是如此,因此半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的價格不斷高漲,。

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TSMC的采用8英寸,、12英寸晶圓的工藝

此外,8英寸晶圓的價格較12英寸低得多,,因此,,代工廠普遍認(rèn)為擴(kuò)大8英寸產(chǎn)能的成本效率更差。因此,,產(chǎn)生了一系列連鎖反應(yīng),,如一部分代工廠就對客戶提高了8英寸晶圓的價格。

換句話說,,就8英寸晶圓的情況而言,,與其說“供應(yīng)鏈混亂”,不如說其特點(diǎn)是“供應(yīng)廠家不足”,。 

一部分“移步”12英寸晶圓

就12英寸(300mm)晶圓的代工廠而言,,以TSMC、GLOBALFOUNDRIES為代表的各家企業(yè)為擴(kuò)大產(chǎn)能而在火熱地投資,,然而,,卻看不到任何有關(guān)8英寸的改善情況。

由于8英寸晶圓產(chǎn)能沒有任何改善,,因此一部分廠家正在從現(xiàn)有的180nm,、350nm的8英寸產(chǎn)線轉(zhuǎn)為使用12英寸晶圓。此外,,很多代工廠可以提供用12英寸晶圓生產(chǎn)的130nm工藝,,因此可用作二次供給源或者主要供給源。因此,這有助于提高供應(yīng)鏈的地理多樣性,。 

180納米,、130納米工藝技術(shù)的特征

180納米和130納米工藝雖然有類似的工藝,但也有不同的地方,。主要是晶體管的閾值電壓的下降程度不同,,核心供給電壓為1.8V一1.5V,或者低至1.2V,。此外,,由于存在各種工藝技術(shù)的選擇項,因此可以支持5V/3.3V的IO電壓,,就對于模擬/RF設(shè)計極其重要的被動零部件而言,,這些工藝特征極其類似。

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用于Mixed Signal  ASIC等產(chǎn)品的主要節(jié)點(diǎn)技術(shù)比較圖

12英寸晶圓技術(shù)有多個優(yōu)勢,。由于可代替舊代際技術(shù)中的鋁而使用銅,,因此電流密度允許值也較高,耐電遷移性也較優(yōu)秀,。此外,,金屬層的層數(shù)也較多,晶體管尺寸較小,,因此,通過提高晶體管密度,、布線密度,,可以縮小芯片尺寸、提高性能,。

此外,,大部分180納米工藝技術(shù)和大部分的130nm BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)工藝技術(shù)都可以支持STI(Shallow Trench Isolation,淺槽隔離)等功能,,因此與大部分在350納米技術(shù)中使用的LOCOS(Local Oxidation of Silicon)絕緣相比,,因此可以獲得較高的密度、閂鎖效應(yīng)(Latch Up)保護(hù)機(jī)能等,。因此,,達(dá)到提高線路性能和穩(wěn)定性的效果。

如今,,130納米 BCD工藝已經(jīng)相當(dāng)成熟,,因此可作為各種工藝技術(shù)的選擇項。如不同級別的高壓晶體管,、非揮發(fā)性存儲半導(dǎo)體,、MIM(金屬一一絕緣膜一一金屬)電容、穩(wěn)壓二極管(Zener)/肖特基二極管等。因此,,不僅可以將復(fù)雜的模擬/RF功能與SoC解決方案融合,,還可以提供其他優(yōu)勢。

 8英寸晶圓還有很多優(yōu)勢

8英寸晶圓還有很多優(yōu)勢,,比方說,,用350納米制造的8英寸晶圓的價格優(yōu)勢。

原因如下:生產(chǎn)設(shè)備已經(jīng)完成折舊,、生產(chǎn)工藝相對簡單(層數(shù)少),。此外,一部分模擬線路未必能夠在新工藝中順利實現(xiàn)微縮化,,因此與130納米同等程度的半導(dǎo)體芯片的價格可能會高于350納米,。但是,當(dāng)因零部件不足導(dǎo)致無法生產(chǎn)產(chǎn)品時,,大部分情況下會發(fā)生極其嚴(yán)重的情況,,而不是單純的半導(dǎo)體芯片的成本差。

此外,,現(xiàn)階段人們的關(guān)注點(diǎn)是盡管各家代工廠都在從8英寸轉(zhuǎn)到12英寸,,但卻沒有一家廠家做出任何發(fā)言。對于Mixed Signal  ASIC熟練的廠家雖然在努力,,但首先應(yīng)該著手于線路圖的端口,、IC 的數(shù)據(jù)手冊(Data Sheet)。

就為重新設(shè)計ASIC所需的投資而言,,應(yīng)該統(tǒng)籌一下其他產(chǎn)品,,以免同樣受到如8英寸供應(yīng)鏈同樣問題。

130納米的特征尺寸(Feature Size)較小,,因此可以在不增加成本的情況下與“Arm Cortex-M”系列核融合,。低端CPU所需要的芯片面積僅為數(shù)平方毫米,而且有可能以較高的效率與64kbit/128kbit的SRAM融合,。

從如今的數(shù)據(jù)手冊來看,,從設(shè)計ASIC、量產(chǎn),、獲得認(rèn)證的日程需要14個月一一24個月(依復(fù)雜程度而定),,最初的Proto Type Silicon應(yīng)該可以在一年內(nèi)完成。如果是車載產(chǎn)品,,從制作規(guī)格書到PPAP(Production part approval process,,生產(chǎn)件批準(zhǔn)程序)大概需要24個月一一36個月(依復(fù)雜程度而定)。130納米ASIC的一般預(yù)算為60萬美元起步(依據(jù)實際的復(fù)雜程度和IP知識產(chǎn)權(quán)內(nèi)容而定),,如果依據(jù)AEC-Q100的話,,費(fèi)用為400萬美元左右,。如今,130納米工藝(12英寸晶圓)的Mask Tool的成本為20萬美元以下,,占整體成本的比例較低,。

很多Mixed Signal Device都是由供給不足的8英寸晶圓制造的,由于8英寸晶圓產(chǎn)線的投資不足(原因是投資收益率低下),,未來供應(yīng)鏈問題還會繼續(xù)存在,。

此次的半導(dǎo)體供給不足問題某種程度上是一個“警告”,如今使用8英寸晶圓的企業(yè)應(yīng)該首先考慮一下未來的需求,。此外,,無論是主要生產(chǎn)據(jù)點(diǎn),還是第二供應(yīng)商(Second Source),,在所有的工藝完成之前都需要確保足夠的時間,。




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